AS 1999 3148

Verordnung über die Aus-, Ein- und Durchfuhr zivil und militärisch verwendbarer Güter sowie besonderer militärischer Güter (Güterkontrollverordnung, GKV)

Verordnung über die Aus-, Ein- und Durchfuhr zivil und militärisch verwendbarer Güter sowie besonderer militärischer Güter (Güterkontrollverordnung, GKV)

Änderung vom 31. August 1999

Das Eidgenössische Volkswirtschaftsdepartement, gestützt auf Artikel 22 Absatz 2 des Güterkontrollgesetzes vom 13. Dezember 1996¹, verordnet:

I Die Anhänge der Güterkontrollverordnung vom 25. Juni 1997² erhalten die neue Fassung gemäss Beilage.

II Diese Änderung tritt am 1. Januar 2000 in Kraft.

31. August 1999 Eidgenössisches Volkswirtschaftsdepartement:

10599 Couchepin

3148 1999-5200

Güterkontrollverordnung AS 1999

Anhang 1 Begriffsbestimmungen Hinweise auf die entsprechende(n) Kategorie(n) befinden sich am linken Seitenrand.

1 Abschrecken aus der Schmelze (splat quenching):

ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze zur schnellen Er- starrung auf einen Abschreckblock aufprallt, wobei ein flockiges Erzeug- nis entsteht. Anmerkung: Schnelle Erstarrung (solidify rapidly) ist die Erstarrung geschmolzenen Materials bei Abkühlungsraten grösser als 1000 K/s.

6 Abstimmbar (tunable):

die Fähigkeit eines Lasers, eine Ausgangsstrahlung mit jeder beliebigen Wellenlänge über den Bereich von mehreren Laserübergängen zu erzeu- gen. Ein Laser, der verschiedene auswählbare Linien mit diskreten Wel- lenlängen innerhalb eines Laserübergangs erzeugt, gilt nicht als abstimm- bar.

2 Adaptive Steuerung (adaptive control):

ein Steuerungssystem, das die Gegebenheiten berücksichtigt, die sich wäh- rend des Arbeitsganges ergeben (Bezug: ISO 2806–1980). ML 8 Additive (additives) Stoffe, die bei der Zubereitung von Sprengstoffen verwendet werden, um deren Eigenschaften zu verbessern.

6 Aktives Bildelement (active pixel):

8 das kleinste Einzelelement einer Halbleiter-Matrix (Sensor), das eine

photoelektrische Übertragungsfunktion hat, wenn es Licht (elektro- magnetischer Strahlung) ausgesetzt ist.

7 Aktives Flugsteuerungssystem (active flight control system):

Funktionseinheit zur Vermeidung unerwünschter Luftfahrzeug- und Flug- körperbewegungen oder unerwünschter Strukturbelastungen durch die au- tonome Verarbeitung der von mehreren Sensoren gelieferten Signale und die Bereitstellung der erforderlichen Steuerbefehle für die automatische Steuerung.

2 Alle verfügbaren Kompensationen (all compensation available):

alle dem Hersteller zur Verfügung stehenden Massnahmen zur Minimie- rung aller systematischer Positionsfehler für die betreffende Werkzeug- maschine sind berücksichtigt. ATA Allgemein zugänglich (in the public domain): ATM bezieht sich auf Technologie oder Software, die ohne Beschränkung ihrer ASA weiteren Verbreitung erhältlich ist (Copyright-Beschränkungen heben die allgemeine Zugänglichkeit nicht auf).

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6 Anwenderzugängliche Programmierbarkeit

(user-accessible programmability): die Möglichkeit für den Anwender, Programme einzufügen, zu ändern oder auszutauschen durch andere Massnahmen als durch a. eine physikalische Veränderung der Verdrahtung oder von Verbindun- gen oder b. das Setzen von Funktionsbedienelementen einschliesslich Parameterein- gaben.

6 Äquivalente Dichte (equivalent density):

die Masse einer Optik pro Einheit der optischen Fläche, die auf die optisch wirksame Oberfläche projiziert wird.

5 Asymmetrischer Algorithmus (asymmetric algorithm):

ein kryptographischer Algorithmus, der für die Verschlüsselung und die Entschlüsselung unterschiedliche, mathematisch miteinander verknüpfte Schlüssel verwendet. Anmerkung: «Eine übliche Anwendung asymmetrischer Algorithmen ist das Schlüsselmanage- ment.»

5 Asynchronous Transfer Mode (ATM):

ein Transferverfahren, bei dem die Information in Zellen aufgegliedert ist; es arbeitet insoweit asynchron, als die Weiterleitung der Zellen von der gewünschten oder momentanen Bitrate abhängig ist (CCITT-Empfehlung L.113). 5 ATM: siehe Asynchronous Transfer Mode.

2 Auflösung (resolution):

das kleinste Inkrement einer Messeinrichtung, bei digitalen Geräten das kleinste bedeutsame Bit. (Bezug: ANSI B-89.1.12).

6 Automatische Zielverfolgung (automatic target tracking):

ein Verarbeitungsverfahren, bei dem automatisch ein extrapolierter Wert der wahrscheinlichsten Position des Ziels in Echtzeit ermittelt und ausge- geben wird.

2 Bahnsteuerung (contouring control):

zwei oder mehr numerisch gesteuerte Bewegungen, die nach Befehlen ausgeführt werden, welche die nächste benötigte Position und die zum Er- reichen dieser Position benötigten Vorschubgeschwindigkeiten vorgeben. Diese Vorschubgeschwindigkeiten werden im Verhältnis zueinander so geändert, dass eine gewünschte Bahn erzeugt wird (Bezug: ISO/DIS 2806– 1980).

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1 Band (tape):

ein Material aus geflochtenen oder in eine Richtung verlaufenden Einzel- fäden (monofilaments), Litzen, Faserbündeln (rovings), Seilen oder Gar- nen usw., die normalerweise mit Harz imprägniert sind. Anmerkung: Litze (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 Einzelfäden (monofilaments), die an- nähernd parallel verlaufen.

4 Bildverarbeitung (image enhancement):

Verarbeitung von aussen abgeleiteter informationstragender Bilddaten durch Algorithmen wie Zeitkompression, Filterung, Auszug, Auswahl, Korrelation, Konvolution oder Transformation zwischen Bereichen (z. B. Fast-Fourier-Transformation oder Walsh-Transformation). Dazu gehören keine Algorithmen, die nur lineare oder Drehtransformation eines einzel- nen Bildes verwenden wie Translation, Merkmalauszug, Bilderfassung oder Falschfarbendarstellung. ML 7 Biokatalysatoren (biocatalysts) Enzyme oder andere biologische Verbindungen, die spezifische chemische Kampfstoffe binden und deren Abbau beschleunigen. Anmerkung: Enzyme (enzymes): Biokatalysatoren für spezifische chemische oder biochemische Reaktionen. ML 7 Biopolymere (biopolymers) biologische Makromoleküle wie folgt: a. Enzyme, b. monoklonale, polyklonale oder antiidiotypische Antikörper, c. besonders entwickelte oder besonders verarbeitete Rezeptoren. Anmerkung: Enzyme (enzymes): Biokatalysatoren für spezifische chemische oder biochemische Reaktionen. Mono- klonale Antikörper (monoclonal antobodies): Proteine, die spezifisch an eine Anti- gen-Bindungsstelle binden und durch einen einzigen Klon von Zellen erzeugt wer- den. Polyklonale Antikörper (polyclonal antibodies): eine Mischung von Proteinen, die sich an ein bestimmtes Antigen binden und durch mehr als ein Klon von Zellen erzeugt werden. Antiidiotypische Antikörper (anti-idiotypic antibodies): Antikörper, die spezifisch an die Antigen-Bindungsstelle anderer Antikörper binden. Rezeptoren (receptors): biologische makromolekulare Strukturen, die Liganden bilden können, deren Bin- dung physiologische Funktionen beeinflussen. 4 CE: siehe Rechenelement.

7 CEP-Wert (Kreisfehlerwahrscheinlichkeit) (CEP-Circular Error Probability):

ein Mass für die Genauigkeit; der Wert wird als der Radius des bei einer spezifischen Entfernung auf das Ziel zentrierten Kreises definiert, inner- halb dessen die Nutzlasten in 50 Prozent der Fälle auftreffen.

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6 Chemischer Laser (chemical laser):

ein Laser, bei dem die angeregten Elemente durch die Ausgangsenergie ei- ner chemischen Reaktion erzeugt werden. 3 CTP:

4 siehe zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate (composite theo-

retical performance).

5 Datenübertragungsrate (data signalling rate):

die Bitrate entsprechend ITU-Empfehlung 53–36, wobei zu berücksichti- gen ist, dass für nichtbinäre Modulation «Baud» und «Bit pro Sekunde» nicht gleich sind. Bits für die Kodierung, Prüfung und Synchronisierung sind einzubeziehen. Anmerkungen:

1. Bei der Bestimmung der Datenübertragungsrate sind Kanäle für Service und

Überwachung auszunehmen.

2. Es ist die höchste Übertragungsrate in einer Richtung, d. h. die höchste Rate

entweder in Sende- oder Empfangsrichtung, anzunehmen. 1, 2, Diffusionsschweissen (diffusion bonding):

9 Molekulares Zusammenfügen von mindestens zwei verschiedenen Metal-

len im festen Zustand zu einem Stück mit einer Festigkeit der Schweiss- verbindung, die der des schwächsten Werkstoffs entspricht.

5 Digitale Übertragungsrate (digital transfer rate):

die gesamte Informationsbitrate, die direkt über ein beliebiges Medium übertragen wird (siehe auch gesamte digitale Übertragungsrate).

4 Digitalrechner (digital computer):

5 Geräte, die alle folgenden Operationen in Form einer oder mehrerer dis-

kreter Variablen ausführen können: a. Daten aufnehmen, b. Daten oder Befehle in einem festen oder veränderbaren (beschreibbaren) Speicher speichern, c. Daten durch eine gespeicherte und veränderbare Befehlsfolge verarbei- ten und d. Daten ausgeben. Anmerkung: Veränderungen einer gespeicherten Befehlsfolge schliessen den Austausch von fest- programmierten Speichervorrichtungen mit ein, nicht aber physische Veränderun- gen der Verdrahtung oder von Verbindungen.

7 Drehmomentausgleichs- oder Richtungssteuerungssysteme mit regelbarer

Zirkulation (circulation-controlled anti-torque or circulation controlled di- rection control systems): Systeme, bei denen Luft über aerodynamische Oberflächen geblasen wird, um die von den Oberflächen erzeugten Luftkräfte zu erhöhen oder zu steuern.

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4 Dreidimensionale (3-D) Vektorrate (three dimensional vector rate):

Anzahl von Vektoren, die je Sekunde erzeugt werden, aus Polygonzügen mit 10 Bildelementen (Pixeln), die auf Überschreiten des Darstellungsbe- reichs getestet (clip tested) und zufällig orientiert (randomly oriented) sind, mit einer X-Y-Z-Koordinatendarstellung im Festkomma- oder Gleitkom- maformat (es ist die Darstellung zu nehmen, welche die höchste 3-D Vek- torrate ergibt).

7 Driftrate (Kreisel) (drift rate [gyro]):

Abweichung des Kreiselausgangssignals vom Sollwert als Funktion der Zeit. Die Abweichung besteht aus statistisch verteilten und systematischen Komponenten und wird als äquivalente Winkelverschiebung pro Zeitein- heit in Bezug auf den Inertialraum ausgedrückt.

2 Druckmessgeräte (pressure transducers):

Geräte, die Druckmessungen in elektrische Signale umwandeln.

5 Dynamisch adaptive Leitweglenkung (dynamic adaptive routing):

automatische Verkehrsumleitung, basierend auf Erkennung und Auswer- tung des momentanen aktuellen Netzzustandes. Anmerkung: Hierzu gehören keine Verkehrsleitungsentscheidungen, die auf vorher festgelegter Information beruhen.

3 Dynamische Signalanalysatoren (dynamic signal analysers):

Signalanalysatoren, die digitale Abtast- und Umsetzungsverfahren ver- wenden, um eine Fourier-Spektren-Darstellung der vorhandenen Wellen- form einschliesslich Amplituden- und Phaseninformation zu liefern. Anmerkung: siehe auch Signalanalysatoren.

3 Echtzeit-Bandbreite (real-time bandwidth):

bei dynamischen Signalanalysatoren die grösste Frequenzbandbreite, die der Analysator zur Anzeige oder Massenspeicherung ausgeben kann, ohne bei der Analyse der Eingabedaten eine Unstetigkeit zu verursachen. Bei Analysatoren mit mehr als einem Kanal wird für die Berechnung die Ka- nalanordnung verwendet, welche die grösste Echtzeitbandbreite ergibt. 2, 4, Echtzeitverarbeitung (real-time processing): 6, 7 Verarbeitung von Daten durch ein Rechnersystem, das in Abhängigkeit der verfügbaren Mittel eine bestimmte Leistung innerhalb einer garantierten Antwortzeit als Reaktion auf ein äusseres Ereignis erbringt, unabhängig von der aktuellen Systemauslastung.

1 Effektives Gramm (effective gramme):

von besonderem spaltbaren Material ist: a. für Plutonium und Uran-233 die Isotopen-Masse in Gramm; b. für angereichertes Uran mit weniger als 1 Prozent U-235 die Uran-

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Masse in Gramm multipliziert mit dem Quadrat seiner Anreicherung (in dezimaler Schreibweise); c. für angereichertes Uran mit weniger als 1 Prozent U-235 die Uran- Masse in Gramm multipliziert mit 0,0001;

3 Einstellzeit (settling time):

die Zeit, welche der Ausgang beim Umschalten zwischen zwei beliebigen Werten benötigt, um bis auf ein halbes Bit den Endwert zu erreichen.

1 Einzelfaden (monofilament):

die kleinste Unterteilung einer Faser, normalerweise mit einem Durchmes- ser von einigen µm. 3, 4, Elektronische Baugruppe (electronic assembly):

5 eine Anzahl elektronischer Bauelemente (d. h. Schaltungselemente, dis-

krete Bauelemente, integrierte Schaltungen u. ä.), die miteinander verbun- den sind, um eine bestimmte Funktion oder mehrere bestimmte Funktionen zu erfüllen. Die elektronische Baugruppe ist als Ganzes austauschbar und normalerweise demontierbar. Anmerkungen:

1. Schaltungselement (circuit element):

eine einzelne aktive oder passive Funktionseinheit einer elektronischen Schal- tung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.

2. Diskretes Bauelement (discrete component):

ein in einem eigenen Gehäuse befindliches Schaltungselement mit eigenen äusse- ren Anschlüssen.

5 Elektronisch phasengesteuerte Antennengruppen

6 (electronically steerable phased array antenna):

eine Antenne, deren Strahl durch Phasenkopplung gebildet wird, d. h. die Strahlungsrichtung wird durch die komplexen Erregungskoeffizienten der Strahlerelemente gesteuert. Die Strahlungsrichtung beim Senden und beim Empfang kann durch ein elektrisches Signal im Azimut und/oder Höhen- winkel verändert werden.

2 End-Effektoren (end-effectors):

ML 17 umfassen Greifer, aktive Werkzeugeinheiten und alle anderen Werkzeuge, die am Anschlussflansch am Ende des Roboter-Greifarms bzw. der -Greif- arme angebaut sind. Anmerkung: Aktive Werkzeugeinheit (active tooling unit): eine Einrichtung, die dem Werkzeug Bewegungskraft, Prozessenergie oder Sensor- signale zuführt.

6 Erfassungsbereich (instrumented range):

der spezifizierte Sichtanzeigebereich eines Radargeräts, in dem Ziele ein- deutig dargestellt werden.

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4 Expertensysteme (expert systems):

7 Systeme, die Ergebnisse durch Anwendungen von Regeln auf Daten er-

zielen, die unabhängig von einem Programm gespeichert sind, mit einer der folgenden Fähigkeiten: a. automatische Modifikation des vom Benutzer eingegebenen Quellcodes, b. Bereitstellung von Kenntnissen zu Problemklassen in quasi-natürlicher Sprache; oder c. Erwerb des zur systemeigenen Weiterentwicklung nötigen Wissens (symbolisches Training). ML 7 Expressions-Vektoren (expression vectors) Träger (z. B. Plasmide oder Viren), die zum Einbringen genetischen Mate- rials in Gastzellen eingesetzt werden. 7 FADEC:

9 siehe Volldigitale Triebwerksregelung (full authority digital engine con-

trol).

1 Faserbündel (roving):

ein Bündel von typischerweise 12–120 annähernd parallel verlaufenden Litzen. Anmerkung: Litze (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 Einzelfäden (monofilaments), die an- nähernd parallel verlaufen.

1 Faser- oder fadenförmige Materialien (fibrous or filamentary materials):

8 umfassen:

a. endlose Einzelfäden (monofilaments), b. endlose Garne und Faserbündel (rovings), c. Bänder, Webwaren, regellos geschichtete Matten und Flechtwaren, d. geschnittene Fasern, Stapelfasern und zusammenhängende Oberflä- chenvliese, e. frei gewachsene Mikrokristalle (Whiskers), monokristallin oder poly- kristallin, in jeder Länge, f. Pulpe aus aromatischen Polyamiden.

4 Fehlertoleranz (fault tolerance):

die Fähigkeit eines Rechnersystems, nach beliebiger Fehlfunktion einer beliebigen Hardware- oder Softwarekomponente ohne menschlichen Ein- griff mit einer bestimmten Leistung weiterzuarbeiten, die eine Aufrechter- haltung des Betriebs, die Datenintegrität und die Wiederherstellung der vollen Funktionsfähigkeit innerhalb einer bestimmten Zeit garantiert.

5 Fest (fixed):

die Codier- oder Kompressions-Algorithmen sind nicht durch externe Pa- rameter (z. B.: kryptografische oder Schlüssel-Variable) beeinflussbar und können nicht durch den Anwender geändert werden.

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1, 3, Flugkörper (missiles): 5, 6, vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsysteme, die 7, 9 eine Nutzlast von mindestens 500 kg über eine Reichweite von mindestens

300 km verbringen können.

Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf Flugkörper, die in Positionen mit den Kennungen

101 bis 199 (Anhang 2) genannt sind.

7 Flugwegoptimierung (Flight path optimization):

ein Verfahren, mittels dessen Abweichungen von einem vierdimensionalen (Raum und Zeit) gewünschten Flugweg auf der Grundlage einer Maximie- rung der Leistung oder Effektivität für Einsätze minimiert werden.

6 Focal plane array:

Eine lineare oder zweidimensionale planare Schicht aus einzelnen Detektor- elementen bzw. die Kombination aus mehreren solchen Schichten, die in der fokalen Ebene arbeitet. Die Detektorelemente können sowohl mit als auch ohne Ausleseelektronik sein. Anmerkung: Diese Definition beschreibt keine schichtweise Anordnung (Stack) von einzelnen Detektorelementen oder beliebige Detektoren mit zwei, drei oder vier Elementen, vorausgesetzt, sie arbeiten nicht nach dem «Time-delay-and-integration»-Prinzip.

6 Frequenzsprung (Radar) (radar frequency agility):

jedes Verfahren, bei dem die Trägerfrequenz eines Impulsradarsenders in pseudozufälliger Folge zwischen einzelnen Radarimpulsen oder Gruppen von Radarimpulsen um einen Betrag verändert wird, der gleich oder grösser als die Bandbreite des Radarimpulses ist.

5 Frequenzsprungverfahren (frequency agility or frequency hopping):

ein Verfahren des gespreizten Spektrums. Dabei wird die Übertragungsfre- quenz eines einzelnen Nachrichtenkanals durch die Steuerung in diskreten Stufen geändert.

3 Frequenz-Synthesizer (frequency synthesizer):

ungeachtet der im Einzelfall benutzten Technik jede Art von Frequenz- quelle oder Messender, die an einem oder mehreren Ausgängen eine Viel- falt gleichzeitig oder abwechselnd vorhandener Ausgangsfrequenzen lie- fert, die durch eine kleinere Anzahl von Normal- oder Steuerfrequenzen geregelt, von ihr abgeleitet oder von ihr gesteuert sind.

3 Frequenzumschaltzeit (frequency switching time):

5 die maximal benötigte Zeit (d. h. Verzögerung) eines Signals bei der Um-

schaltung von einer gewählten Ausgangsfrequenz zu einer anderen ge- wählten Ausgangsfrequenz zur Erreichung einer der folgenden Eigen- schaften: a. einer Frequenz innerhalb von 100 Hz der Endfrequenz oder b. eines Ausgangspegels innerhalb von 1 dB des Endausgangspegels.

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1 Für den Kriegsgebrauch (adapted for use in war):

ML 7 jede Änderung oder zielgerichtete Auslese (z. B. Änderung der Reinheit, Lagerbeständigkeit, Virulenz, Verbreitungsmerkmale oder Widerstandsfä- higkeit gegen UV-Strahlung), die für die Steigerung der Wirksamkeit bei der Aussergefechtsetzung von Menschen oder Tieren, der Schädigung von Ausrüstung oder Vernichtung von Ernten oder der Umwelt ausgeführt wird.

1 Garn (yarn):

ein Bündel von verdrillten Litzen. Anmerkung: Litze (strand): ein Bündel von typischerweise mehr als 200 Einzelfäden (monofilaments), die an- nähernd parallel verlaufen.

1 Gaszerstäubung (gas atomisation):

ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metalllegierungsschmelze durch einen Hochdruck-Gasstrom zu Tröpfchen mit einem Durchmesser klei- ner/gleich 500 µm zerstäubt wird.

2 Genauigkeit (accuracy):

6 die maximale positive oder negative Abweichung eines angezeigten Wertes

von einem anerkannten Richtmass oder dem wahren Wert. Sie wird ge- wöhnlich als Ungenauigkeit (Positionsunsicherheit, Messunsicherheit) ge- messen.

6 Geographisch verteilt (geographically dispersed):

Sensoren gelten als geographisch verteilt, wenn der Abstand zwischen je- dem Sensor mehr als 1500 m in jeder Richtung beträgt. Mobile Sensoren gelten grundsätzlich als geographisch verteilt.

5 Gesamte digitale Übertragungsrate (total digital transfer rate):

die Anzahl Bits einschliesslich der für Leitungscodierung, Overhead usw. pro Zeiteinheit, die zwischen korrespondierenden Geräten in einem digita- len Übertragungssystem übertragen wird (siehe auch digitale Übertra- gungsrate).

3 Gesamtstromdichte (overall current density):

die Gesamtzahl der Amperewindungen in der Spule (das ist die Summe der Windungen multipliziert mit dem maximalen Strom, der in jeder Windung fliesst), geteilt durch die gesamte Querschnittfläche der Spule (einschliesslich der supraleitenden Drähte, der metallischen Matrizen, in denen die supraleitenden Drähte eingebettet sind, des Ummantelungsmate- rials, aller Kühlkanäle u. ä.).

5 Gespreiztes-Spektrum-Verfahren (spread spectrum):

die Technik, bei der die Energie in einem relativ engen Nachrichtenkanal über ein wesentlich breiteres Spektrum verteilt wird.

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6 Gespreiztes Spektrum (Radar) (radar spread spectrum):

jedes Modulationsverfahren, um die Bandbreite des relativ schmalbandi- gen Spektrums eines Signals durch Zufalls- oder Pseudozufallscodierung zu verbreitern.

6 Gütegeschalteter Laser (Q-switched laser):

ein Laser, bei dem die Energie in der Besetzungsinversion oder im opti- schen Resonator gespeichert und nachfolgend in einem Puls emittiert wird.

4 Hauptbestandteil (principal element):

ein Bestandteil, dessen Austauschwert mehr als 35% des Gesamtwertes für das vollständige System beträgt. Bestandteilwert ist der vom Systemher- steller oder -integrator für den Bestandteil gezahlte Preis. Gesamtwert ist der übliche internationale Verkaufspreis an unverbundene Käufer im Zeit- punkt der Fertigstellung oder Lieferung.

4 Hauptspeicher (main storage):

Primärspeicher für Daten oder Befehle zum schnellen Zugriff durch eine Zentraleinheit. Er besteht aus dem internen Speicher eines Digitalrechners und jeder Art von hierarchischer Erweiterung wie Pufferspeicher (cache) oder zusätzliche Speicher mit nicht-sequentiellem Direktzugriff.

7 Hauptsteuerung (primary flight control):

Steuerorgane zum Stabilisieren oder Manövrieren eines Luftfahrzeugs un- ter Verwendung von Kraft/Momenterzeugern, d. h. aerodynamischer Steu- erflächen oder Schubvektorsteuerung.

2 Heissisostatisches Verdichten (hot isostatic densification):

ein Verfahren, bei dem ein Gussstück bei Temperaturen grösser als +102 °C (375 K) in einer geschlossenen Kammer über ein Medium (Gas, Flüssigkeit, Feststoffteilchen, usw.) gleichmässig in allen Richtungen so mit Druck beaufschlagt wird, dass Hohlräume im Innern des Gussstücks verkleinert oder beseitigt werden.

9 Herstellungsanlagen (production facilities):

Ausrüstung und besonders entwickelte Software hierfür, eingebaut in An- lagen für die Entwicklung oder für eine oder mehrere Phasen der Herstel- lung. Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf Herstellungsanlagen, die in Positionen mit den Kennungen 101 bis 199 (Anhang 2) genannt sind.

9 Herstellungsausrüstung (production equipment):

Werkzeuge, Schablonen, werkzeugführende Vorrichtungen, Dorne, Guss- formen, Gesenke, Spann- und Ausrichtungsvorrichtungen, Prüfeinrichtun- gen sowie andere Einrichtungen und Bestandteile hierfür, besonders kon- struiert oder geändert für die Entwicklung oder für eine oder mehrere Pha- sen der Herstellung.

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Anmerkung: Diese Definition bezieht sich auf Herstellungsausrüstung, die in Positionen mit den Kennungen 101 bis 199 (Anhang 2) genannt ist.

4 Hybridrechner (hybrid computer):

Geräte, die alle folgenden Operationen ausführen können: a. Daten aufnehmen, b. Daten sowohl in analoger als auch in digitaler Darstellung verarbeiten und c. Daten ausgeben.

2 Hydrostatisches Umformen mit direkter Druckbeaufschlagung (direct

acting hydraulic pressing): ein Umformverfahren, bei dem ein flüssigkeitsgefülltes, elastisches Kissen in unmittelbarem Kontakt mit dem Werkstück steht.

1 Immunotoxin (immunotoxin):

ein Konjugat eines zellspezifischen monoklonalen Antikörpers und eines Toxins oder einer Toxinuntereinheit, das selektiv erkrankte Zellen befällt.

1 Impfstoff (vaccine):

ein Arzneimittel, das dazu bestimmt ist, eine schützende Immunreaktion bei Menschen oder Tieren zur Verhütung einer Krankheit hervorzurufen.

6 Impulskompression (pulse compression):

die Codierung und Verarbeitung eines Radarimpulses grosser Impulsbreite mit dem Resultat eines Impulses geringerer Breite und höherer Auflösung unter Beibehaltung der Vorteile hoher Impulsenergie.

4 Informationssicherheit (information security):

5 sämtliche Mittel und Funktionen, welche die Zugriffsmöglichkeit, die

Vertraulichkeit oder Unversehrtheit von Information oder Kommunikation sichern, ausgenommen die Mittel und Funktionen zur Absicherung gegen Funktionsstörungen. Eingeschlossen sind: Kryptotechnik, Kryptoanalyse, Schutz gegen kompromittierende Abstrahlung und Rechnersicherheit. Anmerkung: Kryptoanalyse (cryptoanalysis): die Analyse eines Kryptosystems oder seiner Eingänge und Ausgänge, um vertrauli- che variable oder sensitive Daten einschliesslich Klartext abzuleiten (ISO 7498-2-

1988 (E), Paragraph 3.3.18).

9 Innenbeschichtung (interior lining):

geeignet für die Nahtstelle zwischen dem Festtreibstoff und dem Gehäuse oder der Isolierschicht; normalerweise eine flüssige Dispersion auf Poly- merbasis aus feuerfestem oder isolierendem Material, z. B. kohlenstoffge- fülltes Hydroxyl Terminated Polybutadiene (HTPB) oder ein anderes Po- lymer mit Aushärtungszusatz, mit dem das Gehäuseinnere durch Besprü- hen oder Aufziehen beschichtet wird.

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3 Integrierte Hybrid-Schaltung (hybrid integrated circuit):

jede Kombination aus integrierten Schaltungen oder integrierter Schaltung mit Schaltungselementen oder diskreten Bauelementen, die miteinander verbunden sind, um eine bestimmte Funktion oder mehrere bestimmte Funktionen zu erfüllen, mit allen folgenden Eigenschaften:

1. mit mindestens einem Bauelement ohne eigenes Gehäuse,

2. miteinander verbunden unter Verwendung typischer IC-Herstellungs-

verfahren,

3. als Ganzes austauschbar und

4. üblicherweise nicht zerlegbar.

Anmerkungen: 1. Schaltungselement (circuit element): eine unteilbare aktive oder passive Funk- tionseinheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.

2. Diskretes Bauelement (discrete component): ein in einem eigenen Gehäuse be-

findliches Schaltungselement mit eigenen äusseren Anschlüssen.

3 Integrierte Multichip-Schaltung (multichip integrated circuit):

zwei oder mehrere monolithisch integrierte Schaltungen, die auf ein ge- meinsames Substrat aufgebracht sind.

3 Integrierte optische Schaltung (optical integrated circuit):

eine monolithisch integrierte Schaltung oder eine integrierte Hybrid- Schaltung mit einem oder mehreren integrierten Elementen, die als Foto- sensor oder Fotosender oder zur Durchführung einer optischen oder elek- trooptischen Funktion oder mehrerer optischer oder elektrooptischer Funktionen konstruiert sind.

3 Integrierte Schichtschaltung (film type integrated circuit):

eine Anordnung von Schaltungselementen und metallischen Leitverbin- dungen, die durch Abscheiden einer dicken oder dünnen Schicht auf einem isolierenden Substrat gebildet wird. Anmerkung: Schaltungselement (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktionseinheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.

6 Intrinsische Magnetfeldgradientenmesser (intrinsic magnetic gradiometers):

Geräte zur Messung der räumlichen Veränderung der Magnetfelder von Quellen ausserhalb des Geräts. Ein Magnetfeldgradientenmesser besteht aus mehreren Magnetometern sowie zugehörigen Elektronikschaltungen, deren Ausgangssignal ein Mass für den Magnetfeldgradienten ist (siehe auch Magnetfeldgradientenmesser).

1 Isolierte lebende Kulturen (isolated live cultures):

schliessen lebende Kulturen in gefrorener Form und als Trockenpräparat ein.

9 Isolierung (insulation):

für die Bestandteile eines Raketenmotors (d. h. Gehäuse, Düseneinlass, Gehäusedeckel); schliesst gehärtetes oder halbgehärtetes Gummiverbund-

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material ein, das isolierendes oder feuerfestes Material enthält, und kann auch zur Spannungsentlastung eingebracht sein.

2 Isostatische Pressen (isostatic presses):

haben eine geschlossene Druckkammer, in der über verschiedene Medien (Gas, Flüssigkeit, Feststoffteilchen) ein in allen Richtungen gleicher, auf Werkstück oder Werkstoff wirkender Druck erzeugt wird.

1 Kohlenstofffaser-Preform (carbon fibre preform):

eine geregelte Anordnung unbeschichteter oder beschichteter Fasern für die Errichtung der Rahmenkonstruktion von einem Teil, bevor die Matrix zur Bildung eines Verbundwerkstoffs eingefügt wird.

2 Kombinierter Schwenkrundtisch (compound rotary table):

ein Tisch, mit dem ein Werkstück in zwei nicht parallelen Achsen gedreht und geschwenkt werden kann, wobei die Achsen simultan durch eine Bahnsteuerung koordiniert werden können.

5 Kommunikationskanalsteuerung (communications channel controller):

physikalische Schnittstelle zur Steuerung des Ablaufs von synchronen oder asynchronen digitalen Datenströmen. Es handelt sich um eine Baugruppe, die in Rechner oder in Telekommunikationseinrichtungen integriert wer- den kann, um Kommunikation zu ermöglichen. 1, 3, Kritische Temperatur (auch als Sprungtemperatur bezeichnet) (critical

6 temperature or transition temperature):

die Temperatur, bei der ein speziell supraleitendes Material den Wider- stand gegen den Gleichstromfluss vollständig verliert.

5 Kryptotechnik (cryptography):

die Technik der Prinzipien, Mittel und Methoden zur Transformation von Daten, um ihren Informationsinhalt unkenntlich zu machen, ihre unbe- merkte Änderung oder ihren unerlaubten Gebrauch zu verhindern. Kryp- totechnik beschränkt sich auf die Transformation von Informationen unter Benutzung eines oder mehrerer geheimer Parameter (z. B. Schlüssel- Variable) oder des zugehörigen Schlüsselmanagements. Anmerkung: Geheimer Parameter (secret parameter): eine Konstante oder ein Schlüssel, der vor anderen geheim gehalten wird oder nur innerhalb einer Gruppe bekannt ist. 2, 3, 5 Laser (laser): 6, 7, 8, eine Anordnung von Bauteilen zum Erzeugen von räumlich und zeitlich 9, ML 5, kohärentem Licht, das durch stimulierte Emission von Strahlung verstärkt ML 19 wird. Anmerkung: siehe auch: Chemische Laser, Gütegeschaltete Laser, Super-High Power Laser, Transfer-Laser.

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7 Leistungsmanagement (power management):

verändert die auf das Höhenmessersignal übertragene Leistung so, dass die erhaltene Leistung in der Luftfahrzeug-Höhe stets die geringstnötige zur Bestimmung der Höhe ist.

2 Linearität (linearity):

die maximale Abweichung der Ist-Kennlinie (Mittelwert der oberen und unteren Messwerte), in positiver oder negativer Richtung, von einer Gera- den, die so gelegt ist, dass die grössten Abweichungen ausgeglichen und so klein wie möglich gehalten werden.

4 Local Area Network:

Datenkommunikationssystem mit allen folgenden Eigenschaften: a. es erlaubt die direkte Kommunikation einer beliebigen Anzahl unabhän- giger Datengeräte miteinander und b. beschränkt auf einen engen geographischen Bereich (z. B. Bürohaus, Fabrik, Universitätsgelände, Warenhaus). Anmerkung: Datengerät (data device): Geräte, die digitale Datenfolgen senden oder empfangen können. 1, 7, 9, Luftfahrzeug (aircraft): ML 8 Ein Fluggerät mit feststehenden, schwenkbaren oder rotierenden (Hub- ML 9 schrauber) Tragflächen, mit Kipprotoren oder Kippflügeln (siehe auch ML 10 zivile Luftfahrzeuge).

6 Magnetfeldgradientenmesser (magnetic gradiometers):

Geräte zur Messung des Gradienten eines Magnetfelds, die einen einzelnen Magnetfeldgradienten-Messwertaufnehmer sowie zugehörige Elektronik- schaltungen enthalten und ein zum gemessenen Magnetfeldgradienten pro- portionales Ausgangssignal liefern (siehe auch intrinsische Magnetfeld- gradientenmesser).

6 Magnetometer (magnetometers):

Geräte zur Messung der Magnetfelder von Quellen ausserhalb des Geräts. Ein Magnetometer besteht aus einem einzelnen Magnetfeld-Messwert- aufnehmer sowie zugehörigen Elektronikschaltungen und liefert ein zum gemessenen Magnetfeld proportionales Ausgangssignal. 1, 2 Matrix (matrix): 8, 9 eine im Wesentlichen einheitliche Phase, die den Raum zwischen Parti- keln, Whiskern oder Fasern füllt.

1 Mechanisches Legieren (mechanical alloying):

ein Legierungsverfahren, das sich aus der Bindung, Zerbrechung und Wie- derbindung elementarer und Vorlegierungspulver durch mechanischen Aufprall ergibt. Nichtmetallische Teilchen können durch Zugabe des ge- eigneten Pulvers in die Legierung eingebracht werden.

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4 Mehrfachdatenstromverarbeitung (multi-data-stream processing):

Mikroprogramm- oder Rechnerarchitektur-Technik zur simultanen Verar- beitung von mindestens zwei Datenfolgen unter der Steuerung mindestens einer Befehlsfolge wie: a. SIMD (single instruction multiple data) für z. B. Vektor- oder Array- Rechner, b. MSIMD (multiple single instruction multiple data), c. MIMD (multiple instruction multiple data) einschliesslich straff (tightly), eng (closely) oder lose (loosely) gekoppelter Architekturen oder d. strukturierte Anordnungen (Datenfelder) von Recheneinheiten ein- schliesslich systolischer Array-Rechner. Anmerkung: Mikroprogramm (microprogramme): eine in einem speziellen Speicherbereich dauerhaft gespeicherte Folge von elemen- taren Befehlen, deren Ausführung durch das Einbringen des Referenzbefehls in ein Befehlsregister eingeleitet wird.

5 Mehrstufige Sicherheit (multilevel security):

ein System, das Informationen mit unterschiedlichen Vertraulichkeitsstu- fen enthält und simultanen Zugriff von Anwendern unterschiedlicher Si- cherheitsermächtigungen (Benutzergruppen) erlaubt, aber verhindert, dass Anwender Zugang zu Informationen erhalten, für die sie nicht autorisiert sind. Anmerkung: Mehrstufige Sicherheit betrifft Rechnersicherheit, nicht aber Rechnerzuverlässig- keit, die sich auf die Verhinderung von Fehlern oder generelles menschliches Ver- sagen bezieht.

2 Messunsicherheit (measurement uncertainty):

die Kenngrösse, die angibt, in welchem Bereich um den angegebenen Wert der richtige Wert der Messgrösse mit einer statistischen Sicherheit von 95% (Bezug: VDI/VDE 2617) (Bezug: ISO 10360-2) liegt. Sie umfasst die nicht korrigierten systematischen Abweichungen, die nicht korrigierte Um- kehrspanne und die zufälligen Abweichungen.

3 Mikrocomputer (microcomputer microcircuit):

eine monolithisch integrierte Schaltung oder integrierte Multichip- Schaltung mit einer arithmetischen Logikeinheit (ALU), die geeignet ist, allgemeine Befehle aus einem internen Speicher zur Abarbeitung von Da- ten, die in dem internen Speicher enthalten sind, auszuführen. Anmerkung: Der interne Speicher kann durch einen externen Speicher erweitert werden.

1 Mikroorganismen (microorganisms):

2 Bakterien, Viren, Mycoplasma, Rickettsiae, Chlamydiae oder Pilze in na-

türlicher, adaptierter oder modifizierter Form entweder in Form isolierter lebender Kulturen oder als Material, das gezielt mit solchen Kulturen ge- impft oder kontaminiert wurde.

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3 Mikroprozessor (microprocessor microcircuit):

eine monolithisch integrierte Schaltung oder integrierte Multichip- Schaltung mit einer arithmetischen Logikeinheit (ALU), die geeignet ist, eine Reihe allgemeiner Befehle von einem externen Speicher auszuführen. Anmerkungen:

1. Der Mikroprozessor enthält üblicherweise keinen anwenderzugänglichen Spei-

cher als integralen Bestandteil, es kann jedoch auf dem Chip vorhandener Spei- cherplatz zur Erfüllung seiner Logikfunktionen genutzt werden. 2. Diese Definition schliesst auch Chipsets ein, die entwickelt wurden, um zusam- mengeschaltet wie ein Mikroprozessor zu arbeiten. ML 4 Militärische Pyrotechnika (military pyrotechnics) ML 8 Mischungen aus festen oder flüssigen Treibstoffen mit Sauerstoffträgern, die nach dem Anzünden eine energetische chemische Reaktion durchlau- fen, um spezifische Zeitverzögerungen oder Wärmemengen, Lärm Rauch, Nebel, Licht oder Infrarotstrahlung zu erzeugen. Zu den militärischen Py- rotechnika zählt auch die Untergruppe der Pyrophoren, die keine Sauer- stoffträger enthalten, sich an der Luft aber spontan entzünden. ML 8 Militärische Sprengstoffe (military explosives) feste, flüssige oder gasförmige Stoffe oder Stoffgemische, die erforderlich sind, um bei ihrer Verwendung als Primärladungen, Verstärker- oder Hauptladungen in Gefechtsköpfen, Geschossen und anderen militärischen Einsatzarten Detonationen herbeizuführen.

6 Miteinander verbundene Radarsensoren (interconnected radar sensors):

zwei oder mehrere Radarsensoren, die miteinander Daten in Echtzeit aus- tauschen können.

3 Momentan-Bandbreite (instantaneous bandwidth):

5 die Bandbreite, bei der die Ausgangsleistung innerhalb einer Toleranz von

7 3 dB konstant bleibt, ohne dass andere Funktionsparameter angepasst wer-

den müssen.

6 Monolithische Substrate (substrate blanks):

monolithische Verbindungen mit Abmessungen, die geeignet sind zur Her- stellung optischer Bauteile wie Spiegel oder Linsen.

3 Monolithisch integrierte Schaltung (monolithic integrated circuit):

eine Kombination aus passiven oder aktiven Schaltungselementen oder aus beiden, die a. durch Diffusions-, Implantations- oder Abscheidungsverfahren in oder auf einem einzelnen Halbleiter-Substrat, einem sogenannten Chip, gebildet sind, b. unteilbar miteinander verbunden sind und c. eine oder mehrere Funktionen einer Schaltung ausführen. Anmerkung: Schaltungselement (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktions- einheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Wider- stand, ein Kondensator.

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6 Monospektrale Bildsensoren (monospectral imaging sensors)

können Bilddaten von einem diskreten Spektralband erfassen.

6 Multispektrale Bildsensoren (multispectral imaging sensors):

können Bilddaten von zwei oder mehreren diskreten Spektralbändern gleichzeitig oder seriell erfassen. Sensoren mit mehr als zwanzig diskreten Spektralbändern werden auch als hyperspektrale Bildsensoren bezeichnet.

4 Netzzugangssteuerung (network access controller):

physikalische Schnittstelle zu einem dezentralen Netzwerk. Hierbei wird ein gemeinsames Übertragungsmedium eingesetzt, das überall mit dersel- ben digitalen Übertragungsrate arbeitet und beliebige Übermittlung durch das Netz bietet (z. B. «Token» oder «Carrier sense»). Es werden voneinan- der unabhängige Datenpakete oder Datengruppen, die entsprechend adres- siert sind, angenommen (z. B. IEEE 802). Die Netzzugangssteuerung ist eine Baugruppe, die in Rechnern oder Telekommunikationseinrichtungen integriert sein kann, um diesen Telekommunikationszugang zu verschaf- fen.

4 Neuronaler Rechner (neural computer):

Rechengerät, konstruiert oder geändert zur Nachahmung des Verhaltens eines oder mehrerer Neuronen, d. h. ein Rechengerät, das durch seine Hardwareeigenschaften geeignet ist, die Gewichtungen und Anzahl von Verbindungen einer Vielzahl von Recheneinheiten in Abhängigkeit von verarbeiteten Daten zu regulieren. ML 17 Nuklearer Reaktor (nuclear reactor) umfasst grundsätzlich die im Innern des Reaktorbehälters befindlichen oder unmittelbar damit verbundenen Teile, die Ausrüstung, die das Ener- gieniveau im Reaktorkern steuert, und die Bestandteile, die in der Regel das Primärkühlmittel des Reaktorkerns enthalten, damit unmittelbar in Be- rührung kommen oder es steuern.

7 Nullpunkt (Beschleunigungsmesser) (bias [accelerometer]):

das von einem Beschleunigungsmesser ohne vorhandene Beschleunigung ausgegebene Signal.

2 Numerische Steuerung (numerical control):

die automatische Steuerung eines Prozesses durch ein Gerät, das numeri- sche Daten benutzt, die normalerweise während des Arbeitsgangs eingege- ben werden (Bezug: ISO 2382). 4, 5, Objektcode (object code):

9 die maschinenlauffähige Form einer geeigneten Beschreibung einer oder

mehrerer Prozesse (Quellcode/Quell-Programmiersprache), die durch ein Programmiersystem umgewandelt wurden.

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7 Optische Sensor-Arrays für Flugsteuerungszwecke (Flight control optical

sensor array): miteinander verbundene optische Sensoren auf Laserbasis, die Echtzeit- Flugdaten für die bordseitige Verarbeitung liefern.

5 Optische Vermittlung (optical switching):

das Vermitteln oder Durchschalten optischer Signale ohne Umwandlung in elektrische Signale.

5 Optische Verstärkung (optical amplification):

eine Verstärkertechnik für die optische Kommunikation, die eine Verstärkung optischer Signale, die durch eine separate optische Quelle generiert werden, ohne Umwandlung in elektrische Signale erlaubt, z. B. durch Verwendung von optischen Halbleiterverstärkern, LWL-Luminiszenzverstärkern.

4 Optischer Rechner (optical computer):

Rechner, konstruiert oder geändert zur Darstellung von Daten durch Licht. Seine logischen Schaltungen basieren auf direkt gekoppelten Optoschalt- elementen.

5 Personenbezogene Mikroprozessor-Karte (personalized smart card):

eine Chip-Karte mit einer Mikroprozessor-/Mikrocomputerschaltung ent- sprechend ISO/IEC 7816, die vom Ausgebenden programmiert wurde und vom Anwender nicht geändert werden kann. 2, 4, Programm (programme): 5, 6 eine Folge von Befehlen zur Ausführung eines Prozesses in einer Form oder umsetzbar in eine Form, die von einem Elektronenrechner ausführbar ist.

4 Prozess-Reaktionszeit (Reaktionszeit auf eine globale Unterbrechung)

(global interrupt latency time): die Zeit, die ein Rechnersystem benötigt, um eine durch ein Ereignis verur- sachte Unterbrechung (interrupt) zu erkennen, die Unterbrechung zu be- dienen und auf ein anderes speicherresidentes Programm (task) zur Bear- beitung dieser Unterbrechung umzuschalten.

6 Pulsdauer (pulse duration):

Dauer eines Laser-Pulses, gemessen als volle Halbwertsbreite des Intensi- tätsmaximums (FWHI).

1 Pulverisierung (comminution):

ein Verfahren, bei dem ein Material durch Zerbrechen, Zerstossen oder Zerreiben zu Teilchen zerkleinert wird. 4, 5, Quellcode oder Quell-Programmiersprache (source code or source lan- 6, 7, guage):

9 geeignete Beschreibung eines oder mehrerer Prozesse, die durch ein Pro-

grammiersystem in maschinenablauffähigem Code (Objectcode oder Ob- ject-Programmiersprache) umgewandelt werden kann.

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7 Raumfahrzeuge (spacecraft):

9 aktive und passive Satelliten und Raumsonden.

6 Rauschpegel (noise level):

ein Mass, basierend auf der spektralen Leistungsdichte eines elektrischen Signals. Der Spitze-Spitze-Wert des Rauschpegels ist gleich S2pp = 8 No (f2–f¹, wobei Spp die Spitze-Spitze-Amplitude des Signals (z. B. in nT), No die spektrale Leistungsdichte (z. B. Nanotesla2/Hz) und (f2–f¹ die in- teressierende Bandbreite ist.

4 Rechenelement (computing element, CE):

kleinste rechnende Einheit, die ein arithmetisches oder logisches Ergebnis liefert. ML 7 Reizstoffe (riot control agents) Stoffe, die vorübergehende Reizungen oder körperliche Behinderungen hervorrufen, die innerhalb weniger Minuten nach Beendigung der Einwir- kung verschwinden. Es besteht keine bedeutsame Gefahr einer bleibenden Verletzung und medizinische Behandlung ist selten nötig. 2, 8 Roboter (robot): ML 17 ein Handhabungssystem, das bahn- oder punktgesteuert sein kann, Senso- ren benutzen kann und alle folgenden Eigenschaften aufweist: a. multifunktional, b. fähig, Material, Teile, Werkzeuge oder Spezialvorrichtungen durch ver- änderliche Bewegungen im dreidimensionalen Raum zu positionieren oder auszurichten, c. mit drei oder mehr Regel- oder Stellantrieben, die Schrittmotoren ein- schliessen können, und d. mit anwenderzugänglicher Programmierbarkeit durch Eingabe-/ Wiedergabe-Verfahren (teach/playback) oder durch einen Elektronen- rechner, der auch eine speicherprogrammierbare Steuerung sein kann, d. h. ohne mechanischen Eingriff. Anmerkung: Diese Definition umfasst nicht folgende Geräte:

1. ausschliesslich hand- oder fernsteuerbare Handhabungssysteme.

2. Handhabungssysteme mit festem Ablauf (Bewegungsautomaten), die mechanisch

festgelegte Bewegungen ausführen. Das Programm wird durch feste Anschläge wie Stifte oder Nocken mechanisch begrenzt. Der Bewegungsablauf und die Wahl der Bahnen oder Winkel können mechanisch, elektronisch oder elektrisch nicht geändert werden.

3. mechanisch gesteuerte Handhabungssysteme mit veränderlichem Ablauf (Bewe-

gungsautomaten), die mechanisch festgelegte Bewegungen ausführen. Das Pro- gramm wird durch feste, aber verstellbare Anschläge wie Stifte und Nocken me- chanisch begrenzt. Der Bewegungsablauf und die Wahl der Bahnen oder Winkel sind innerhalb des festgelegten Programmablaufs veränderbar. Veränderungen oder Modifikationen des Programmablaufs (z. B. durch Wechsel von Stiften oder Austausch von Nocken) in einer oder mehreren Bewegungsachsen werden nur durch mechanische Vorgänge ausgeführt.

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4. nicht antriebsgeregelte Handhabungssysteme mit veränderlichem Ablauf (Bewe-

gungsautomaten), die mechanisch festgelegte Bewegungen ausführen. Das Pro- gramm ist veränderbar, der Ablauf erfolgt aber nur nach dem Binärsignal von me- chanisch festgelegten, elektrischen Binärgeräten oder verstellbaren Anschlägen.

5. Regalförderzeuge, die als Handhabungssysteme mit kartesischen Koordinaten

bezeichnet werden und als wesentlicher Bestandteil vertikaler Lagereinrichtun- gen gefertigt und so konstruiert sind, dass sie Lagergut in die Lagereinrichtungen einbringen und aus diesen entnehmen.

1 Rotationszerstäubung (rotary atomization):

ein Verfahren, bei dem ein schmelzflüssiger Metallstrom oder eine Metall- schmelze durch Zentrifugalkraft zu Tröpfchen mit einem Durchmesser kleiner/gleich 500 µm zerstäubt wird.

1 Schmelzextraktion (melt extraction):

ein Verfahren, bei dem zur schnellen Erstarrung und Extraktion eines strei- fenförmigen Legierungserzeugnisses ein kurzes Segment eines rotierenden Abschreckblockes in eine Metalllegierungsschmelze eingetaucht wird. Anmerkung: Schnelle Erstarrung (solidify rapidly) ist die Erstarrung geschmolzenen Materials bei Abkühlungsraten grösser als 1000 K/s.

1 Schmelzspinnen (melt spinning):

ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze zur schnellen Er- starrung auf einen rotierenden Abschreckblock aufprallt, wobei flockige, streifen- oder stäbchenförmige Erzeugnisse entstehen. Anmerkung: Schnelle Erstarrung (solidify rapidly) ist die Erstarrung geschmolzenen Materials bei Abkühlungsraten grösser als 1000 K/s.

2 Schwenkspindel (tilting spindle):

eine Werkzeugspindel, welche die Winkelposition ihrer Spindel-Mittellinie zu jeder anderen Achse während des Bearbeitungsvorgangs verändert.

1 Seil (tow):

ein Bündel von Einzelfäden (monofilaments), die normalerweise annä- hernd parallel verlaufen. 6 SHPL: siehe Super-High Power Laser.

3 Signalanalysatoren (signal analysers):

Geräte, die Hauptmerkmale der Einzelfrequenzanteile aus Mehrfrequenzsi- gnalen messen und anzeigen können. Anmerkung: Siehe auch dynamische Signalanalysatoren. 3, 4, Signaldatenverarbeitung (signal processing): 5, 6 die Verarbeitung von aussen kommender informationstragender Signale durch Algorithmen wie Zeitkompression, Filterung, Auszug, Auswahl, Korrelation, Konvolution oder Transformationen zwischen Bereichen (z. B. Fast-Fourier-Transformation oder Walsh-Transformation).

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5 Signalisierung über zentralen Zeichengabekanal (common channel sig-

nalling): ein Signalisierungsverfahren zwischen Vermittlungen, bei dem über einen einzelnen Kanal Signalisierungsinformationen für eine Vielzahl von Ver- bindungen oder Rufen und anderen Informationen, z. B. für die Netzwerk- steuerung (Network Management), übermittelt werden, wobei adressierte Nachrichten (labelled messages) verwendet werden.

3 Signallaufzeit des Grundgatters (basic gate propagation delay time):

der Wert der Signallaufzeit, bezogen auf das Grundgatter, das in einer Fa- milie von monolithisch integrierten Schaltungen verwendet wird. Für eine gegebene Schaltungsfamilie kann dieser Wert entweder als Signallaufzeit je typisches Grundgatter oder als typische Signallaufzeit je Gatter angege- ben werden. Anmerkung: Die Signallaufzeit des Grundgatters ist nicht mit der Eingangs-/Ausgangsver- zögerungszeit einer komplexen, monolithisch integrierten Schaltung zu verwechseln.

7 Skalierungsfaktor (Kreisel oder Beschleunigungsmesser) (scale factor [gyro

or accelerometer]): das Verhältnis zwischen einer Änderung der Ausgangsgrösse und der Än- derung der zu messenden Grösse. Als Skalierungsfaktor wird im Allgemei- nen die Steigung einer geraden Linie bezeichnet, die nach dem Verfahren der kleinsten Quadrate an die Ein- und Ausgangswerte angepasst werden kann, indem die Eingangsgrösse zyklisch über den Eingangsgrössenbereich verändert wird. ASA Software (software):

1 bis 9 eine Sammlung eines oder mehrerer Programme oder Mikroprogramme,

die auf einem beliebigen greifbaren (Ausdrucks-)Medium fixiert sind. Anmerkung: Mikroprogramm (microprogramme): eine in einem speziellen Speicherbereich dauerhaft gespeicherte Folge von elemen- taren Befehlen, deren Ausführung durch das Einbringen des Referenzbefehls in ein Befehlsregister eingeleitet wird. 2, 3, Speicherprogrammierbar (stored programm controlled):

5 eine Steuerung, die in einem elektronischen Speicher Befehle speichert, die

ein Prozessor zur Ausführung von vorher festgelegten Funktionsabläufen verwenden kann. Anmerkung: Ausrüstung kann unabhängig davon speicherprogrammierbar sein, ohne Rücksicht, ob sich der elektronische Speicher innerhalb oder ausserhalb der Ausrüstung befindet.

1 Spezifischer Modul (specific modulus):

der Young'sche Modul gemessen in Pascal entsprechend N/m², dividiert durch das spezifische Gewicht gemessen in N/m3, bei einer Temperatur von 296 K ± 2 K (23 °C ± 2 °C) und bei einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50% ± 5%.

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1 Spezifische Zugfestigkeit (specific tensile strength):

Höchstfestigkeit gemessen in Pascal entsprechend N/m², dividiert durch das spezifische Gewicht gemessen in N/m3, bei einer Temperatur von 296 K ± 2 K (23 °C ± 2 °C) und bei einer relativen Luftfeuchtigkeit von 50% ± 5%.

6 Spitzenleistung (peak power):

Energie je Puls in Joule geteilt durch die Pulsdauer in Sekunden.

7 Stabilität (stability):

Die Standardabweichung (1 sigma) der Änderung eines bestimmten Para- meters von seinem Kalibrierwert, der unter stabilen Temperaturbedingun- gen gemessen wurde. Die Stabilität kann als Funktion der Zeit ausgedrückt werden.

7 Steuerungssysteme (guidance set):

Systeme, die das Mess- und Berechnungsverfahren zur Ermittlung von Po- sition und Geschwindigkeit (d. h. zur Navigation) eines Flugkörpers mit dem Verfahren integrieren, das für die Berechnung und Übertragung von Kommandos zu den Flugsteuerungssystemen des Flugkörpers eingesetzt wird, um die Flugbahn zu korrigieren.

3 Substrat (substrate):

ein Träger aus Basismaterial mit oder ohne Leiterbahnen, auf oder in dem diskrete Bauelemente oder integrierte Schaltungen oder beide angebracht werden können. Anmerkung: Diskretes Bauelement (discrete component): in einem eigenen Gehäuse befindliches Schaltungselement mit eigenen äusseren Anschlüssen. Schaltungselement (circuit element): eine einzelne aktive oder passive Funktionseinheit einer elektronischen Schaltung, z. B. eine Diode, ein Transistor, ein Widerstand, ein Kondensator.

6 Super-High Power Laser (SHPL):

ein Laser, der eine Ausgangsleistung von mehr als 1 kJ über 50 ms oder eine mittlere oder eine Dauerstrich-Ausgangsleistung von mehr als 20 kW abgeben kann.

2 Superlegierungen (superalloys):

9 Legierungen auf der Basis von Nickel, Kobalt oder Eisen mit höheren

Festigkeiten als denen in der AISI-300-Serie bei Temperaturen über

649 °C (922 K) unter schweren Umwelt- und Betriebsbedingungen.

1 Superplastisches Umformen (superplastic forming):

2 ein Warmumformverfahren für Metalle, deren im herkömmlichen Zugver-

such bei Raumtemperatur ermittelte Bruchdehnung weniger als 20% be- trägt; durch Wärmezufuhr werden Dehnungen erzielt, die mindestens das Zweifache des vorgenannten Wertes betragen.

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ML 18 Supraleitend (superconductive) ML 20 Materialien (d. h. Metalle, Legierungen oder Verbindungen), die ihren 1, 3, elektrischen Widerstand vollständig verlieren können, d. h. sie können un- 6, 8 begrenzte elektrische Leitfähigkeit erreichen und sehr grosse elektrische Ströme ohne Joule’sche Erwärmung übertragen. Anmerkung: Der supraleitende Zustand eines Materials ist jeweils gekennzeichnet durch eine kritische Temperatur, ein kritisches Magnetfeld, das eine Funktion der Temperatur ist, und eine kritische Stromdichte, die eine Funktion des Magnetfelds und der Temperatur ist.

5 Symmetrischer Algorithmus (symmetric algorithm):

ein kryptographischer Algorithmus, der für die Verschlüsselung und die Entschlüsselung den identischen Schlüssel verwendet. Anmerkung: Eine übliche Anwendung symmetrischer Algorithmen ist die Gewährleistung der Vertraulichkeit von Daten.

6 Systemzieldaten (systems tracks):

die verarbeiteten, korrelierten und aktualisierten Informationen über die Flugpositionen von Luftfahrzeugen, die dem Personal einer Luftverkehrs- kontrollzentrale zur Verfügung gestellt werden. Bei diesen Informationen handelt es sich um mit Flugplanpositionen kombinierte Radarzieldaten.

4 Systolischer Array-Rechner (systolic array computer):

ein Rechner, bei dem Datenfluss und -modifikation durch den Benutzer auf der Ebene der Schaltkreistechnik dynamisch gesteuert werden können.

7 Teilnehmerstaat (participating state):

9 Mitgliedsstaat des Wassenaar Arrangement.

Anmerkung: Mitgliedsstaaten des Wassenaar Arrangements sind zur Zeit folgende Länder: Argentinien, Australien, Belgien, Bulgarien, Dänemark, Deutschland, Finnland, Frankreich, Griechenland, Irland, Italien, Japan, Kanada, Luxemburg, Neuseeland, Niederlande, Norwegen, Österreich, Polen, Portugal, Rumänien, Russische Födera- tion, Schweden, Schweiz, Slowakische Republik, Spanien, Südkorea, Tschechische Republik, Türkei, Ungarn, Ukraine, Vereinigtes Königreich, Vereinigte Staaten von Amerika.

1 Toxine (toxins):

2 Toxine in der Form gezielt isolierter Zubereitung oder Mischungen, unab-

hängig von ihrer Herstellungsart, mit Ausnahme von Toxinen als Kontami- nanten anderer Materialien wie pathologische Präparate, Kulturpflanzen, Lebensmittel oder Mutterkulturen von Mikroorganismen.

1 Toxinuntereinheit (sub-unit toxin):

ein strukturell und funktional diskreter Bestandteil eines ganzen Toxins. ML 7 Tränengase (tear gases) Gase, die vorübergehende Reizungen oder Behinderungen hervorrufen, die innerhalb weniger Minuten nach Beendigung der Einwirkung verschwinden.

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6 Transfer-Laser (transfer laser):

ein Laser, bei dem das Laser-Material durch den Energietransfer erregt wird, der durch Stoss eines Nicht-Laser-Atoms oder -Moleküls mit einem Laser-Atom oder -Molekül bewirkt wird.

4 Übertragungsrate:

5 siehe auch Datenübertragungsrate,

Digitale Übertragungsrate, Gesamte digitale Übertragungsrate. ATA Unverzichtbar (required): ATM auf Technologie oder Software angewendet, bezieht sich ausschliesslich 1 bis 9 auf den Teil der Technologie oder Software, der besonders dafür verant- wortlich ist, dass die erfassten Leistungsmerkmale, Charakteristiken oder Funktionen erreicht oder überschritten werden. Diese unverzichtbare Tech- nologie oder Software kann auch für verschiedenartige Produkte einsetzbar sein.

1 Vakuum-Zerstäubung (vacuum atomisation):

ein Verfahren, bei dem der Strom einer Metallschmelze durch die schnelle Abgabe eines verflüssigten Gases, das einem Vakuum ausgesetzt wird, zu Tröpfchen mit einem Durchmesser kleiner/gleich 500 µm zerstäubt wird.

4 Vektorrate (vector rate):

siehe Dreidimensionale Vectorrate. 1, 2, Verbundwerkstoff (composite): 6, 8, eine Matrix und eine oder mehrere zusätzliche Phasen, die aus Partikeln,

9 Whiskern, Fasern oder beliebigen Kombinationen hiervon bestehen und

die zum Erreichen von bestimmten Eigenschaften eingebracht werden.

6 Verformbare Spiegel (deformable mirrors):

a. Kontinuierlich verformbarer Spiegel (Einzelspiegel), dessen optisch wirksame Oberfläche dynamisch durch Drehmomente oder Kräfte ver- formt werden kann, um Verzerrungen der Form der optischen Welle, die auf den Spiegel auftrifft, auszugleichen, oder b. Segmentierter Spiegel, aus mehreren Einzelelementen bestehend, diese können jeweils für sich dynamisch durch Drehmomente oder Kräfte po- sitioniert werden, um Verzerrungen der Form der optischen Welle, die auf den Gesamtspiegel auftrifft, auszugleichen. Verformbare Spiegel werden auch adaptive Spiegel genannt.

1 Vermischt (commingled):

Mischung von Filamenten aus thermoplastischen Fasern und Verstär- kungsfasern zur Herstellung eines Gemischs von Verstärkungs- und Ma- trixmaterial in Form von Fasern.

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7 Verstellbare Blattprofilgeometrie (variable geometry airfoils):

Verwendung von Klappen oder Trimmblechen an der Blatthinterkante oder an der Blattvorderkante, angebauten Vorflügeln oder einer beweglichen Blattnase, deren Position während des Fluges gesteuert werden kann.

7 Vollautomatische Regelung eines Fluges (total control of flight):

bedeutet eine automatisierte Regelung der Zustandsgrössen oder des Flug- weges von Flugzeugen zur Erfüllung von Einsatzzielen, die auf Echtzeit- änderungen von Daten bezüglich Zielen, Gefahren oder anderer Flugzeu- gen anspricht.

7 Volldigitale Triebwerksregelung (FADEC) (full authority digital engine

9 control):

ein elektronisches Regelungssystem für Gasturbinentriebwerke oder Triebwerke mit kombiniertem Arbeitszyklus unter Verwendung eines Di- gitalrechners zur Steuerung der Variablen, die für die Regelung des Trieb- werksschubes oder der Triebwerkswellenleistung über den gesamten Be- triebsbereich des Triebwerkes vom Beginn der Kraftstoffzumessung bis zum Absperren des Kraftstoffes erforderlich sind.

1 Vorher abgetrennt (previously separated):

Material, das nach seiner Abtrennung durch einen Prozess hergestellt wur- de, der zu einer Erhöhung der Konzentration des erfassten Isotops führt. ML 8 Vorprodukte (precursors) spezielle Chemikalien, die für die Herstellung militärischer Sprengstoffe verwendet werden. 3, 6 Weltraumgeeignet (space qualified): Produkte, die so konstruiert, gefertigt und geprüft wurden, dass sie die be- sonderen elektrischen, mechanischen oder umgebungsbedingten Anforde- rungen für die Verwendung beim Start und Einsatz von Satelliten oder Höhen-Flugsystemen, die in Höhen von 100 km und mehr operieren, er- füllen.

2 Winkelpositionsabweichung (angular position deviation):

die maximale Differenz zwischen der angezeigten Winkelposition und der richtigen Winkelposition, die mit Hilfe eines genauen Messverfahrens nach Drehung der Werkstückaufnahme eines Drehtisches aus einer Anfangspo- sition ermittelt wird (Bezug: VDI/VDE 2617, Blatt 4/Teil 4 «Drehtische auf Koordinatenmaschinen»). ATA Wissenschaftliche Grundlagenforschung (basic scientific research): ATM Experimentelle oder theoretische Arbeiten zur Erlangung von neuen Er- kenntnissen über grundlegende Prinzipien von Phänomenen oder Tatsa- chen, die nicht in erster Linie auf ein spezifisches praktisches Ziel oder ei- nen spezifischen praktischen Zweck gerichtet sind.

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6 Zeitkonstante (time constant):

die Zeit, gerechnet vom Beginn des Lichteinfalls, in welcher der Strom auf das 1–1/e-fache des Endwertes anwächst (das sind 63% des Endwertes). 1, 7, Zivile Luftfahrzeuge (civil aircraft):

9 sind solche Luftfahrzeuge, die mit genauer Bezeichnung in veröffentlichten

ML 10 Zulassungsverzeichnissen der zivilen Luftfahrtbehörde für den zivilen Verkehr auf Inlands- und Auslandsrouten oder für rechtmässige zivile Pri- vat- oder Geschäftsflüge registriert sind (siehe auch Luftfahrzeug).

3 Zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate (composite theoretical

4 performance, CTP):

eine Masszahl für die Rechnerleistung, angegeben in Millionen theoreti- scher Operationen je Sekunde (Mtops) und berechnet durch die Summie- rung von Rechenelementen CEs. Anmerkung: siehe Anhang 2, Kategorie 4, Technische Anmerkung.

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Anhang 2 Liste der zivil und militärisch verwendbaren Güter Anmerkungen:

1. Alle nachstehenden neun Güterkategorien sind jeweils in folgende fünf Ab-

schnitte unterteilt: – Abschnitt A: Ausrüstungen, Baugruppen, Bestandteile; – Abschnitt B: Prüf-, Kontroll- und Fertigungsausrüstungen; – Abschnitt C: Werkstoffe und Materialien; – Abschnitt D: Software; – Abschnitt E: Technologie.

2. Die Kontrollregimes sind in Spalte «Listen-Nr. (Regime)» wie folgt gekenn-

zeichnet: W = WA – Vereinbarung von Wassenaar (Nummernserie: 001–099) M = MTCR – Raketentechnologie (Nummernserie: 101–199) N = NSG – Nukleartechnologie (Nummernserie: 201–299) A = AG – Australiengruppe (Nummernserie: 301–399)

3. A.4 = Staaten des Anhangs 4

T = Werttoleranz

Kategorie Güterbezeichnung

– Allgemeine Technologie- und Software-Anmerkung (ATA/ASA)

1 Werkstoffe, Chemikalien, Mikroorganismen und Toxine

Verbundwerkstoffe, Metalllegierungen, Schmiermittel, Prepregs, Preforms, Faserwickel-, Bandlege-, Prepregmaschinen usw.

2 Werkstoffbearbeitung

Werkzeug- und Messmaschinen, numerische Bahnsteuerungen für Werk- zeugmaschinen, Funkenerosionsmaschinen (EDMs), Wälzlager, Roboter, heissisostatische Pressen, Beschichtungstechniken usw.

3 Allgemeine Elektronik

Integrierte Schaltungen, Mikrowellenbauteile, Atomfrequenznormale, Aus- rüstung für die Herstellung oder Prüfung von Halbleiterbauelementen usw.

4 Rechner

Elektronen-, Hybrid-, Digtialrechner, optische Rechner, neuronale Rech- ner, systolische Array-Rechner sowie deren Baugruppen usw. 5/Teil 1 Telekommunikation Übertragungseinrichtungen (Funkgeräte usw.), speicherprogrammierbare Vermittlungseinrichtungen, Lichtwellenleiter, Vorformen aus Glas (Preforms) zur Herstellung von Lichtwellenleitern usw.

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5/Teil 2 Informationssicherheit Kryptotechnik

6 Sensoren und Laser

Akkustik, optische Sensoren und Spiegel, Hochgeschwindigkeitskameras, Laser, Magnetometer, Radar usw.

7 Luftfahrzeuge, Luftfahrtelektronik und Navigation

Trainingsflugzeuge, Navigationsausrüstungen, Empfangseinrichtungen für Satelliten-Navigationssysteme (GPS, GLONASS), Kompasse, Funkpeilge- räte usw.

8 Meeres- und Schiffstechnik

Unterwasser- und Überwasserfahrzeuge, Unterwasserkameras, Unterwas- serroboter, Schiffsschraubenpropeller, Wasserkanäle, syntaktischer Schaumstoff usw.

9 Antriebssysteme, Raumfahrzeuge

Raketen und Raketenantriebssysteme, Ausrüstung zur Herstellung von Gasturbinentriebwerken usw.

1.0Allgemeine Technologie-Anmerkung (ATA) (gültig im Zusammenhang mit Abschnitt E der Kategorien 1–9) Die Kontrolle der Ausfuhr von Technologie, die für die Entwicklung, Herstellung oder Verwendung der von den Kategorien 1–9 erfassten Güter unverzichtbar ist, er- folgt entsprechend den Vorgaben der Kategorien 1–9. Technologie, die für die Entwicklung, Herstellung oder Verwendung von erfassten Gütern unverzichtbar ist, bleibt auch dann erfasst, wenn sie für nicht erfasste Güter einsetzbar ist. Nicht erfasst ist Technologie, die das unbedingt notwendige Minimum für Aufbau, Betrieb, Wartung und Reparatur derjenigen Güter darstellt, die nicht erfasst sind oder für die eine Ausfuhrgenehmigung erteilt wurde. Anmerkung: Hierdurch werden die von den Unternummern 1E002e, 1E002f, 8E002a und 8E002b erfassten Reparatur-Technologien nicht freigestellt. Die Beschränkungen hinsichtlich der Ausfuhr von Technologie gelten nicht für all- gemein zugängliche Informationen, wissenschaftliche Grundlagenforschung oder für die für Patentanmeldungen erforderlichen Informationen.

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2.0Allgemeine Software-Anmerkung (ASA) (Soweit in Abschnitt D der Kategorien 1–9 Software erfasst wird, entfallen die Kontrollen, wenn nachstehende Voraussetzungen erfüllt sind.) Die Abschnitte der Kategorien 1–9 dieser Liste erfassen keine Software, die entwe- der: a. frei erhältlich ist und

1. im Einzelhandel ohne Einschränkungen mittels einer der folgenden Ge-

schäftspraktiken verkauft wird: a. Barverkauf; b. Versandverkauf oder c. Telefonverkauf und

2. dazu entwickelt ist, vom Benutzer ohne umfangreiche Unterstützung

durch den Anbieter installiert zu werden, oder b. allgemein zugänglich ist.

Listen-Nr. Güterbezeichnung Erleichterungen (Regime)

1 Werkstoffe, Chemikalien,

Mikroorganismen und Toxine 1A Systeme, Ausrüstung und Bestandteile 1A001 Bauteile aus fluorierten Verbindungen wie folgt: A.4 frei (W) a. Verschlüsse, Dichtungen, Dichtungsmassen oder Brenn- T: 5000 stoffblasen (fuel bladders), besonders konstruiert für Luftfahrzeug- und Raumfahrtanwendungen und zu über

50 Gew.-% aus einem der von Unternummer 1C009b

oder 1C009c erfassten Werkstoff hergestellt; b. piezoelektrische Polymere und Copolymere aus Vinyli- denfluorid, erfasst von Unternummer 1C009a, mit allen folgenden Eigenschaften:

1. in Form einer Plane oder einer Folie und

2. mit einer Dicke grösser als 200 µm;

c. Verschlüsse, Dichtungen, Ventilsitze, Blasen oder Membrane aus Fluorelastomeren, die mindestens einen Vinylethermonomer enthalten, besonders konstruiert für Luftfahrzeug- und Raumfahrt- oder für «Flugkörper»- Anwendungen. Technische Anmerkung: «Flugkörper» im Sinne von Unternummer 1A001c bedeutet vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeug- systeme.

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1A002 Verbundwerkstoff-Strukturen oder Laminate mit einer A.4 OGB (W, N) der folgenden Eigenschaften: T: 1000 Anmerkung: a. mit einer organischen Matrix und hergestellt aus von Materialien oder b. mit einer Metall- oder Kohlenstoff-Matrix und herge- stellt aus einem der folgenden Materialien:

1. faser- oder fadenförmige Materialien aus Kohlenstoff

mit allen folgenden Eigenschaften: a. spezifischer Modul grösser als 10,15 × 106 m und b. spezifische Zugfestigkeit grösser als 17,7 × 104 m oder

2. Werkstoffe, die von Unternummer 1C010c erfasst

werden. Anmerkung:

1. Nummer 1A002 erfasst nicht Verbundwerkstoff-Strukturen

oder Laminate, hergestellt aus epoxyharzimprägnierten faser- oder fadenförmigen Materialien aus Kohlenstoff für die Repa- ratur von Luftfahrzeug-Strukturen oder Laminaten, sofern sie nicht grösser sind als 1 m²

2. Nummer 1A002 erfasst nicht Fertig- oder Halbfertigprodukte,

besonders konstruiert für rein zivile Verwendungen wie folgt: a. Sportartikel, b. Automobilindustrie, c. Werkzeugmaschinenindustrie, d. medizinischer Bereich. 1A003 Erzeugnisse aus von Unternummer 1C008a3 erfassten A.4 frei (W) nichtfluorierten, polymeren Substanzen in Form von T: 5000 Folien, Planen, Bändern oder Streifen, mit einer der folgenden Eigenschaften: a. Dicke grösser als 0,254 mm oder b. beschichtet oder laminiert mit Kohlenstoff, Graphit, Metallen oder magnetischen Substanzen. Anmerkung: Nummer 1A003 erfasst nicht Erzeugnisse, die mit Kupfer be- schichtet oder laminiert sind, konstruiert für die Herstellung von flexiblen gedruckten Schaltungen. 1A004 Schutz- und Nachweisausrüstung sowie Bestandteile, A.4 frei (W) soweit nicht erfasst von Anhang 3, wie folgt: T: 5000 Anmerkung: a. Gasmasken, Filter und Ausrüstung zur Dekontamination, konstruiert oder modifiziert zur Abwehr von biologi- schen Agenzien oder radioaktiven Stoffen für den

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Kriegsgebrauch oder chemischen Kampfstoffen und besonders konstruierte Bestandteile hierfür; b. Schutzanzüge, Handschuhe und Schuhe, besonders kon- struiert oder modifiziert zur Abwehr von biologischen Agenzien oder radioaktiven Stoffen für den Kriegsge- brauch oder chemischen Kampfstoffen; c. ABC-Nachweisausrüstung, besonders konstruiert oder modifiziert zur Feststellung oder Identifizierung von biologischen Agenzien oder radioaktiven Stoffen für den Kriegsgebrauch oder chemischen Kampfstoffen und be- sonders konstruierte Bestandteile hierfür. Anmerkung: Nummer 1A004 erfasst nicht: a. Strahlendosimeter für den persönlichen Gebrauch, b. Ausrüstung, die durch Konstruktion oder Funktion auf den Schutz gegen bestimmte Gefahren im gewerblichen Bereich, wie Bergbau, Steinbrüche, Landwirtschaft, Pharmazie, Medi- zin, Tierheilkunde, Umwelt oder Nahrungsmittelindustrie, be- grenzt ist. 1A005 Körperpanzer und besonders konstruierte Bestandteile A.4 frei (W) hierfür, die nicht gemäss militärischen Standards bzw. T: 5000 Spezifikationen oder hierzu äquivalenten Leistungsan- forderungen hergestellt sind. Anmerkungen:

1. Nummer 1A005 erfasst nicht einzelne Körperschutzwesten und

Zubehör hierfür, wenn diese von ihren Benutzern zu deren ei- genem persönlichen Schutz mitgeführt werden.

2. Nummer 1A005 erfasst nicht Körperpanzer, die nur zum fron-

talen Schutz gegen Splitter und Druckwellen von nichtmilitäri- schen Sprengkörpern konstruiert sind. Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Anhang 3. 1A102 Resaturierte, pyrolysierte (d.h. Kohlenstoff-Kohlen- A.4 OGB (M) stoff-)Werkstoffe, konstruiert für von Nummer 9A004 T: 1000 erfasste Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfass- te Höhenforschungsraketen. 1A202 Verbundwerkstoff-Strukturen, soweit nicht erfasst von A.4 OGB (N) Nummer 1A002, in Rohrform und mit allen folgenden T: 1000 Eigenschaften: Anmerkung: a. einem Innendurchmesser zwischen 75 mm und 400 mm und b. hergestellt aus beliebigen faser- oder fadenförmigen Materialien gemäss Unternummer 1C010a, 1C010b oder 1C210a oder aus Prepreg-Materialien aus Kohlenstoff gemäss Unternummer 1C210c.

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1A225 Platinierte Katalysatoren, besonders konstruiert oder A.4 OGB (N) hergerichtet zur Förderung der Wasserstoffaustausch- T: 1000 reaktion zwischen Wasserstoff und Wasser zur Tritium- rückgewinnung aus Schwerem Wasser oder zur Schwerwasserproduktion. 1A226 Besonders hergerichtete Füllstoffe, die zur Trennung A.4 OGB (N) von Schwerem Wasser aus Wasser verwendet werden T: 1000 können, mit allen folgenden Eigenschaften: a. hergestellt aus Phosphorbronze-Geflecht, chemisch be- handelt zur Verbesserung der Benetzbarkeit und b. konstruiert zur Verwendung in Vakuum- Destillationskolonnen. 1A227 Strahlenschutzfenster hoher Dichte (z. B. Bleiglas) mit A.4 OGB (N) allen folgenden Eigenschaften, sowie besonders kon- T: 1000 struierte Rahmen hierfür: a. mit einer Fläche grösser als 0,09 m² auf der «aktivitätsfreien Seite», b. einer Dichte grösser als 3 g/cm3 und c. einer Dicke grösser/gleich 100 mm. Technische Anmerkung: «aktivitätsfreien Seite» im Sinne der Nummer 1A227 bezeich- net die Sichtfläche des Fensters, die bei der Soll-Anwendung der niedrigsten Strahlung ausgesetzt ist.

1B Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen 1B001 Ausrüstung für die Herstellung der von Nummer 1A002 oder 1C010 erfassten Fasern, Prepregs, Preforms oder Verbundwerkstoffe wie folgt sowie besonders konstruier- te Bestandteile und besonders konstruiertes Zubehör hierfür: Anmerkung: (W, M) a. Faserwickelmaschinen, deren Bewegungen zum Positio- A.4 OGB (N) nieren, Wickeln und Aufrollen von Fäden in drei oder T: 1000 mehr Achsen koordiniert und programmiert sind, beson- ders konstruiert für die Fertigung von Verbundwerkstoff- Strukturen oder Laminaten aus faser- oder fadenförmi- gen Materialien; (W, M) b. Bandlegemaschinen oder Kabelplazierungsmaschinen, A.4 OGB deren Bewegungen zum Positionieren und Legen von T: 1000 Bändern, Kabeln oder Bahnen in zwei oder mehr Achsen koordiniert und programmiert sind, besonders konstru- iert zur Fertigung von Luftfahrzeugzellen und «Flugkörper»-Strukturen aus Verbundwerkstoffen;

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Technische Anmerkung: «Flugkörper» im Sinne von Unternummer 1B001b bedeutet vollständige Raketensysteme und unbemannte Luftfahrzeugsy- steme. c. mehrfachgerichtete und mehrdimensionale Web- oder A.4 OGB Flechtmaschinen einschliesslich Anpassungsteilen und T: 1000 Umbauteilsätzen zum Weben, Flechten oder Umspinnen von Fasern für die Fertigung von Verbundwerkstoff- Strukturen; Anmerkung: Unternummer 1B001c erfasst nicht Textilmaschinen, die nicht für die oben genannten Endverwendungen geändert worden sind. (W, M) d. Ausrüstung, besonders konstruiert oder angepasst für die A.4 OGB Herstellung von Verstärkungsfasern, wie folgt: T: 1000

1. Ausrüstung für die Umwandlung von Polymerfasern

(wie Polyacrylnitril, Rayon, Pech oder Polycarbosi- lan) in Kohlenstofffasern oder Siliciumcarbidfasern, einschliesslich besonderer Vorrichtungen zum Stre- cken der Faser während der Wärmebehandlung,

2. Ausrüstung für die chemische Beschichtung aus der

Gasphase (CVD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate zur Fertigung von Siliciumcarbidfasern,

3. Ausrüstung für das Nassverspinnen hochtemperatur-

beständiger Keramiken (z. B. Aluminiumoxid),

4. Ausrüstung für die Umwandlung durch Wärmebe-

handlung von aluminiumhaltigen Faser-Preforms in Aluminiumoxid-Fasern; (W, M) e. Ausrüstung zur Herstellung der von Unternummer A.4 OGB 1C010e erfassten Prepregs durch Heissschmelz- T: 1000 Verfahren; (W) f. Ausrüstung zur zerstörungsfreien dreidimensionalen A.4 frei Prüfung von Fehlern mittels Ultraschall- oder Röntgen- T: 1000 tomographie, besonders konstruiert für Verbundwerk- stoffe. 1B002 Systeme und Bestandteile hierfür, besonders konstruiert A.4 OGB (W, M) zur Vermeidung von Verunreinigungen und besonders T: 1000 konstruiert für die Herstellung von Metalllegierungen, Metalllegierungspulver oder legierten Werkstoffen, die fasst werden. 1B003 Werkzeuge, Matrizen, Formen oder Spannvorrichtun- A.4 frei (W) gen für das superplastische Umformen oder Diffusions- T: 5000 schweissen von Titan oder Aluminium oder deren Le- gierungen, besonders konstruiert zur Fertigung von:

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a. Strukturen für die Luft- und Raumfahrt, b. Motoren für Luftfahrzeuge oder Raumfahrt oder c. besonders konstruierten Bauteilen für solche Strukturen oder Motoren. 1B101 Ausrüstung, die nicht von Nummer 1B001 erfasst wird, für die Herstellung von Struktur-Verbundwerkstoffen, wie folgt sowie ausschliesslich konstruierte Bestandteile und ausschliesslich konstruiertes Zubehör hierfür: Anmerkung: Von Nummer 1B101 erfasste Bestandteile und erfasstes Zubehör schliesst Gussformen, Dorne, Gesenke, Vorrichtungen und Werk- zeuge zum Formpressen, Aushärten, Giessen, Sintern oder Kleben von Verbundwerkstoff-Strukturen und Laminaten sowie Erzeug- nisse daraus ein. Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Nummer 1B201. (M, N) a. Faserwickelmaschinen, deren Bewegungen zum Positio- A.4 OGB nieren, Wickeln und Aufrollen von Fäden in drei oder T: 1000 mehr Achsen koordiniert und programmiert werden können, konstruiert für die Fertigung von Verbundwerk- stoff-Strukturen oder Laminaten aus faser- oder faden- förmigen Materialien und Steuereinrichtungen zum Ko- ordinieren und Programmieren hierfür; (M) b. Bandlegemaschinen, deren Bewegungen zum Positionie- A.4 OGB ren und Legen von Bändern oder Bahnen in zwei oder T: 1000 mehr Achsen koordiniert und programmiert werden können, konstruiert zur Fertigung von Luftfahrzeugzel- len und Flugkörperstrukturen aus Verbundwerkstoffen; (M) c. Ausrüstung, konstruiert oder geändert für die Herstellung A.4 OGB von faser- oder fadenförmigen Materialien, wie folgt: T: 1000

1. Ausrüstung für die Umwandlung von Polymerfasern

(z. B. Polyacrylnitril, Rayon oder Polycarbosilan) ein- schliesslich besonderer Einrichtungen zum Strecken der Faser während der Wärmebehandlung,

2. Ausrüstung für die Beschichtung aus der Gasphase

(VD) mit Elementen oder Verbindungen auf erhitzte fadenförmige Substrate,

3. Ausrüstung für das Nassverspinnen hochtemperatur-

beständiger Keramiken (z. B. Aluminiumoxid); (M) d. Ausrüstung, konstruiert oder geändert zur speziellen Fa- A.4 OGB seroberflächenbehandlung oder für die Herstellung von T: 1000 Prepregs oder Preforms, erfasst von Nummer 9A110. Anmerkung: Von Unternummer 1B101d erfasste Ausrüstung schliesst Rol- len, Streckeinrichtungen, Beschichtungs- und Schneideinrich- tungen sowie Stanzformen (clicker dies) ein.

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1B115 Ausrüstung für die Herstellung, Handhabung oder Ab- A.4 OGB (M) nahmeprüfung von Flugkörpertreibstoffen oder Treib- T: 1000 stoffzusätzen, erfasst von Anhang 3, ML 8, Unternum- ders konstruierte Bestandteile hierfür. Anmerkungen:

1. Nummer 1B115 schliesst nur solche Mischer ein, die für das

Mischen im Vakuum im Bereich von 0 bis 13,326 kPa geeignet sind und eine Temperaturregelung der Mischkammer besitzen: a. Chargenmischer mit einer Kapazität grösser/gleich 110 l und mindestens einer exzentrischen Misch-/Knetwelle, b. Durchlaufmischer mit zwei oder mehreren Misch-/ Knetwellen und der Möglichkeit zum Öffnen der Misch- kammer.

2. Ausrüstung, besonders konstruiert für die Herstellung militäri-

scher Güter: Siehe Anhang 3, ML 18.

3. Nummer 1B115 erfasst nicht Ausrüstung für die Herstellung,

Handhabung oder Abnahmeprüfung von Borcarbid. 1B116 Düsen, ausschliesslich konstruiert zur Fertigung pyroly- A.4 OGB (M) tisch erzeugter Materialien, die in einer Form, auf ei- T: 1000 nem Dorn oder einem anderen Substrat aus Vorstufen- gasen abgeschieden werden, die in einem Temperatur- bereich von 1573 K (1300 °C) bis 3173 K (2900 °C) und bei einem Druck von 130 Pa bis 20 kPa zerfallen. 1B201 Faserwickelmaschinen, soweit nicht erfasst von Num- A.4 OGB (N) mer 1B001 oder 1B101, und zugehörige Ausrüstung wie T: 1000 folgt: a. Faserwickelmaschinen mit allen folgenden Eigenschaf- ten:

1. Bewegungen zum Positionieren, Wickeln und Auf-

rollen von Fäden in zwei oder mehr Achsen koordi- niert und programmiert;

2. besonders konstruiert für die Fertigung von Verbund-

werkstoff-Strukturen oder Laminaten aus faser- oder fadenförmigen Materialien;

3. geeignet zum Wickeln zylindrischer Rotoren mit

Durchmessern zwischen 75 mm und 400 mm und Längen grösser/gleich 600 mm; b. Steuereinrichtungen zum Koordinieren und Program- mieren von Faserwickelmaschinen, die von Unternum- mer 1B201a erfasst werden; c. Präzisionsdorne für Faserwickelmaschinen, die von Un- ternummer 1B201a erfasst werden. 1B225 Elektrolytische Zellen für die Erzeugung von Fluor mit A.4 OGB (N) einer Fertigungskapazität von mehr als 250 g Fluor je T: 1000 Stunde.

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1B226 Separatoren zur elektromagnetischen Isotopentrennung, A4. OGB (N) konstruiert für den Betrieb mit einer oder mehreren Io- T: 1000 nenquellen, die einen Gesamtstrahlstrom von grö- sser/gleich 50 mA liefern können, oder die mit solchen Ionenquellen ausgestattet sind. Anmerkungen:

1. Nummer 1B226 schliesst Separatoren ein, die stabile Isotope

anreichern können.

2. Nummer 1B226 schliesst Separatoren mit Ionenquellen und Kol-

lektoren innerhalb und ausserhalb des magnetischen Feldes ein. 1B227 Konverter oder Ausrüstung für die Ammoniak- A.4 OGB (N) Synthese, bei der das Synthesegas (Stickstoff und Was- T: 1000 serstoff) einer Ammoniak-Wasserstoff-Hochdruck- Austauschkolonne entnommen und das synthetisierte Ammoniak in die Kolonne zurückgeführt wird. 1B228 Wasserstoff-Tieftemperaturdestillationskolonnen mit A.4 OGB (N) allen folgenden Eigenschaften: T: 1000 a. konstruiert zum Einsatz bei Betriebstemperaturen klei- ner/gleich 35 K (–238 °C), b. konstruiert zum Einsatz bei Betriebsdrücken von 0,5 bis

5 MPa,

c. hergestellt aus:

1. rostfreien Stählen der Serie 300 mit niedrigem

Schwefelgehalt und mit einer austenitischen Korn- grössenzahl nach ASTM (oder einer gleichwertigen Norm) von 5 oder darüber oder

2. vergleichbaren tieftemperatur- und wasserstoffver-

träglichen Werkstoffen und d. mit einem Innendurchmesser grösser/gleich 1 m und ef- fektiven Längen grösser/gleich 5 m. (N) interne Kontraktoren, wie folgt: T: 1000 a. Wasser-Schwefelwasserstoff-Austauschkolonnen mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Betrieb bei Nenndrücken grösser/gleich 2 MPa,

2. hergestellt aus kohlenstoffarmem Stahl mit einer

austenitischen Korngrössenzahl nach ASTM (oder ei- ner gleichwertigen Norm) von 5 oder darüber und

3. Durchmesser grösser/gleich 1,8 m,

b. «Interne Kontraktoren» für Wasser-Schwefelwasserstoff- Austauschkolonnen erfasst in Unternummer 1B229a. Technische Anmerkung: «Interne Kontraktoren» der Kolonnen sind segmentierte Böden mit einem effektiven Verbunddurchmesser grösser/gleich 1,8 m, konstruiert zur Erleichterung der Gegenstromextraktion

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und hergestellt aus rostfreien Stählen mit einem Kohlenstoffge- halt kleiner/gleich 0,03%. Hierbei kann es sich um Siebböden, Ventilböden, Glockenböden oder Turbogridböden handeln. 1B230 Umwälzpumpen für Kaliumamid-Katalysatoren A.4 OGB (N) (Kontaktmittel) in verdünnter oder konzentrierter Lö- T: 1000 sung in flüssigem Ammoniak (KNH2/NH3) mit allen folgenden Eigenschaften: a. hermetisch dicht, b. Leistung grösser als 8,5 m3/h, c. mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. für konzentrierte Kaliumamidlösungen grösser/gleich

1 Prozent bei einem Arbeitsdruck von 1,5 bis 60 MPa

oder

2. für verdünnte Kaliumamidlösungen kleiner als 1 Pro-

zent bei einem Arbeitsdruck von 20 bis 60 MPa. 1B231 Tritium-Anlagen oder -Einrichtungen und Ausrüstung A.4 OGB (N) hierfür wie folgt: T: 1000 a. Anlagen oder Einrichtungen für die Herstellung, Rück- gewinnung, Extraktion, Konzentration oder Handhabung von Tritium, b. Ausrüstung für Tritium-Anlagen oder -Einrichtungen wie folgt:

1. Wasserstoff- oder Helium-Kälteaggregate, die auf

23 K (–250 °C) oder weniger kühlen können, mit ei-

ner Wärmeabfuhrkapazität grösser als 150 W,

2. Wasserstoffisotopen-Speicher- und Reinigungssyste-

me mit Metallhydriden als Speicher- oder Reini- gungsmedium. 1B232 Expansionsturbinen oder Expansions-Kompressions- A.4 OGB (N) turbinen-Sätze, mit allen folgenden Eigenschaften: T: 1000 a. konstruiert für den Betrieb bei Ausgangstemperaturen kleiner/gleich 35 K (–238 °C) b. konstruiert für einen Wasserstoffgas-Durchsatz 1B233 Anlagen oder Einrichtungen für die Lithium- A.4 OGB (N) Isotopentrennung und Ausrüstung hierfür, wie folgt: T: 1000 a. Anlagen oder Einrichtungen für die Trennung von Lithi- umisotopen; b. Ausrüstung für die Trennung von Lithiumisotopen wie folgt:

1. Flüssig-flüssig-Füllkörper-Extraktions-Kolonnen, be-

sonders konstruiert für Lithiumamalgame,

2. Quecksilber- und/oder Lithium-Amalgampumpen,

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3. Lithiumamalgam-Elektrolysezellen,

4. Verdampfer für konzentrierte Lithiumhydroxid-Lösung.

1C Werkstoffe und Materialien Technische Anmerkung: Metalle und Legierungen: Soweit in einzelnen Nummern nichts Gegenteiliges angegeben ist, umfassen im Sinne der Nummern 1C001 bis 1C012 die Begriffe Metalle und Legierungen folgende Roh- und Halbzeugformen: Rohformen: Anoden, Kugeln, Barren (einschliesslich Kerbbarren und Draht- barren), Knüppel, Blöcke, Walzplatten, Briketts, Klumpen, Ka- thoden, Kristalle, Würfel, Kokillen, Körner, Granalien, Brammen, Kügelchen, Masseln, Pulver, Ronden, Schrot, Platten, Rohlinge, Schwamm, Stangen. Halbzeugformen (auch überzogen, plattiert, gebohrt oder ge- stanzt): a. Geformte oder bearbeitete Materialien, hergestellt durch Wal- zen, Ziehen, Strangpressen, Schmieden, Schlagstrangpressen, Pressen, Granulieren, Pulverisieren und Mahlen, wie folgt: Winkel, U-Profile, Ronden, Scheiben, Staub, Schuppen, Folien und Blattmetall, Schmiedestücke, Platten, Pulver, Press- und Stanzstücke, Bänder, Ringe, Stäbe (einschliesslich nicht um- hüllter Schweissstäbe, Drahtstangen und Walzdraht), Profile aller Art, Formstücke, Bleche, Streifen, Rohre und Röhren (einschliesslich solcher mit runden, quadratischen oder sonsti- gen Querschnitten), gezogener oder stranggepresster Draht. b. Gussmaterialien, hergestellt durch Giessen in Sand, Kokillen, Formen aus Metall, Gips oder anderen Materialien, einschliess- lich Druckguss, Sintererzeugnissen und pulvermetallurgischen Erzeugnissen. Der Kontrollzweck darf nicht unterlaufen werden durch die Aus- fuhr von nicht gelisteten angeblich fertigen Formen, die in Wirk- lichkeit aber Roh- oder Halbzeugformen darstellen. 1C001 Werkstoffe, besonders entwickelt zum Gebrauch als Ab- A.4 OGB (W, M) sorptionsmittel für elektromagnetische Wellen, oder ei- T: 1000 genleitfähige Polymere wie folgt: Anmerkung: Siehe auch Nummer 1C101. a. Werkstoffe für die Absorption von Frequenzen grösser als 2 × 108 Hz und kleiner als 3 × 1012 Hz; Anmerkung: Unternummer 1C001a erfasst nicht: a. Absorptionsmittel (absorber) aus haarförmigen natürlichen oder synthetischen Fasern mit nichtmagnetischen Einlage- rungen für die Absorption, b. Absorptionsmittel (absorber) mit nichtebener Einfallfläche, einschliesslich Pyramiden, Kegeln, Keilen und gefalteten Oberflächen, die keinen Magnetverlust haben, c. ebene Absorptionsmittel (absorber) mit allen folgenden Ei- genschaften:

1. hergestellt aus einem der folgenden Materialien:

a. Schaumkunststoffen (biegsam oder nichtbiegsam) mit eingelagertem Kohlenstoff oder organischen Werkstof- fen einschliesslich Bindemitteln, mit Rückstrahlung

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(Echo) grösser als 5% im Vergleich zu Metall über ei- ne Bandbreite grösser als ± 15% der Mittenfrequenz der einfallenden Energie und nicht geeignet, Tempe- raturen grösser als 450 K (177 °C) zu widerstehen, oder b. keramischen Werkstoffen mit Rückstrahlung (Echo) grösser als 20% im Vergleich zu Metall über eine Bandbreite grösser als ± 15% der Mittenfrequenz der einfallenden Energie und nicht geeignet, Temperaturen grösser als 800 K (527 °C) zu widerstehen, Technische Anmerkung: Probekörper für Absorptionstests gemäss Anmerkung 1c¹ zu Unternummer 1C001a sollten ein Quadrat der Seiten- länge von mindestens 5 Wellenlängen (der Mittenfre- quenz) bilden und in das Fernfeld des abstrahlenden Teils gegeben werden.

2. Zugfestigkeit kleiner als 7 × 106 N/m2 und

3. Druckfestigkeit kleiner als 14 × 106 N/m2,

d. ebene Absorptionsmittel aus gesintertem Ferrit mit allen fol- genden Eigenschaften:

1. spezifische Dichte grösser als 4,4, und

2. maximale Betriebstemperatur 548 K (275 °C).

Ergänzende Anmerkung: Für Absorptionszwecke benutzte magnetische Stoffe, die in Farben enthalten sind, bleiben von Unternummer 1C001a er- fasst. b. Werkstoffe für die Absorption von Frequenzen grösser als 1,5 × 1014 Hz und kleiner als 3,7 × 1014 Hz und nicht transparent für sichtbares Licht; c. eigenleitfähige polymere Werkstoffe mit einer elektri- schen Volumenleitfähigkeit grösser als 10 000 S/m (Siemens pro m) oder einem Schicht-/Oberflächen- widerstand kleiner als 100 Ohm/Flächenquadrat, auf der Grundlage eines oder mehrerer der folgenden Polymere:

1. Polyanilin,

2. Polypyrrol,

3. Polythiophen,

4. Polyphenylenvinylen,

5. Polythienylenvinylen.

Technische Anmerkung: Die elektrische Volumenleitfähigkeit und der Schicht-/ Oberflächenwiderstand werden gemäss ASTM D-527 oder ver- gleichbaren nationalen Verfahren bestimmt. 1C002 Metalllegierungen, Metalllegierungspulver oder legierte Werkstoffe, wie folgt: Anmerkung: Nummer 1C002 erfasst nicht Metalllegierungen, Metalllegie- rungspulver oder legierte Werkstoffe für die Beschichtung von Substraten. Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Nummer 1C202.

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a. Metalllegierungen wie folgt: (W) 1. Nickel- oder Titanbasislegierungen in der Form von A.4 frei Aluminiden wie folgt, in Roh- oder Halbzeugformen: T:1000 a. Nickelaluminide mit einem Gehalt grösser/gleich

15 Gew.-% und kleiner/gleich 38 Gew.-% Alumi-

nium und mindestens einem zusätzlichen Legie- rungselement, b. Titanaluminide mit einem Gehalt grösser/gleich 10 Gew.-% Aluminium und mindestens einem zusätz- lichen Legierungselement,

2. aus von Unternummer 1C002b erfasstem Metalllegie-

rungspulver oder feinen Materialpartikeln wie folgt: (W) a. Nickellegierungen mit: A.4 frei

1. einem Zeitstandskennwert grösser/gleich 10 000 T: 1000

Stunden bei 923 K (650 °C) und bei einer Belas- tung von 676 MPa oder

2. einer Ermüdung bei niedriger Lastspielzahl von

10 000 Zyklen oder mehr bei 823 K (550 °C) mit

einer maximalen Belastung von 1095 MPa, (W) b. Nioblegierungen mit: A.4 frei

1. einem Zeitstandskennwert grösser/gleich 10 000 T: 1000

Stunden bei 1073 K (800 °C) und bei einer Be- lastung von 400 MPa oder

2. einer Ermüdung bei niedriger Lastspielzahl von

10 000 Zyklen oder mehr bei 973 K (700 °C) mit

einer maximalen Belastung von 700 MPa, (W) c. Titanlegierungen mit: A.4 frei

1. einem Zeitstandskennwert grösser/gleich 10 000 T: 1000

Stunden bei 723 K (450 °C) und bei einer Be- lastung von 200 MPa oder

2. einer Ermüdung bei niedriger Lastspielzahl von

10 000 Zyklen oder mehr bei 723 K (450 °C) mit

einer maximalen Belastung von 400 MPa, (W, N) d. Aluminiumlegierungen mit einer Zugfestigkeit: A.4 OGB

1. grösser/gleich 240 MPa bei 473 K (200 °C) oder T: 1000

2. grösser/gleich 415 MPa bei 298 K (25 °C),

(W) e. Magnesiumlegierungen mit einer Zugfestigkeit A.4 frei grösser/gleich 345 MPa und einer Korrosionsrate T: 1000 kleiner als 1 mm/Jahr in 3%iger wässriger Koch- salzlösung, gemessen unter Beachtung von ASTM- Standard G-31 oder vergleichbaren nationalen Verfahren; Technische Anmerkungen:

1. Die von Unternummer 1C002a erfassten Metalllegierungen

sind solche, die einen höheren Gewichtsanteil des genannten Metalls enthalten als von jedem anderen Element.

2. Der Zeitstandskennwert wird gemäss ASTM-Standard E-139

oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt.

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3. Die Ermüdung bei geringer Lastspielzahl wird gemäss ASTM-

Standard E-606 «Recommended Practice for Constant- Amplitude Low-Cycle Fatigue Testing» oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt. Die Prüfung sollte axial erfolgen mit einem durchschnittlichen Spannungsverhältnis gleich 1 und einem Formfaktor Kt gleich 1. Das durchschnittliche Span- nungsverhältnis wird als (maximale Beanspruchung – minimale Beanspruchung)/maximale Beanspruchung definiert. (W) b. Metalllegierungspulver oder feine Materialpartikel für A.4 frei die Herstellung der von Unternummer 1C002a erfassten T: 1000 Materialien wie folgt:

1. hergestellt aus einem der folgenden Legierungs-Systeme:

Technische Anmerkung: X in den folgenden Formeln entspricht einem Legierungs- element oder mehreren Legierungselementen. a. Nickellegierungen (Ni-Al-X, Ni-X-Al), die sich für Turbinenmotorteile oder Bauteile eignen, die auf

109 Legierungspartikel weniger als 3 (während des

Herstellprozesses eingeführte) nichtmetallische Partikel enthalten, die grösser als 100 µm sind, b. Nioblegierungen (Nb-Al-X oder Nb-X-Al, Nb-Si-X oder Nb-X-Si, Nb-Ti-X oder Nb-X-Ti), c. Titanlegierungen (Ti-Al-X oder Ti-X-Al), d. Aluminiumlegierungen (Al-Mg-X oder Al-X-Mg, Al-Zn-X oder Al-X-Zn, Al-Fe-X oder Al-X-Fe) oder e. Magnesiumlegierungen (Mg-Al-X oder Mg-X-Al) und

2. hergestellt unter kontrollierten Bedingungen mit ei-

nem der folgenden Verfahren: a. Vakuumzerstäubung, b. Schutzgaszerstäubung, c. Rotationszerstäubung, d. Abschrecken aus der Schmelze (splat quenching), e. Schmelzspinnen und Pulverisierung, f. Schmelzextraktion und Pulverisierung oder g. mechanisches Legieren; (W) c. legierte Werkstoffe in Form von unzerkleinerten Flo- A.4 frei cken, Bändern oder dünnen Stäben, hergestellt unter T: 1000 kontrollierten Bedingungen mittels Abschrecken aus der Schmelze (splat quenching), Schmelzspinnen oder Schmelzextraktion, die bei der Fertigung der von Unter- nummer 1C002b erfassten Metalllegierungspulver oder feinen Materialpartikel verwendet werden. 1C003 Magnetische Metalle aller Typen und in jeder Form mit A.4 frei (W) einer der folgenden Eigenschaften: T: 1000 a. Anfangsrelativpermeabilität (initial relative permeability) grösser/gleich 120 000 und Dicke kleiner/gleich 0,05 mm,

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Technische Anmerkung: Die Messung der Anfangspermeabilität muss an den vorstehend spezifizierten Materialien vorgenommen werden, die vollstän- dig geglüht sind. b. magnetostriktive Legierungen mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Sättigungsmagnetostriktion grösser als 5 × 10-4 oder

2. magnetomechanischer Kopplungsfaktor (k) grösser als

0,8 oder c. Streifen aus amorphen oder nanokristallinen Legierun- gen mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Legierungen, die mindestens 75 Gew.-% Eisen, Ko-

balt oder Nickel enthalten,

2. eine magnetische Sättigungsinduktion (Bs)

grösser/gleich 1,6 T und

3. mit einer der folgenden Eigenschaften:

a. Streifendicke kleiner/gleich 0,02 mm oder b. spezifischer elektrischer Widerstand grösser/gleich

2 × 10–4 Ohm cm.

Technische Anmerkung: Unternummer 1C003c erfasst nur nanokristalline Materialien mit einer Korngrösse kleiner/gleich 50 nm, bestimmt durch Röntgenuntersuchungen. 1C004 Uran-Titanlegierungen oder Wolframlegierungen mit A.4 frei (W) einer Matrix auf Eisen-, Nickel- oder Kupferbasis mit T: 1000 allen folgenden Eigenschaften: a. Dichte grösser als 17,5 g/cm3, b. Elastizitätsgrenze grösser als 880 MPa, c. spezifische Zugfestigkeit grösser als 1270 MPa und d. Dehnung grösser als 8%. 1C005 Supraleitende Doppelleiter (composite conductors) mit A.4 frei (W) einer Länge grösser als 100 m oder einer Masse grösser T: 1000 als 100 g wie folgt: a. supraleitende Multifilament-Doppelleiter (composite conductors), die ein Niob-Titan-Filament oder mehrere Niob-Titan-Filamente enthalten:

1. eingebettet in eine andere Matrix als eine Matrix aus

Kupfer oder Kupferbasislegierungen oder

2. mit einem Flächenquerschnitt kleiner als 0,28 × 10–4

mm² (d. h. 6 µm Durchmesser bei kreisrunden Fila- menten); b. supraleitende Doppelleiter (composite conductors), die aus einem anderen supraleitenden Filament oder mehre- ren anderen supraleitenden Filamenten bestehen als aus Niob-Titan, mit allen folgenden Eigenschaften:

Güterkontrollverordnung AS 1999

1. kritische Temperatur bei einer magnetischen Induk-

tion von Null grösser als 9,85 K (–263,31 °C) und kleiner als 24 K (–249,16 °C),

2. Flächenquerschnitt kleiner als 0,28 × 10–4 mm2 und

3. die Filamente verbleiben im supraleitenden Zustand

bei einer Temperatur von 4,2 K (–268,96 °C), wenn sie einem magnetischen Feld ausgesetzt werden, das einer magnetischen Induktion von 12 Tesla entspricht. 1C006 Flüssigkeiten und Schmiermittel wie folgt: A.4 frei (W) a. hydraulische Flüssigkeiten, die als Hauptbestandteil eine T: 1000 der folgenden Verbindungen oder einen der folgenden Stoffe enthalten:

1. synthetische Sila-Kohlenwasserstofföle mit allen fol-

genden Eigenschaften: a. Flammpunkt grösser als 477 K (204 °C), b. Pourpoint kleiner/gleich 239 K (–34 °C), c. Viskositätsindex grösser/gleich 75 und d. Wärmebeständigkeit bei 616 K (343 °C) oder Anmerkung: Sila-Kohlenwasserstofföle im Sinne von Unternummer 1C006a¹ enthalten ausschliesslich Silizium, Wasserstoff und Kohlenstoff.

2. Fluorchlorkohlenstoffe mit allen folgenden Eigen-

schaften: a. kein Flammpunkt, b. autogene Zündtemperatur grösser als 977 K (704 °C), c. Pourpoint kleiner/gleich 219 K (–54 °C), d. Viskositätsindex grösser/gleich 80 und e. Siedepunkt grösser/gleich 473 K (200 °C); Anmerkung: Fluorchlorkohlenstoffe im Sinne von Unternummer 1C006a² enthalten ausschliesslich Kohlenstoff, Fluor und Chlor. b. Schmiermittel, die als Hauptbestandteil eine der folgen- den Verbindungen oder einen der folgenden Stoffe ent- halten:

1. Phenylether, Alkylphenylether, Thioether oder deren

Mischungen, die mehr als zwei Ether- oder Thioether- Funktionen enthalten, oder Mischungen hieraus oder

2. fluorierte flüssige Silikone mit einer kinematischen

Viskosität kleiner als 5000 mm2/s (5000 Centistokes), gemessen bei 298 K (25 °C); c. Dämpfungs- oder Flotationsflüssigkeiten, die zu mindes- tens 85% aus einer oder mehreren der folgenden Ver- bindungen oder einem oder mehreren der folgenden Stoffe bestehen, eine Reinheit grösser als 99,8% aufwei-

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sen und weniger als 25 Partikel grösser/gleich 200 µm pro 100 ml enthalten:

1. Dibromtetrafluorethan,

2. Polychlortrifluorethylen (nur öl- oder wachsartige

Modifikationen) oder

3. Polybromtrifluorethylen;

d. Elektronikkühlflüssigkeiten auf Fluor-Kohlenstoff-Basis mit allen folgenden Eigenschaften:

1. mit einem Gehalt von 85 Gew.-% oder mehr einer der

folgenden Stoffe, oder Mischungen daraus: a. Monomere Formen der Perfluorpolyalkylethertria- zine oder perfluoraliphatischen Ether, b. Perfluoralkylamine, c. Perfluorcycloalkane oder d. Perfluoralkane,

2. Dichte bei 298 K (25 °C) grösser/gleich 1,5 g/ml,

3. in flüssigem Zustand bei 273 K (0 °C) und

4. mit einem Gehalt von 60 Gew.-% oder mehr gebun-

denem Fluor. Technische Anmerkung: Im Sinne von Nummer 1C006 wird a. der Flammpunkt unter Anwendung des Cleveland-Verfahrens im offenen Tiegel gemäss ASTM-Standard D-92 oder ver- gleichbaren nationalen Verfahren bestimmt, b. der Pourpoint nach der im ASTM-Standard D-97 beschriebe- nen Methode oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermit- telt, c. der Viskositätsindex nach der im ASTM-Standard D-2270 be- schriebenen Methode oder vergleichbaren nationalen Verfahren ermittelt, d. die Wärmebeständigkeit gemäss ASTM-Standard D-2160 (-85) oder nach folgendem Prüfverfahren oder vergleichbaren natio- nalen Verfahren ermittelt: 20 ml der zu prüfenden Flüssigkeit werden in ein 46 ml fassendes Gefäss aus rostfreiem US- Normstahl 317 eingefüllt, das je eine Kugel mit einem Nenn- durchmesser von 12,5 mm (0,5 Zoll) aus den US-Normstählen M10 (Werkzeugstahl) und SEA 52.100 (Chromstahl) sowie aus Schiffsbronze (60% Kupfer, 39% Zink und 0,75% Zinn) ent- hält. Das Gefäss wird mit Stickstoff gespült und bei atmosphä- rischem Druck dicht verschlossen. Danach wird die Temperatur auf 644 ± 6 K (371 ± 6 °C) erhöht und 6 Stunden lang konstant gehalten. Die Probe gilt als wärmebeständig, wenn nach dem oben beschriebenen Verfahren alle folgenden Bedingungen er- füllt sind:

1. Gewichtsverlust jeder Kugel kleiner als 10 mg/mm2 der Ku-

geloberfläche,

2. Änderung der Viskosität gegenüber der bei 311 K (38 °C)

ermittelten Anfangsviskosität kleiner als 25% und

3. Gesamtsäure- oder -basenzahl kleiner als 0,40,

e. die autogene Zündtemperatur nach der im ASTM-Standard E-

659 beschriebenen Methode oder vergleichbaren nationalen

Verfahren ermittelt.

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1C007 Keramische Ausgangsmaterialien, keramische Nicht- A.4 OGB (W, M) Verbundwerkstoffe, Verbundwerkstoffe mit keramischer T: 1000 Matrix und keramische Vormaterialien wie folgt: Anmerkung: Siehe auch Nummer 1C107. a. Ausgangsmaterialien aus einfachen oder komplexen Bo- riden des Elements Titan, wobei die Summe der metalli- schen Verunreinigungen, ohne beigemischte Zusätze, weniger als 5000 ppm beträgt, die durchschnittliche Partikelgrösse kleiner/gleich 5 µm misst und nicht mehr als 10% der Partikel grösser als 10 µm sind; b. keramische Nicht-Verbundwerkstoffe in Roh- oder Halb- zeugformen aus Boriden des Elements Titan mit einer Dichte grösser/gleich 98% der theoretischen Dichte; Anmerkung: Unternummer 1C007b erfasst nicht Schleifmittel. c. Keramik-Keramik-Verbundwerkstoffe mit einer Glas- oder Oxid-Matrix und verstärkt mit Fasern, hergestellt aus einem der folgenden Systeme:

1. Si-N,

2. Si-C,

3. Si-Al-O-N oder

4. Si-O-N,

mit einer spezifischen Zugfestigkeit grösser als 12,7 × 103 m; d. Keramik-Keramik-Verbundwerkstoffe mit einer konti- nuierlichen metallischen Phase oder ohne diese, die fein dispergierte Partikel oder Phasen beliebiger Faser- oder Whiskermaterialien enthalten, wobei Carbide oder Nitri- de von Silizium, Zirkon oder Bor die Matrix bilden; e. Vormaterialien (d. h. spezielle polymere oder metallor- ganische Verbindungen) zur Herstellung einer beliebi- gen Phase oder beliebiger Phasen der von Unternummer 1C007c erfassten Materialien, wie folgt:

1. Polydiorganosilane (zur Herstellung von Siliziumcar-

bid),

2. Polysilazane (zur Herstellung von Siliziumnitrid),

3. Polycarbosilazane (zur Herstellung von Keramikpro-

dukten, die Silizium, Kohlenstoff und Stickstoff ent- halten); f. Keramik-Keramik-Verbundwerkstoffe mit einer Oxid- oder Glas-matrix und verstärkt mit Endlosfasern aus ei- nem der folgenden Systeme:

2. Si-C-N.

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Anmerkung: Unternummer 1C007f erfasst nicht Verbundwerkstoffe, die Fa- sern dieser Systeme mit einer Zugfestigkeit kleiner als 700 MPa bei 1273 K (1000 °C) oder einer Dauerstandzugfestigkeit grös- ser als 1% Kriechdehnung bei einer Belastung von 100 MPa bei 1273 K (1000 °C) über eine Zeitdauer von 100 Stunden enthalten. 1C008 Nichtfluorierte Polymere wie folgt: A.4 frei (W) a. 1. Bismaleimide, T: 1000

2. aromatische Polyamidimide,

3. aromatische Polyimide,

4. aromatische Polyetherimide mit einer Glasübergangs-

temperatur (Tg) grösser als 513 K (240 °C), bestimmt nach der in ASTM D-3418 beschriebenen Methode mit dem Trockenverfahren; Anmerkung: Unternummer 1C008a erfasst keine nicht schmelzbaren, durch Pressen formbaren Pulver oder Pressteile. b. thermoplastische Flüssigkristall-Copolymere mit einer Wärmeformbeständigkeitstemperatur grösser als 523 K (250 °C), gemessen gemäss ASTM-Standard D-648, Methode A oder vergleichbaren nationalen Verfahren, mit einer Belastung von 1,82 N/mm² und folgender Zu- sammensetzung:

1. einer der folgenden Stoffe:

a. Phenylen, Biphenylen oder Naphthalin oder b. Methyl, tertiär-butyl- oder phenyl-substituiertes Phenylen, Biphenylen oder Naphthalin und

2. eine der folgenden Säuren:

a. Terephthalsäure, b. 6-Hydroxy-2-Naphthoesäure oder c. 4-Hydroxybenzoesäure; c. aromatische Polyetherketone wie folgt:

1. Polyetheretherketon (PEEK),

2. Polyetherketonketon (PEKK),

3. Polyetherketon (PEK),

4. Polyetherketonetherketonketon (PEKEKK);

d. aromatische Polyketone; e. aromatische Polysulfide, wobei es sich bei der Arylen- gruppe um Biphenylen, Triphenylen oder Kombinatio- nen hieraus handelt; f. Polybiphenylenethersulfon. Technische Anmerkung: Die Glasübergangstemperatur (Tg) für die von Nummer 1C008 er- fassten Materialien wird bestimmt nach der in ASTM D-3418 be- schriebenen Methode mit dem Trockenverfahren.

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1C009 Unverarbeitete fluorierte Verbindungen wie folgt: A.4 frei (W) a. Copolymere des Vinylidenfluorids, die ungereckt zu T: 1000 mindestens 75% eine beta-kristalline Struktur aufweisen; b. fluorierte Polyimide, die mindestens 10 Gew.-% gebun- denes Fluor enthalten; c. fluorierte Phosphazen-Elastomere, die mindestens

30 Gew.-% gebundenes Fluor enthalten.

1C010 Faser- oder fadenförmige Materialien, die in Verbund- werkstoff-Strukturen oder Laminaten mit organischer Matrix, Metall-Matrix oder Kohlenstoff-Matrix verwen- det werden können, wie folgt: Anmerkung: Siehe auch Nummer 1C210. (W, N) a. organische faser- oder fadenförmige Materialien mit al- A.4 OGB len folgenden Eigenschaften: T: 1000

1. spezifischer Modul grösser als 12,7 × 106 m und

2. spezifische Zugfestigkeit grösser als 23,5 × 104 m;

Anmerkung: Unternummer 1C010a erfasst nicht Polyethylen. (W, N) b. faser- oder fadenförmige Kohlenstoffmaterialien mit A.4 OGB allen folgenden Eigenschaften: T: 1000

1. spezifischer Modul grösser als 12,7 × 106 m und

2. spezifische Zugfestigkeit grösser als 23,5 × 104 m;

Technische Anmerkung: Die Eigenschaften der in Unternummer 1C010b beschriebenen Materialien sollten gemäss den von der SACMA empfohlenen Methoden SRM 12 bis 17 oder entsprechenden nationalen Zugprüfungen untersucht werden (z. B. der japanische Industriestandard JIS-R-7601, Absatz 6.6.2.) und sich auf Chargenmittelwerte stützen. Anmerkung: Unternummer 1C010b erfasst nicht Gewebe, hergestellt aus fa- ser- oder fadenförmigen Materialien, für die Reparatur von Luftfahrzeug-Strukturen oder Laminaten, bei dem die Grösse der Einzelmatten nicht grösser ist als 50 cm × 90 cm. (W) c. anorganische faser- oder fadenförmige Materialien mit A.4 OGB allen folgenden Eigenschaften: T: 1000

1. spezifischer Modul grösser als 2,54 × 106 m und

2. Schmelz-, Zersetzungs- oder Sublimationspunkt grös-

ser als 1922 K (1649 °C) in einer inerten Umgebung; Anmerkung: Unternummer 1C010c erfasst nicht:

1. diskontinuierliche, vielphasige, polykristalline Aluminium-

oxidfasern als geschnittene Fasern oder regellos geschichtete Matten mit einem Siliziumoxidgehalt grösser/gleich 3 Gew.-% und einem spezifischen Modul kleiner als 10 × 106 m,

2. Fasern aus Molybdän und Molybdänlegierungen,

3. Borfasern,

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4. diskontinuierliche Keramikfasern mit einem Schmelz-, Zer-

setzungs- oder Sublimationspunkt kleiner als 2043 K (1770 °C) in einer inerten Umgebung. (W) d. faser- oder fadenförmige Materialien A.4 OGB

1. bestehend aus einem der folgenden Stoffe: T: 1000

a. von Unternummer 1C008a erfasste Polyetherimide oder Materialien oder

2. bestehend aus den von Unternummer 1C010d1a oder

1C010d1b erfassten Stoffen, auch vermischt (commingled) mit anderen von Unternummer e. harzimprägnierte oder pechimprägnierte Fasern (Prepregs), metall- oder kohlenstoffbeschichtete Fasern (Preforms) oder Kohlenstofffaser-Preforms wie folgt: (W, N) 1. hergestellt aus von Unternummer 1C010a, 1C010b A.4 OGB oder 1C010c erfassten faser- oder fadenförmigen T: 1000 Materialien, (W, M) 2. hergestellt aus faser- oder fadenförmigen Materialien A.4 OGB aus organischen Stoffen oder Kohlenstoff mit allen T: 1000 folgenden Eigenschaften: a. spezifische Zugfestigkeit grösser als 17,7 × 104 m, b. spezifischer Modul grösser als 10,15 × 106 m, c. nicht erfasst von Unternummer 1C010a oder d. mit einer Glasübergangstemperatur (Tg) grösser als

383 K (110 °C) bei Imprägnierung mit von Num-

Materialien oder mit einer Glasübergangstempera- tur (Tg) grösser/gleich 418 K (145 °C) bei Imprä- gnierung mit Phenol- oder Epoxyharzen. Anmerkung: Unternummer 1C010e erfasst nicht:

1. epoxyharzimprägnierte Matrix aus faser- oder fadenförmi-

gen Materialien aus Kohlenstoff (Prepregs) für die Repara- tur von Luftfahrzeug-Strukturen oder Laminaten, bei der die Grösse der Einzelmatte des Prepregs nicht grösser ist als

50 cm × 90 cm.

2. Prepregs, die mit Phenol- oder Epoxyharzen imprägniert

sind, deren Glasübergangstemperatur (Tg) kleiner als 433 K (160 °C) und deren Aushärtungstemperatur kleiner als die Glasübergangstemperatur ist. Technische Anmerkung: Die Glasübergangstemperatur (Tg) für die in Unternummer 1C010e genannten Materialien wird bestimmt nach der in ASTM D-3418 beschriebenen Methode mit dem Trockenver- fahren. Die Glasübergangstemperatur (Tg) für Phenol- oder Epoxyharze wird bestimmt nach der in ASTM D-4065 be- schriebenen Methode bei einer Frequenz von 1 Hz und einer Aufheizrate von 2 K (°C) pro Minute mit dem Trockenverfahren.

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1C011 Metalle und Verbindungen wie folgt: A.4 OGB (W, M) Anmerkung: T: 1000 Siehe auch Anhang 3 und Nummer 1C111. a. Metalle mit Partikelgrössen kleiner als 60 µm (kugelförmig, staubförmig, kugelähnlich, flockenförmig oder gemahlen), die mindestens zu 99% aus Zirkonium, Magnesium oder Legierungen dieser Metalle bestehen; Anmerkung: Die in Unternummer 1C011a aufgeführten Metalle und Legie- rungen werden auch dann erfasst, wenn sie in Aluminium, Ma- gnesium, Zirkonium oder Beryllium eingekapselt sind. b. Bor oder Borcarbid mit einer Reinheit grösser/gleich 85% und einer Partikelgrösse kleiner/gleich 60 µm; Anmerkung: Die in Unternummer 1C011b aufgeführten Stoffe werden auch dann erfasst, wenn sie in Aluminium, Magnesium, Zirkonium oder Beryllium eingekapselt sind. c. Guanidinnitrat. 1C012 Materialien für nukleare Wärmequellen wie folgt: A.4 OGB (W) a. Plutonium in jeder Form, dessen Isotopenanteil an Plu- T: keine tonium-238 grösser als 50 Gew.-% ist; Anmerkung: Unternummer 1C012a erfasst nicht:

1. Lieferungen mit einem Gehalt an Plutonium von klei-

ner/gleich 1 Gramm,

2. Lieferungen von kleiner/gleich drei effektiven Gramm, wenn

in einer Fühlanordnung von Instrumenten enthalten. b. vorher abgetrenntes Neptunium in jeder Form. Anmerkung: Unternummer 1C012b erfasst nicht Lieferungen mit einem Ge- halt an Neptunium-237 kleiner/gleich 1 Gramm. 1C101 Andere als die von Nummer 1C001 erfassten Werkstoffe A.4 OGB (M) und Geräte zur Verminderung von Messgrössen wie T: 1000 Radarreflexion, UV-/IR- Rückstrahlung und Schall- signatur, geeignet für Flugkörper und Flugkörper- Subsysteme. Anmerkungen:

1. Nummer 1C101 schliesst Folgendes ein:

a. Strukturwerkstoffe und Beschichtungen, ausschliesslich konstruiert für reduzierte Radarreflexion, b. Beschichtungen einschliesslich Farbanstrichen, ausschliess- lich konstruiert für reduzierte oder speziell zugeschnittene Reflexion oder Emission im Mikrowellen-, IR- oder UV- Spektrum.

2. Nummer 1C101 erfasst nicht Materialien für die Verwendung

zur Temperaturregelung von Satelliten.

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1C107 Keramik- oder Graphitmaterialien, die nicht von Num- A.4 OGB (M) mer 1C007 erfasst werden, wie folgt: T: 1000 a. feinkörnige, rekristallisierte Graphite mit einer Dichte grösser/gleich 1,72 g/cm3 (gemessen bei 288 K [15 °C]) und einer Partikelgrösse kleiner als 100 µm oder pyroly- tische oder faserverstärkte Graphite, geeignet für Rake- tendüsen oder Bugspitzen von Wiedereintrittskörpern; b. keramische Verbundwerkstoffe mit einer Dielektrizitäts- konstanten kleiner als 6 bei Frequenzen von 100 Hz bis

10 000 MHz, auch geeignet für Radome, sowie maschi-

nell bearbeitbare, mit Siliziumcarbid verstärkte, unge- brannte keramische Werkstoffe, geeignet für Bugspitzen. 1C111 Treibstoffe und chemische Bestandteile für Treibstoffe, A.4 OGB (M) die nicht von Nummer 1C011 erfasst werden, wie folgt: T: 1000 a. Treibstoffzusätze wie folgt:

1. kugelförmiges Aluminiumpulver, das nicht von An-

hang 3 erfasst wird, aus Partikeln mit einem einheitli- chen Durchmesser kleiner als 500 µm und einem Aluminiumgehalt von mindestens 97 Gew.-%,

2. metallische Treibstoffe, die nicht von Anhang 3 er-

fasst werden, mit Partikelgrössen kleiner als 500 µm (kugelförmig, atomisiert, staubförmig, flockenförmig oder gemahlen), die mindestens zu 97 Gew.-% aus ei- nem der folgenden Elemente bestehen: a. Zirkonium, b. Beryllium, c. Bor, d. Magnesium oder e. Legierungen der Stoffe unter a. bis d.,

3. Flüssigoxidatoren wie folgt:

a. Distickstofftrioxid, b. Stickstoffdioxid/Distickstofftetroxid, c. Distickstoffpentoxid; b. Polymere wie folgt:

1. Carboxyl-terminiertes Polybutadien (CTPB),

2. Hydroxyl-terminiertes Polybutadien (HTPB), das

nicht von Anhang 3 erfasst wird,

3. Polybutadien-Akrylsäure (PBAA),

4. Polybutadien-Akrylsäure-Akrylnitril (PBAN);

c. andere Additive und Agenzien wie folgt:

1. Butacen,

2. Triethylenglykoldinitrat (TEGDN),

3. 2-Nitrodiphenylamin,

4. Trimethylolethantrinitrat (TMETN),

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5. Diethylenglykoldinitrat (DEGDN),

6. Ferrocenderivate, die nicht von Anhang 3 erfasst werden.

Anmerkung: Treibstoffe und chemische Treibstoffzusätze, die nicht von Num- mer 1C111 erfasst werden: Siehe Anhang 3, Nummer ML 8. 1C116 Martensitaushärtender Stahl (maraging steel) (im All- A.4 OGB (M, N) gemeinen mit hohem Nickel- und sehr geringem Kohlen- T: 1000 stoffgehalt sowie gekennzeichnet durch die Verwendung von Substitutionselementen zur Ausscheidungshärtung) mit einer erreichbaren Zugfestigkeit grösser/gleich 1500 MPa, gemessen bei 293 K (20 °C), in Form von Blechen, Platten oder Rohren mit einer Wand-/Plattenstärke kleiner/gleich 5 mm. Anmerkung: Siehe auch Nummer 1C216. 1C117 Wolfram, Molybdän und Legierungen dieser Metalle in A.4 OGB (M) Form einheitlich kugelförmiger oder staubförmiger Par- T: 1000 tikel mit einer Partikelgrösse kleiner/gleich 500 µm und einer Reinheit von mindestens 97 Gew.-%, bestimmt für die Herstellung von Raketenmotorteilen, d. h. Hitze- schilden, Düsensubstraten, Düsenhälsen und Steuerflä- chen zur Schubvektorsteuerung. 1C202 Legierungen, die nicht von Unternummer 1C002a2c A.4 OGB (N) oder 1C002a2d erfasst werden, wie folgt: T: 1000 a. Aluminiumlegierungen mit allen folgenden Eigenschaften:

1. erreichbare Zugfestigkeit grösser/gleich 460 Mpa bei

293 K (20 °C) und

2. als Rohre oder massive zylindrische Formen

(einschliesslich Schmiedestücken) mit einem Aussen- durchmesser grösser als 75 mm; b. Titanlegierungen mit allen folgenden Eigenschaften:

1. erreichbare Zugfestigkeit grösser/gleich 900 Mpa bei

293 K (20 °C) und

2. als Rohre oder massive zylindrische Formen

(einschliesslich Schmiedestücken) mit einem Aussen- durchmesser grösser als 75 mm. Technische Anmerkung: Nummer 1C202 erfasst Legierungen vor und nach einer Wärme- behandlung. 1C210 Faser- oder fadenförmige Materialien oder Prepregs, die A.4 OGB erfasst werden, wie folgt: a. Faser- oder fadenförmige Materialien aus Kohlenstoff oder Aramid mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. spezifischer Modul grösser/gleich 12,7 × 106 m oder

2. spezifische Zugfestigkeit grösser/gleich 235 × 103 m;

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Anmerkung: Unternummer 1C210a erfasst nicht faser- oder fadenförmige Materialien aus Aramid mit einem Anteil eines Faserober- flächen-Modifiziermittels auf Ester-Basis grösser/gleich 0,25 Gew.-%; b. Faser- oder fadenförmige Materialien aus Glas mit allen folgenden Eigenschaften:

1. spezifischer Modul grösser/gleich 3,18 × 106 m und

2. spezifische Zugfestigkeit grösser/gleich 76,2 × 103 m;

c. mit warmaushärtendem Harz imprägnierte endlose Gar- ne, Faserbündel (rovings), Seile oder Bänder mit einer Breite kleiner/gleich 15 mm (Prepregs) aus faser- oder fadenförmigen Materialien aus Kohlenstoff oder Glas Technische Anmerkung: Das Harz bildet die Matrix des Verbundwerkstoffs. Anmerkung: In Nummer 1C210 sind die faser- oder fadenförmigen Materiali- en begrenzt auf endlose Einzelfäden (monofilaments), Garne, Fa- serbündel (rovings), Seile oder Bänder. 1C216 Martensitaushärtender Stahl (maraging steel), der nicht A.4 OGB (N) von Nummer 1C116 erfasst wird, mit einer erreichbaren T: 1000 Zugfestigkeit grösser/gleich 2050 MPa bei 293 K (20 °C). Anmerkung: Nummer 1C216 erfasst nicht Teile, bei denen keine lineare Dimension 75 mm überschreitet. Technische Anmerkung: Nummer 1C216 erfasst martensitaushärtenden Stahl vor und nach einer Wärmebehandlung. 1C225 Bor, angereichert mit dem Bor-10 (10B)-Isotop über sei- A.4 OGB (N) ne natürliche Isotopenhäufigkeit hinaus, wie folgt: ele- T: 1000 mentares Bor, Verbindungen, borhaltige Mischungen, Erzeugnisse hieraus und Abfall und Schrott aus einem der Vorgenannten. Anmerkung: Borhaltige Mischungen im Sinne der Nummer 1C225 schliessen mit Bor belastete Materialien ein. Technische Anmerkung: Die natürliche Isotopenhäufigkeit von Bor-10 beträgt etwa 18,5 Gew.-% (20 Atom-%). 1C226 Wolfram, Wolframcarbid und Legierungen mit einem A.4 OGB (N) Wolframanteil von mehr als 90 Gew.-%, mit allen fol- T: 1000 genden Eigenschaften: a. in Formen mit hohlzylindrischer Symmetrie (einschliesslich Zylindersegmente) mit einem Innen- durchmesser zwischen 100 mm und 300 mm und b. einer Masse über 20 kg.

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Anmerkung: Nummer 1C226 erfasst nicht Erzeugnisse, besonders konstruiert für die Verwendung als Gewichte oder Kollimatoren für Gammastrahlen. 1C227 Calzium mit allen folgenden Eigenschaften: A.4 OGB (N) a. weniger als 1000 ppm an Gewicht an metallischen Ver- T: 1000 unreinigungen ausser Magnesium und b. weniger als 10 ppm an Gewicht Bor. 1C228 Magnesium mit allen folgenden Eigenschaften: A.4 OGB (N) a. weniger als 200 ppm an Gewicht an metallischen Verun- T: 1000 reinigungen ausser Calzium und b. weniger als 10 ppm an Gewicht Bor. 1C229 Wismut mit allen folgenden Eigenschaften: A.4 OGB (N) a. Reinheit grösser (besser)/gleich 99,99% an Gewicht oder T: 1000 besser und b. Silbergehalt kleiner als 10 ppm an Gewicht. 1C230 Beryllium-Metall, Legierungen mit einem Berylliuman- A.4 OGB (N) teil von mehr als 50 Gew.-%, Berylliumverbindungen, T: 1000 Erzeugnisse hieraus und Abfall und Schrott aus einem der vorgenannten. Anmerkung: Nummer 1C230 erfasst nicht: a. Metallfenster für Röntgengeräte oder für Bohrlochmessgeräte, b. Oxidformteile in Fertig- oder Halbzeugformen, besonders kon- struiert für Elektronikteile oder als Substrat für elektronische Schaltungen, c. Beryll (Silikat aus Beryllium und Aluminium) in Form von Smaragden oder Aquamarinen. 1C231 Hafnium-Metall, Legierungen und Verbindungen mit A.4 OGB (N) einem Hafniumanteil von mehr als 60 Gew.-%, Erzeug- T: 1000 nisse hieraus und Abfall und Schrott aus einem der Vorgenannten. 1C232 Helium-3 (3He), Mischungen, die Helium-3 enthalten, A.4 OGB (N) oder Erzeugnisse oder Geräte, die einen der vorstehen- T: 1000 den Stoffe enthalten. Anmerkung: Nummer 1C232 erfasst nicht Erzeugnisse oder Geräte, die weniger als 1 g Helium-3 enthalten. (N) über seine natürliche Isotopenhäufigkeit hinaus, und Er- T: 1000 zeugnisse oder Geräte, die angereichertes Lithium ent- halten, wie folgt: elementares Lithium, Legierungen, Ver- bindungen, lithiumhaltige Mischungen, Erzeugnisse hie- raus und Abfall und Schrott aus einem der Vorgenannten.

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Anmerkung: Nummer 1C233 erfasst nicht Thermolumineszenz-Dosimeter. Technische Anmerkung: Die natürliche Isotopenhäufigkeit von Lithium-6 beträgt etwa 6,5 Gew.-% (7,5 Atom-%). 1C234 Zirkonium mit einem Gewichtsanteil Hafnium kleiner A.4 OGB (N) als 2000 ppm bezogen auf den Zirkoniumanteil, wie T: 1000 folgt: Metall, Legierungen mit einem Zirkoniumanteil grösser als 50 Gew.-%, Verbindungen, Erzeugnisse hieraus und Abfall und Schrott aus einem der Vorge- nannten. Anmerkung: Nummer 1C234 erfasst nicht Zirkonium in Form von Folien mit einer Dicke kleiner/gleich 0,10 mm. 1C235 Tritium, Tritiumverbindungen, Mischungen mit einem A.4 OGB (N) Verhältnis der Anzahl der Tritiumatome zur Anzahl der T: 1000 Wasserstoffatome grösser als 1:1000 und Erzeugnisse oder Geräte, die eines der Vorgenannten enthalten. Anmerkung: Nummer 1C235 3 erfasst nicht Erzeugnisse oder Geräte mit weniger als 1,48 × 10 GBq (40 Ci) Tritium. 1C236 Alphastrahlen emittierende Radionuklide mit einer A.4 OGB (N) Halbwertszeit grösser/gleich 10 Tage, jedoch kleiner als T: 1000

200 Jahre, in folgenden Formen:

a. als Element; b. Verbindungen mit einer Gesamt-Alphaaktivität c. Mischungen mit einer Gesamt-Alphaaktivität d. Erzeugnisse oder Geräte, die einen der vorgenannten Stoffe enthalten. Anmerkung: Nummer 1C236 erfasst nicht Erzeugnisse oder Geräte mit einer Alphaaktivität kleiner als 3,7 GBq (100 Millicurie). (N) um-226-Verbindungen, Mischungen, die Radium-226 T: 1000 enthalten, Erzeugnisse hieraus und Erzeugnisse oder Geräte, die eines der Vorgenannten enthalten. Anmerkung: Nummer 1C237 erfasst nicht: a. medizinische Geräte, b. Erzeugnisse oder Geräte, die weniger als 0,37 Gbq (10 Milli- curie) Radium-226 enthalten. (N) T: 1000

Güterkontrollverordnung AS 1999

1C239 Sprengstoffe, die nicht von Anhang 3 erfasst werden, A.4 OGB (N) mit einer Kristalldichte grösser als 1,8 g/cm3 und einer T: 1000 Detonationsgeschwindigkeit grösser als 8000 m/s oder Stoffe oder Mischungen, die diese Sprengstoffe mit mehr als 2 Gew.-% enthalten. Anmerkung: Siehe auch Anhang 3. 1C240 Nickelpulver und poröses Nickelmetall, wie folgt: A.4 OGB (N) a. Nickelpulver mit allen folgenden Eigenschaften: T: 1000

1. Reinheitsgrad grösser/gleich 99,0 Gew.-% und

2. mittlere Partikelgrösse kleiner als 10 µm gemäss

ASTM-Standard B-330; b. poröses Nickelmetall, hergestellt aus den von Unter- nummer 1C240a erfassten Materialien; Anmerkung: Nummer 1C240 erfasst nicht: a. fadenförmiges Nickelpulver; b. einzelne Bleche aus porösem Nickel mit einer Fläche klei- Technische Anmerkung: Unternummer 1C240b erstreckt sich auf das poröse Metall, das durch Verdichten und Sintern der von Unternummer 1C240a er- fassten Materialien zu einem Metallmaterial mit feinen, über die ganze Struktur miteinander verbundenen Poren gewonnen wird. 1C350 Chemikalien, die als Ausgangsstoffe für toxische Wirk- A.4 OGB (A) stoffe verwendet werden können, wie folgt: T: keine Anmerkung: Ebenfalls erfasst werden Mischungen, bei denen mindestens eine der nachstehend aufgeführten Chemikalien 25 Gewichtsprozent übersteigt. Mischungen, die nachstehend aufgeführte Chemikalien als übliche Zutaten enthalten und in Detailverkaufspackungen für den per- sönlichen Gebrauch aufgemacht sind, werden nicht erfasst. Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Anhang 3.

1. Thiodiglykol (CAS-Nr. 111-48-8);

2. Phosphoroxidchlorid (CAS-Nr. 10025-87-3);

3. Methylphosphonsäuredimethylester

(CAS-Nr. 756-79-6);

4. Methylphosphonsäuredifluorid (CAS-Nr. 676-99-3)

Anmerkung: Siehe auch Anhang 3, ML 7b;

5. Methylphosphonsäuredichlorid (CAS-Nr. 676-97-1);

6. Dimethylphosphit (CAS-Nr. 868-85-9);

7. Phosphortrichlorid (CAS-Nr. 7719-12-2);

8. Trimethylphosphit (CAS-Nr. 121-45-9);

Güterkontrollverordnung AS 1999

9. Thionylchlorid (CAS-Nr. 7719-09-7);

10. 3-Hydroxy-1-methylpiperidin (CAS-Nr. 3554-74-3);

11. N,N-Diisopropyl-2-aminochlorethan (CAS-Nr. 96-79-

7);

12. N,N-Diisopropyl-2-aminoethanthiol (CAS-Nr. 5842-

07-9);

13. 3-Chinuclidinol (CAS-Nr. 1619-34-7);

14. Kaliumfluorid (CAS-Nr. 7789-23-3);

15. 2-Chlorethanol (CAS-Nr. 107-07-3);

16. Dimethylamin (CAS-Nr. 124-40-3);

17. Ethylphosphonsäurediethylester (CAS-Nr. 78-38-6);

18. N,N-Dimethylaminodiethylphosphat (CAS-Nr. 2404-

03-7);

19. Diethylphosphit (CAS-Nr. 762-04-9);

20. Dimethylaminhydrochlorid (CAS-Nr. 506-59-2);

21. Ethylphosphonigsäuredichlorid (CAS-Nr. 1498-40-4);

22. Ethylphosphonsäuredichlorid (CAS-Nr. 1066-50-8);

23. Ethylphosphonsäuredifluorid (CAS-Nr. 753-98-0);

24. Fluorwasserstoff (CAS-Nr. 7664-39-3);

25. Methylbenzilat (CAS-Nr. 76-89-1);

26. Methylphosphonigsäuredichlorid (CAS-Nr. 676-83-5);

27. N,N-Diisopropyl-2-aminoethanol (CAS-Nr. 96-80-0);

28. Pinakolylalkohol (CAS-Nr. 464-07-3);

29. o-Ethyl-2-diisopropylaminoethylmethylphosphonit

(CAS-Nr. 57856-11-8); Anmerkung: Siehe auch Anhang 3, ML 7b;

30. Triethylphosphit (CAS-Nr. 122-52-1);

31. Arsentrichlorid (CAS-Nr. 7784-34-1);

32. Benzilsäure (CAS-Nr. 76-93-7);

33. Methylphosphonigsäurediethylester (CAS-Nr. 15715-

41-0);

34. Ethylphosphonsäuredimethylester (CAS-Nr. 6163-75-3);

35. Ethylphosphonigsäuredifluorid (CAS-Nr. 430-78-4);

36. Methylphosphonigsäuredifluorid (CAS-Nr. 753-59-3);

37. 3-Chinuclidon (CAS-Nr. 3731-38-2);

Güterkontrollverordnung AS 1999

38. Phosphorpentachlorid (CAS-Nr. 10026-13-8);

39. Pinakolon (CAS-Nr. 75-97-8);

40. Kaliumcyanid (CAS-Nr. 151-50-8);

41. Kaliumhydrogendifluorid (CAS-Nr. 7789-29-9);

42. Ammoniumhydrogendifluorid (CAS-Nr. 1341-49-7);

43. Natriumfluorid (CAS-Nr. 7681-49-4);

44. Natriumhydrogendifluorid (CAS-Nr. 1333-83-1);

45. Natriumcyanid (CAS-Nr. 143-33-9);

46. Triethanolamin (CAS-Nr. 102-71-6);

47. Phosphorpentasulfid (CAS-Nr. 1314-80-3);

48. Diisopropylamin (CAS-Nr. 108-18-9);

49. Diethylaminoethanol (CAS-Nr. 100-37-8);

50. Natriumsulfid (CAS-Nr. 1313-82-2);

51. Schwefelmonochlorid (CAS-Nr. 10025-67-9);

52. Schwefeldichlorid (CAS-Nr. 10545-99-0);

53. Triethanolamin-Hydrochlorid (CAS-Nr. 637-39-8);

54. N,N-Diisopropyl-2-aminochlorethan-Hydrochlorid

(CAS-Nr. 4261-68-1). 1C351 Human- und Tierpathogene Erreger sowie Toxine: A.4 OGB (A) a. Viren (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in T: keine Form isolierter lebender Kulturen oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1. Chikungunya-Virus,

2. Haemorrhagisches Kongo-Krim-Fieber-Virus,

3. Dengue-Fiebervirus,

4. Eastern Equine Enzephalitis-Virus,

5. Ebola-Virus,

6. Hantaan-Virus,

7. Junin-Virus,

8. Lassa-Virus,

9. Lymphozytäre Choriomeningitis-Virus,

10. Machupo-Virus,

11. Marburg-Virus,

12. Affenpockenvirus,

13. Rift Valley-Fieber-Virus,

14. Zeckenenzephalitis-Virus (Virus der russischen

Frühjahr/Sommerenzephalitis),

15. Variola-Virus,

16. Venezuelan Equine Enzephalitis-Virus,

Güterkontrollverordnung AS 1999

17. Western Equine Enzephalitis-Virus,

18. Whitepox-Virus,

19. Gelbfieber-Virus,

20. Japan-B-Enzephalitis-Virus;

b. Rickettsiae (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entwe- der in Form isolierter lebender Kulturen oder als Mate- rial mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kul- turen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1. Coxiella burnetii,

2. Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickett-

sia quintana),

3. Rickettsia prowasecki,

4. Rickettsia rickettsii;

c. Bakterien (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entwe- der in Form isolierter lebender Kulturen oder als Mate- rial mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kul- turen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1. Bacillus anthracis,

2. Brucella abortus,

3. Brucella melitensis,

4. Brucella suis,

5. Chlamydia psittaci,

6. Clostridium botulinum,

7. Francisella tularensis,

8. Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei),

9. Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudo-

mallei),

10. Salmonella typhi,

11. Shigella dysenteriae,

12. Vibrio cholerae,

13. Yersinia pestis;

d. Toxine wie folgt und deren Toxinuntereinheiten:

1. Clostridium-botulinum-Toxine,

2. Clostridium-perfringens-Toxine,

3. Conotoxin,

4. Ricin,

5. Saxitoxin,

6. Shiga-Toxin,

7. Staphylococcus-aureus-Toxine,

8. Tetrodotoxin,

9. Verotoxin,

10. Microcystin (Cyanoginosin),

11. Aflatoxine.

Anmerkung: Nummer 1C351 erfasst keine Impfstoffe oder Immunotoxine.

Güterkontrollverordnung AS 1999

1C352 Tierpathogene Erreger wie folgt: A.4 OGB (A) a. Viren (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in T: keine Form isolierter lebender Kulturen oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1. Afrikanisches Schweinepest-Virus,

2. Aviäre Influenza-Viren wie folgt:

a. uncharakterisiert oder b. Viren mit hoher Pathogenität gemäss EU-Richtlinie 92/40/EWG (ABl. Nr. L 167 vom 22. 06. 1992, S. 1) wie folgt:

1. Typ-A-Viren mit einem IVPI (intravenöser

Pathogenitätsindex) in 6 Wochen alten Hüh- nern grösser als 1,2 oder

2. Typ-A-Viren vom Subtyp H5 oder H7, für wel-

che die Nukleotid-Sequenzierung an der Spalt- stelle für Hämagglutinin multiple basische Aminosäuren aufweist,

3. Bluetongue-Virus,

4. Maul- und Klauenseuche-Virus,

5. Ziegenpockenvirus,

6. Aujeszky-Virus,

7. Schweinepest-Virus (Hog cholera-Virus),

8. Lyssa-Virus,

9. Newcastle-Virus,

10. Virus der Pest der kleinen Wiederkäuer,

11. Schweine-Entero-Virus vom Typ 9 (Virus der

vesikulären Schweinekrankheit),

12. Rinderpest-Virus,

13. Schafpocken-Virus,

14. Teschen-Virus (Teschen/Talfan-Virus),

15. Vesikuläre Stomatitis-Virus;

b. Mycoplasma mycoides (natürlich, adaptiert oder modifi- ziert, entweder in Form isolierter lebender Kulturen oder als Material mit lebendem Material, das gezielt mit solchen Mycoplasma mycoides geimpft oder kontami- niert ist). Anmerkung: Nummer 1C352 erfasst keine Impfstoffe. 1C353 Genetisch modifizierte Mikroorganismen wie folgt: A.4 OGB (A) a. genetisch modifizierte Mikroorganismen oder genetische T: keine Elemente, die Nukleinsäuresequenzen enthalten, welche mit der Pathogenität der von Unternummer 1C351a bis nismen assoziiert sind;

Güterkontrollverordnung AS 1999

b. genetisch modifizierte Mikroorganismen oder genetische Elemente, die eine Nukleinsäuresequenz-Kodierung für eines der von Unternummer 1C351d erfassten Toxine oder deren Toxinuntereinheiten enthalten. 1C354 Pflanzenpathogene Erreger wie folgt: A.4 OGB (A) a. Bakterien (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entwe- T: keine der in Form isolierter lebender Kulturen oder als Mate- rial, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1. Xanthomonas albilineans,

2. Xanthomonas campestries pv. citri, einschliesslich

darauf zurückzuführender Stämme, wie Xanthomonas campestris pv. citri Typen A, B, C, D, E oder anders klassifizierte wie Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia oder Xanthomonas pv. campestris pv. citromelo; b. Pilze (natürlich, adaptiert oder modifiziert, entweder in Form isolierter lebender Kulturen oder als Material, das gezielt mit solchen Kulturen geimpft oder kontaminiert ist) wie folgt:

1. Colletotrichum coffeanum var. virulans

(Colletotrichum kahawae),

2. Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium ory-

zae),

3. Micricyclus ulei (syn. Dothidella ulei),

4. Puccinia graminis (syn. Puccinia graminis f. sp. triti-

ci),

5. Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum),

6. Magnaporthe grisea (Pyricularia grisea/Pyricularia

oryzae).

1D Datenverarbeitungsprogramme (Software) 1D001 Software, besonders entwickelt oder geändert für die A.4 OGB (W, N) Entwicklung, Herstellung oder Verwendung der von T: keine (M) Nummer 1B001, 1B002 und 1B003 erfassten Ausrüs- tung. 1D002 Software für die Entwicklung von Laminaten oder Ver- A.4 OGB (W) bundwerkstoffen mit einer Matrix aus organischen Stof- T: keine fen, Metallen oder Kohlenstoff. 1D101 Software, ausschliesslich entwickelt für die Verwendung A.4 OGB (M) der von Nummer 1B101 erfassten Ausrüstung. T: keine 1D103 Software, ausschliesslich entwickelt für die Analyse zur A.4 OGB (M) Reduktion von Messgrössen, wie z. B. Radarreflexion, T: keine Ultraviolett-/Infrarot-Rückstrahlung oder Schallsigna- tur.

Güterkontrollverordnung AS 1999

1D201 Software, besonders entwickelt für die Verwendung der A.4 OGB (N) von Nummer 1B201 erfassten Ausrüstung. T: keine

1E Technologie 1E001 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technologie- A.4 OGB (W, M) Anmerkung für die Entwicklung oder Herstellung von T: keine (N,A) Ausrüstung oder Werkstoffen, die von Unternummer 1C erfasst werden. 1E002 Technologie wie folgt: (W) a. Technologie für die Entwicklung oder Herstellung von A.4 frei Polybenzothiazolen oder Polybenzoxazolen; T: keine b. Technologie für die Entwicklung oder Herstellung von A.4 frei (Per)fluor-elastomer-Verbindungen, die mindestens ei- T: keine nen Vinylethermonomer enthalten; c. Technologie für die Entwicklung oder Herstellung A.4 frei folgender Ausgangsmaterialien oder keramischer Mate- T: keine rialien, die keine Verbundwerkstoffe sind:

1. Ausgangsmaterialien mit allen folgenden Eigenschaf-

ten: a. eine der folgenden Zusammensetzungen:

1. einfache oder komplexe Oxide des Elements

Zirkonium und komplexe Oxide der Elemente Silizium oder Aluminium,

2. einfache Nitride des Elements Bor (kubisch kri-

stalline Formen),

3. einfache oder komplexe Carbide der Elemente

Silizium oder Bor oder

4. einfache oder komplexe Nitride des Elements

Silizium, b. Summe der metallischen Verunreinigungen, ohne beigemischte Zusätze, kleiner als:

1. 1000 ppm für einfache Oxide oder Carbide oder

2. 5000 ppm für komplexe Verbindungen oder

einfache Nitride und c. mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. durchschnittliche Partikelgrösse kleiner/gleich

5 µm und nicht mehr als 10% aller Partikel

grösser als 10 µm oder Anmerkung: Für Zirkoniumoxid betragen die entsprechenden Grenzwerte 1 µm und 5 µm.

2. mit allen folgenden Eigenschaften:

a. Plättchen mit einem Verhältnis Länge zu Dicke grösser als 5,

Güterkontrollverordnung AS 1999

b. Whiskers mit einem Verhältnis Länge zu Durchmesser grösser als 10 bei Durchmessern kleiner als 2 µm und c. kontinuierliche oder geschnittene Fasern mit einem Durchmesser kleiner als 10 µm,

2. Keramikmaterialien, die keine Verbundwerkstoffe sind

und die aus von Unternummer 1E002c¹ erfassten Materialien bestehen; Anmerkung: Unternummer 1E002c² erfasst nicht Technologie für die Entwicklung oder Herstellung von Schleifmitteln. d. Technologie für die Herstellung aromatischer Poly- A.4 frei amidfasern; T: keine e. Technologie für die Installation, Wartung oder Reparatur A.4 OGB der von Nummer 1C001 erfassten Werkstoffe; T: keine f. Technologie für die Reparatur der von Nummer 1A002, A.4 OGB Unternummer 1C007c oder 1C007d erfassten Verbund- T: keine werkstoff-Strukturen, Laminate oder Werkstoffe. Anmerkung: Unternummer 1E002f erfasst nicht Technologie für die Repa- ratur von Strukturen ziviler Luftfahrzeuge, die faser- oder fa- denförmige Materialien aus Kohlenstoff und Epoxyharzen verwenden entsprechend den Handbüchern des Luftfahrzeug- herstellers. 1E101 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (M) gie-Anmerkung für die Verwendung von Waren oder T: keine Software, erfasst von Nummer 1A102, 1B001, 1B101, 1E102 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (M, N) gie-Anmerkung für die Entwicklung von Software, er- T: keine 1E103 Technologie zur Temperatur-, Druck- und Atomsphä- A.4 OGB (M) renregelung in Autoklaven oder Hydroklaven für die T: keine Herstellung von Verbundwerkstoffen oder von teilweise verarbeiteten Verbundwerkstoffen. 1E104 Technologie zur Herstellung pyrolytisch erzeugter Ma- A.4 OGB (M) terialien, die in einer Form, auf einem Dorn oder einem T: keine anderen Substrat aus Vorstufengasen abgeschieden werden, die in einem Temperaturbereich von 1573 K (1300 °C) bis 3173 K (2900 °C) bei einem Druck von

130 Pa bis 20 kPa zerfallen.

Anmerkung: Nummer 1E104 gilt auch für Technologie für die Bildung von Vorstufengasen, Durchflussraten sowie Prozesssteuerungsplänen und -parametern.

Güterkontrollverordnung AS 1999

1E201 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (N) gie-Anmerkung für die Verwendung von Waren oder T: keine Software, erfasst von Nummer 1A002, 1A202 bis 1A227, 1E202 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (N) gie-Anmerkung für die Entwicklung oder Herstellung T: keine von Waren, erfasst von Nummer 1A202 bis 1A227. 1E203 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (N) gie-Anmerkung für die Entwicklung von Software, er- T: keine fasst von Nummer 1D201.

2 Werkstoffbearbeitung

2A Systeme, Ausrüstung und Bestandteile Anmerkung zu Nummer 2A: Geräuscharme Lager: Siehe Anhang 3. 2A001 Wälzlager und Lagersysteme wie folgt und Bestandteile A.4 frei (W) hierfür: T: 5000 Anmerkung: Nummer 2A001 erfasst nicht Kugeln mit einer vom Hersteller spezifizierten Toleranz gemäss ISO 3290 Grad 5 oder schlechter. a. Kugellager und Rollenlager mit einer vom Hersteller spezifizierten Toleranz gemäss ABEC 7, ABEC 7P, ABEC 7T oder ISO-Norm Klasse 4 oder besser (oder vergleichbaren nationalen Normen) und mit Ringen, Kugeln oder Rollen aus Monel-Metall oder Beryllium; Anmerkung: Unternummer 2A001a erfasst nicht Kegelrollenlager. b. Andere Kugel- oder Rollenlager mit einer vom Herstel- ler spezifizierten Toleranz gemäss ABEC 9, ABEC 9P oder ISO-Norm Klasse 2 oder besser (oder vergleichba- ren nationalen Normen); Anmerkung: Unternummer 2A001b erfasst nicht Kegelrollenlager. c. Aktive Magnetlagersysteme mit einer der folgenden Ei- genschaften:

1. Einsatz von Materialien mit einer magnetischen

Flussdichte grösser/gleich 2,0 T und einer Streckgren- ze grösser als 414 MPa,

2. Verwendung von vollelektromagnetischen 3D homo-

polar vormagnetisierten Konstruktionen für Aktuato- ren oder

3. Verwendung von Hochtemperatur- (450 K [177 °C]

und höher) Positionssensoren.

Güterkontrollverordnung AS 1999

2A225 Tiegel aus Materialien, die gegen flüssige, geschmolzene A.4 OGB (N) Aktiniden-Metalle resistent sind, wie folgt: T: 1000 a. Tiegel mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Fassungsvermögen von 150 cm3 bis 8000 cm3, und

2. hergestellt aus oder ausgekleidet mit einem der

folgenden Materialien der Reinheit grösser/gleich

98 Gew.-%:

a. Calziumfluorid (Ca F², b. Calziummetazirkonat (Ca Zr O3), e. Hafniumoxid (Hf O², f. Magnesiumoxid (Mg O), g. nitridhaltige Niob-Titan-Wolfram-Legierungen (etwa 50% Nb, 30% Ti, 20% W), i. Zirkondioxid (Zr O²; b. Tiegel mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Fassungsvermögen von 50 cm3 bis 2000 cm3 und

2. hergestellt aus oder ausgekleidet mit Tantal der Rein-

heit grösser/gleich 99,9 Gew.-%; c. Tiegel mit allen folgenden Eigenschaften:

2. hergestellt aus oder ausgekleidet mit Tantal der Rein-

heit grösser/gleich 98 Gew.-% und

3. beschichtet mit Tantalkarbid, Tantalnitrid oder Tan-

talborid oder jeder Kombination hieraus. 2A226 Ventile mit allen folgenden Eigenschaften: A.4 OGB (N) a. Nennweite grösser/gleich 5 mm, T: 1000 b. mit Federbalgabdichtung, und c. ganz aus Aluminium, Aluminiumlegierungen, Nickel oder Nickellegierungen mit mehr als 60 Gew.-% Nickel hergestellt oder damit ausgekleidet. Anmerkung: Bei Ventilen mit unterschiedlichem Einlass- und Auslassdurch- messer bezieht sich die in Nummer 2A226 genannte Nennweite auf den kleineren der beiden Durchmesser.

2B Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen Technische Anmerkungen:

1. In der Summe der bahnsteuerungsfähigen Achsen werden

zweite parallele bahnsteuerungsfähige Achsen nicht gezählt, z. B. die W-Achse in Horizontal-Bohrwerken oder ein zweiter Rundtisch, dessen Mittelpunktslinie parallel zu der des ersten Rundtisches verläuft.

Güterkontrollverordnung AS 1999

Ergänzende Anmerkung: Als Rundachsen werden auch solche Achsen bezeichnet, die nicht 360° drehen können. Eine Rundachse kann von Linearsy- stemen angetrieben werden, z. B. einer Schraube oder einem Zahnrad und einer Zahnstange.

2. Die Achsenbezeichnungen entsprechen der Internationalen

Norm ISO 841, «Numerisch gesteuerte Maschinen – Achsen- und Bewegungsbezeichnungen».

3. Im Sinne der Nummern 2B001 bis 2B009 zählt eine Schwenk-

spindel als Rundachse.

4. Anstelle von individuellen Testprotokollen können für jedes

Werkzeugmaschinenmodell amtliche Werte für die Positionier- genauigkeit herangezogen werden, die aus Messungen nach ISO 230/2 (1988) bzw. nach ISO 230/2 (1997). Anmerkung: Der amtliche Wert für die Positioniergenauigkeit bezeichnet den Genauigkeitswert, der von der zuständigen Bewilligungs- stelle als repräsentativ für die Genauigkeit eines Maschinen- modells festgestellt wird. Bestimmung der amtlichen Werte:

1. Auswahl von fünf Maschinen eines zu bewertenden Modells.

2. Messung der Genauigkeiten entlang der Linearachse nach

ISO 230/2 (1988) bzw. nach ISO 230/2 (1997).

3. Bestimmung der A-Werte für jede Achse jeder Maschine.

Das Verfahren für die Berechnung des A-Wertes ist in der ISO-Norm beschrieben.

4. Bestimmung des Mittelwertes des A-Wertes für jede Achse.

Dieser Mittelwert Â-Wert wird der amtliche Wert für jede Achse des Modells (Âx, Ây, ...).

5. Da sich die Liste der Kategorie 2 auf jede Linearachse be-

zieht, gibt es für jede Linearachse einen entsprechenden amtlichen Wert.

6. Hat eine Achse eines Maschinenmodells, das nicht von den

erfasst wird, einen amtlichen Wert für die Genauigkeit  von 0,0060 mm gemäss ISO 230/2 (1988) bzw. 0,005 mm gemäss ISO 230/2 (1997) bei Schleifmaschinen und 0,0080 mm gemäss ISO 230/2 (1988) bzw. 0,0065 mm gemäss ISO 230/2 (1997) bei Fräs- und Drehmaschinen oder bessere Werte, ist der Hersteller aufgefordert, den Genauigkeitswert alle 18 Monate zu bestätigen. 2B001 Werkzeugmaschinen wie folgt und eine beliebige Kom- bination von diesen, für das Abtragen (oder Schneiden) von Metallen, Keramiken oder Verbundwerkstoffen, die gemäss den technischen Spezifikationen des Herstellers mit elektronischen Geräten zur numerischen Steuerung ausgerüstet werden können: Anmerkung: Siehe auch Nummer 2B201. (W, N) a. Werkzeugmaschinen für Drehbearbeitung mit allen fol- A.4 OGB genden Eigenschaften: T: 5000

1. Positioniergenauigkeit mit allen verfügbaren Kom-

pensationen von kleiner (besser) / gleich 6 µm nach ISO 230/2 (1988) bzw. 4,5 µm nach ISO 230/2 (1997) entlang einer Linearachse und

Güterkontrollverordnung AS 1999

2. zwei oder mehr Achsen zur simultanen Bahnsteuerung;

Anmerkung: Unternummer 2B001a erfasst keine Drehmaschinen, besonders konstruiert für die Bearbeitung von Kontaktlinsen. (W, N) b. Werkzeugmaschinen für Fräsbearbeitung mit einer der A.4 OGB folgenden Eigenschaften: T: 5000

1. a. Positioniergenauigkeit mit allen verfügbaren Kom-

pensationen von kleiner (besser) / gleich 6 µm nach ISO 230/2 (1988) bzw. 4,5 µm nach ISO 230/2 (1997) entlang einer Linearachse und b. drei Achsen plus einer Rundachse zur simultanen Bahnsteuerung,

2. fünf oder mehr Achsen zur simultanen Bahnsteuerung

oder

3. Positioniergenauigkeit für Lehrenbohrmaschinen, mit

allen verfügbaren Kompensationen, von kleiner (besser) / gleich 4 µm nach ISO 230/2 (1988) bzw.

3 µm nach ISO 230/2 (1997) entlang einer

Linearachse; (W, N) c. Werkzeugmaschinen für Schleifbearbeitung mit einer A.4 OGB der folgenden Eigenschaften: T: 5000

1. a. Positioniergenauigkeit mit allen verfügbaren Kom-

pensationen von kleiner (besser) / gleich 4 µm nach ISO 230/2 (1988) bzw. 3 µm nach ISO 230/2 (1997) entlang einer Linearachse und b. drei oder mehr Achsen zur simultanen Bahnsteue- rung oder

2. fünf oder mehr Achsen zur simultanen Bahnsteue-

rung; Anmerkung: Unternummer 2B001c erfasst nicht folgende Schleifmaschinen:

1. Aussenrund-, Innenrund-, Aussenrund-/Innenrund-

Schleifmaschinen mit allen folgenden Merkmalen: a. Begrenzung auf Rundschleifen und b. maximaler Arbeitsbereich von 150 mm Aussendurchmes- ser oder Länge,

2. Maschinen, besonders konstruiert als Koordinatenschleif-

maschinen, mit einer der folgenden Eigenschaften: a. die C-Achse wird verwendet, um die Schleifscheibe senk- recht zur Oberfläche zu halten, oder b. die A-Achse ist zum Schleifen von Trommelkurven be- stimmt,

3. Werkzeugschleif- oder -schärfmaschinen, beschränkt auf die

Herstellung von Werkzeugen,

4. Kurbelwellen- und Nockenwellenschleifmaschinen,

5. Flachschleifmaschinen.

(W, N) d. Funkenerosionsmaschinen (EDM) – Senkerodierma- A.4 OGB schinen – mit zwei oder mehr Drehachsen, die für eine T: 5000 Bahnsteuerung simultan koordiniert werden können;

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(W) e. Werkzeugmaschinen zum Abtragen von Metallen, Ke- A.4 frei ramiken oder Verbundwerkstoffen T: 5000

1. mittels

a. Wasser oder anderen Flüssigkeitsstrahlen, ein- schliesslich solcher, die abrasive Zusätze enthalten, b. Elektronenstrahlen oder c. Laserstrahlen und

2. mit zwei oder mehr Drehachsen, welche

a. für eine Bahnsteuerung simultan koordiniert wer- den können und b. eine Positioniergenauigkeit besser als 0,003° ha- ben; (W) f. Tiefloch-Bohrmaschinen und Drehmaschinen, herge- A.4 OGB richtet zum Tieflochbohren, mit einer maximalen Bohr- T: 5000 tiefe über 5000 mm und besonders konstruierte Be- standteile hierfür. 2B003 Numerisch gesteuerte oder manuell bedienbare Werk- A.4 OGB (W) zeugmaschinen und besonders konstruierte Bestandtei- T: 5000 le, Steuerungen und Zubehör hierfür, besonders kon- struiert für Schabradbearbeitung, Feinbearbeitung, Schleifen oder Honen von gehärteten (Rc = 40 oder mehr) geradeverzahnten, schrägverzahnten und pfeil- verzahnten Rädern mit einem Teilkreisdurchmesser grösser als 1250 mm und einer Zahnbreite von 15% oder mehr des Teilkreisdurchmessers, feinbearbeitet mit einer Qualität AGMA 14 oder besser (entsprechend ISO 1328 Klasse 3). 2B004 Heiss-Isostatische Pressen mit allen folgenden Eigen- A.4 OGB (W, M) schaften und besonders konstruierte Bestandteile und T: 1000 (N) Zubehör hierfür: Anmerkung: a. mit geregelter thermischer Umgebung innerhalb des ge- schlossenen Kammerraums und Innendurchmesser (lichte Weite) des Kammerraums von 406 mm oder mehr und b. mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. maximaler Arbeitsdruck grösser als 207 MPa,

2. geregelter thermischer Umgebung grösser als 1773 K

(1500 °C) oder

3. mit einer Einrichtung zum Imprägnieren mit Kohlen-

wasserstoffen und zur Entfernung entstehender gas- förmiger Reaktionsprodukte. Technische Anmerkung: Die lichte Weite des Kammerraums bezieht sich auf die Kam- mer, in der sowohl die Arbeitstemperatur als auch der Arbeits-

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druck erreicht werden, und schliesst Spannvorrichtungen nicht mit ein. Sie ist die Abmessung der kleineren Kammer, entweder die lichte Weite der Druckkammer oder die lichte Weite der isolierten Ofenkammer, je nachdem, welche der beiden Kam- mern sich innerhalb der anderen befindet. Ergänzende Anmerkung: Für besonders konstruierte Formen, Gesenke und Werkzeuge siehe Nummer 1B003, 9B009 und Anhang 3. 2B005 Ausrüstung, besonders konstruiert für die Abscheidung, A.4 frei (W) Bearbeitung und Verfahrenskontrolle von anorgani- T: 5000 schen Auflageschichten, sonstigen Schichten und ober- flächenverändernden Schichten, wie folgt, auf Substrate für nichtelektronische Anwendungen durch Verfahren, die in der nach Unternummer 2E003f aufgeführten Ta- belle nebst zugehörigen Anmerkungen dargestellt sind, und besonders konstruierte Bauteile zur automatischen Handhabung, Positionierung, Bewegung und Regelung hierfür: a. speicherprogrammierbare Herstellungsausrüstung für die chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD = chemical vapour deposition) mit allen folgenden Eigen- schaften:

1. Verwendung eines für eine der folgenden Beschich-

tungsarten abgeänderten Verfahrens: a. CVD-Beschichten bei pulsierendem Druck, b. thermische Beschichtung mit geregelter Keimbil- dung (CNTD = controlled nucleation thermal de- composition) oder c. plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD- Beschichten und

2. mit einer der folgenden Eigenschaften:

a. mit rotierenden Hochvakuumdichtungen (Druck kleiner/gleich 0,01 Pa) oder b. mit Schichtdickenüberwachung in der Anlage; b. speicherprogrammierbare Herstellungsausrüstung für die Ionenimplantation mit Strahlströmen grösser/gleich 5 mA; c. speicherprogrammierbare Herstellungsausrüstung für die physikalische Beschichtung aus der Dampfphase (PVD = physical vapour deposition) mittels Elektronen- strahl (EB-PVD) mit einer Stromversorgungsanlage von mehr als 80 kW Nennleistung und mit einer der folgen- den Eigenschaften:

1. mit eingebautem Laser-Regelsystem für den Stand des

Flüssigkeitsbads, das die Zufuhrgeschwindigkeit des Schichtwerkstoffs genau regelt, oder

2. mit eingebautem Monitor zur rechnergesteuerten

Überwachung der Abscheiderate bei einer Schicht aus zwei oder mehreren Elementen, wobei das Verfahren

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auf dem Prinzip der Fotolumineszenz der inonisierten Atome im Dampfstrahl beruht; d. speicherprogrammierbare Herstellungsausrüstung für das Plasmaspritzen mit einer der folgenden Eigenschaf- ten:

1. Betrieb in geregelter Schutzgasatmosphäre bei verrin-

gertem Druck (kleiner/gleich 10 kPa, gemessen ober- halb des Spritzdüsenaustritts und innerhalb eines Um- kreises von 300 mm um den Austritt) in einer Vaku- umkammer, in welcher der Druck vor dem Spritzvor- gang auf 0,01 Pa reduziert werden kann oder

2. mit Schichtdickenüberwachung in der Anlage;

e. speicherprogrammierbare Herstellungsausrüstung für die Kathodenzerstäubungs-(Sputter-)Beschichtung, ge- eignet für Stromdichten von 0,1 mA/mm² oder höher bei einer Beschichtungsrate grösser/gleich 15 µm/h; f. speicherprogrammierbare Herstellungsausrüstung für die Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs- Beschichtung (cathodic arc deposition), die über ein Gitter aus Elektromagneten zur Steuerung des Auftreff- punkts des Lichtbogens auf der Kathode verfügt; g. speicherprogrammierbare Herstellungsausrüstung zur Ionenplattierung, die in der Anlage die Messung einer der folgenden Eigenschaften ermöglicht:

1. Schichtdicke auf dem Substrat und Abscheidege-

schwindigkeit oder

2. optische Eigenschaften.

Anmerkung: Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Be- schichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs- Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs- Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanen- den Bearbeitung. 2B006 Koordinatenmessmaschinen oder -geräte wie folgt: A.4 OGB (W, N) a. rechnergesteuerte, numerisch gesteuerte oder speicher- T: 5000 programmierbare Koordinatenmessmaschinen, mit einer dreidimensionalen (volumetrisch) Längen- Messunsicherheit kleiner (besser)/gleich (1,7 + L/1000) µm (L ist die Messlänge in mm), geprüft entsprechend ISO 10360-2; Anmerkung: Siehe auch Nummer 2B206. (W, N) b. Linear- und Winkelmesseinrichtungen wie folgt: A.4 OGB

1. lineare Messgeräte mit einer der folgenden Eigen- T: 5000

schaften:

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a. berührungslose Messsysteme mit einer Auflösung kleiner (besser)/gleich 0,2 µm in einem Messbe- reich bis 0,2 mm, b. Linearspannungs-Differenzialtransformatoren mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Linearität kleiner (besser)/gleich 0,1% innerhalb

eines Messbereichs bis zu 5 mm und

2. Drift kleiner (besser)/gleich 0,1% pro Tag bei

Standardumgebungstemperatur im Prüfraum ± 1 K oder c. Messsysteme mit allen folgenden Eigenschaften:

1. sie enthalten einen Laser,

2. sie behalten über mindestens 12 Stunden über

einen Temperaturbereich von ±1 K um eine Standardtemperatur und bei einem Standard- druck alle folgenden Eigenschaften bei: a. Auflösung von ± 0,1 µm oder besser über den vollen Messbereich und b. Messunsicherheit kleiner (besser)/gleich (0,2 + L/2000) µm (Messlänge L in mm), Anmerkung: Unternummer 2B006b¹ erfasst keine Interferometersysteme ohne geschlossene oder offene Regelkreise, die einen Laser für die Messung von Verfahrbewegungsfehlern von Werk- zeugmaschinen, Messmaschinen oder ähnlichen Geräten enthalten.

2. Winkelmessgeräte mit einer Winkelpositionsabwei-

chung kleiner (besser)/gleich 0,00025 Grad; Anmerkung: Unternummer 2B006b² erfasst nicht optische Geräte, z. B. Autokollimatoren, die ausgeblendetes Licht benutzen, um die Winkelverstellung eines Spiegels festzustellen. (W) c. Ausrüstung zur Messung von Oberflächenunebenheiten A.4 frei mittels optischer Streuung als eine Funktion des Winkels T: 5000 mit einer Empfindlichkeit kleiner (besser)/gleich 0,5 nm. Anmerkungen:

1. Werkzeugmaschinen, die auch als Messmaschinen verwen-

det werden können, werden erfasst, wenn sie die für Werk- zeugmaschinen- oder Messmaschinenfunktionen festgeleg- ten Kriterien erreichen oder überschreiten.

2. Eine in Nummer 2B006 genannte Maschine wird erfasst,

wenn sie die Erfassungsschwelle innerhalb ihres Arbeitsbe- reiches überschreitet. 2B007 Roboter mit einer der folgenden Eigenschaften sowie be- sonders konstruierte Steuerungen und Endeffektoren hierfür: Anmerkung: Siehe auch Nummer 2B207.

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(W) a. geeignet zur Verarbeitung oder Auswertung von voll- A.4 frei ständigen dreidimensionalen Bilddaten in Echtzeit, um T: 5000 Programme und numerische Programmdaten zu erzeu- gen oder zu verändern, Anmerkung: Die Begrenzung der Bildauswertung schliesst nicht die Annä- herung an die dritte Dimension durch Wahl eines bestimmten Blickwinkels oder eine begrenzte Grauwert-Interpretation zur Wahrnehmung von Tiefe und Struktur für die jeweils vorgese- henen Aufgaben ein (21/2 D). (W, N) b. besonders konstruiert zur Erfüllung nationaler Sicher- A.4 OGB heitsvorschriften für explosionsgefährliche Munitions- T: 1000 Umgebungen, (W, N) c. besonders konstruiert oder ausgelegt als strahlungsge- A.4 OGB härtet, um ohne Funktionseinbusse einer Strahlendosis T: 1000 von 5 × 103 Gy (Si) standhalten zu können oder Technische Anmerkung: Der Ausdruck Gy (Silizium) bezieht sich auf die in Joules pro Kilogramm ausgedrückte Energie, die von einer ionisierender Strahlung ausgesetzten Probe von nicht abgeschirmtem Sili- zium absorbiert wird. (W) d. besonders konstruiert für Betriebsfähigkeit in Höhen A.4 frei über 30 000 m. T: 5000 2B008 Baugruppen, Baueinheiten oder Einsätze, besonders A.4 OGB (W, N) konstruiert für Werkzeugmaschinen oder von Nummer T: 1000 2B006 oder 2B007 erfasste Ausrüstung, wie folgt: a. lineare Positions-Rückmeldeeinheiten (z. B. induktive Geber, Massskalen, Infrarot-Systeme oder Laser- Systeme) mit einer Gesamtgenauigkeit besser als [800 + (600 × L × 10–3)] nm (L ist die nutzbare Länge in mm); Anmerkung: Laser-Systeme: Siehe auch Anmerkung zu Unternummer b. Winkel-Positions-Rückmeldeeinheiten (z. B. induktive Geber, Massskalen, Infrarot-Systeme oder Laser-Systeme) mit einer Genauigkeit besser als ± 0,00025 Grad; Anmerkung: Laser-Systeme: Siehe auch Anmerkung zu Unternummer 2B006b¹. c. Kombinierte Schwenk-Rundtische und Schwenkspindeln, die nach Spezifikation des Herstellers Werkzeugmaschi- nen auf oder über das in Nummer 2B angegebene Niveau verbessern können. 2B009 Drück- und Fliessdrückmaschinen, die nach der techni- A.4 OGB (W, N) schen Beschreibung des Herstellers mit numerischen T: 5000 Steuerungen oder Rechnersteuerungen ausgerüstet werden können und mit allen folgenden Eigenschaften:

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Anmerkung: a. mit zwei oder mehr Achsen, bei denen mindestens zwei simultan für die Bahnsteuerung koordiniert werden kön- nen und b. mit einer Supportkraft grösser als 60 kN. Technische Anmerkung: Maschinen mit kombinierter Drück- und Fliessdrückfunktion wer- den im Sinne von Nummer 2B009 als Fliessdrückmaschinen be- trachtet. 2B104 Ausrüstung und Prozesssteuerungen, konstruiert oder A.4 OGB (M, N) geändert zur Verdichtung und Pyrolyse von Struktur- T: 1000 Verbundwerkstoffen für Raketendüsen und Bugspitzen von Wiedereintrittskörpern. Anmerkung: Nummer 2B104 schliesst nur die folgenden isostatischen Pressen und Öfen ein: a. Isostatische Pressen, die nicht von Nummer 2B004 er- fasst werden, mit allen folgenden Eigenschaften:

1. maximaler Arbeitsdruck grösser/gleich 69 MPa,

2. konstruiert, um eine geregelte thermische Umgebung

grösser/gleich 873 K (600 °C) zu erreichen und auf- rechtzuerhalten und

3. lichte Weite des Kammerraums (Innendurchmesser)

grösser/gleich 254 mm, b. Öfen zur chemischen Beschichtung aus der Gasphase (CVD), konstruiert oder geändert für die Verdichtung von Kohlenstoff-Kohlenstoff-Verbundwerkstoffen. 2B109 Fliessdrückmaschinen, die nicht von Nummer 2B009 er- A.4 OGB (M, N) fasst werden, und ausschliesslich konstruierte Bestand- T: 5000 teile hierfür, die: Anmerkung: Siehe auch Nummer 2B209. a. nach der technischen Spezifikation des Herstellers mit ei- ner numerischen Steuerung oder einer Rechnersteuerung ausgerüstet werden können, auch wenn sie zum Zeitpunkt der Lieferung nicht damit ausgestattet sind und b. über mehr als zwei Achsen verfügen, die simultan für die Bahnsteuerung koordiniert werden können. Technische Anmerkungen:

1. Maschinen mit kombinierter Fliessdrück- und Drückfunktion

werden im Sinne von Nummer 2B109 als Fliessdrückmaschi- nen betrachtet.

2. Nummer 2B109 erfasst nur Maschinen, die zur Herstellung von

Antriebskomponenten und -ausrüstung (z. B. Motorgehäuse) erfasste Systeme geeignet sind.

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2B116 Vibrationsprüfsysteme, Ausrüstung und Bestandteile A.4 OGB (M, N) hierfür, wie folgt: T: 1000 a. Vibrationsprüfsysteme mit Rückkopplungs- oder Closed-Loop-Technik mit integrierter digitaler Steue- rung, geeignet für Vibrationsbeanspruchungen des Prüf- lings mit grösser/gleich 10 g* rms im gesamten Fre- quenzbereich zwischen 20 Hz und 2000 Hz und bei Übertragungskräften grösser/gleich 50 kN, gemessen am «Prüftisch»; b. Digitale Steuerungen in Verbindung mit ausschliesslich für Vibrationsprüfung entwickelter Software, mit einer Echtzeit-Bandbreite grösser/gleich 5 kHz und konstru- iert zum Einsatz in den von Unternummer 2B116a er- fassten Systemen; c. Schwingerreger (Shaker units) mit oder ohne zugehörige Verstärker, geeignet für Übertragungskräfte von grösser/ gleich 50 kN, gemessen am «Prüftisch», und geeignet für die von Unternummer 2B116a erfassten Systeme; d. Prüflingshaltevorrichtungen und Elektronikeinheiten, konstruiert um mehrere Schwingerreger zu einem Schwingerregersystem, das Übertragungskräfte grösser/ gleich 50 kN, gemessen am «Prüftisch», erzeugen kann, zusammenzufassen, und geeignet für die von Unter- nummer 2B116a erfassten Systeme. Anmerkung: Ein «Prüftisch» im Sinne von Nummer 2B116 ist ein flacher Tisch oder eine flache Oberfläche ohne Aufnahmen oder Halterungen. 2B201 Werkzeugmaschinen, die nicht von Nummer 2B001 er- A.4 OGB (N) fasst werden, wie folgt für das Abtragen oder Schneiden T: 5000 von Metallen, Keramiken oder Verbundwerkstoffen, die gemäss den technischen Spezifikationen des Herstellers mit elektronischen Geräten zur simultanen Bahnsteue- rung in zwei oder mehr Achsen ausgerüstet werden können: a. Werkzeugmaschinen für Fräsbearbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Positioniergenauigkeit mit allen verfügbaren Kom-

pensationen von kleiner (besser)/gleich als 6 µm nach ISO 230/2 (1988) bzw. 4,5 µm nach ISO 230/2 (1997) entlang einer Linearachse oder

2. zwei oder mehr bahnsteuerfähigen Rundachsen;

* Erdbeschleunigung (9,81m/sec²

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Anmerkung: Unternummer 2B201a erfasst keine Fräsmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften: a. Verfahrweg der X-Achse grösser als 2000 mm und b. Gesamtpositioniergenauigkeit der X-Achse grösser (schlechter) als 30 µm. b. Werkzeugmaschinen für Schleifbearbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Positioniergenauigkeit mit allen verfügbaren Kom-

pensationen von kleiner (besser)/gleich 4 µm nach ISO 230/2 (1988) bzw. 3 µm nach ISO 230/2 (1997) entlang einer Linearachse oder

2. zwei oder mehr bahnsteuerfähige Rundachsen.

Anmerkung: Unternummer 2B201b erfasst nicht folgende Schleifmaschinen: a. Aussen-, Innen- und Aussen-/Innen-Rund-Schleifmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Begrenzung auf Rundschleifen,

2. maximaler Arbeitsbereich von 150 mm Aussendurchmes-

ser oder Länge,

3. nur zwei Achsen, die simultan für eine Bahnsteuerung

koordiniert werden können und

4. keine bahnsteuerfähige C-Achse,

b. Koordinatenschleifmaschinen, beschränkt auf die Achsen X, Y, C und A, wobei die C-Achse verwendet wird, um die Schleifscheibe senkrecht zur Arbeitsoberfläche zu halten, und die A-Achse zum Schleifen von Trommelkurven be- stimmt ist, c. Werkzeugschleif- oder -schärfmaschinen mit Software, be- sonders entwickelt für die Herstellung von Werkzeugen, d. Kurbelwellen- und Nockenwellen-Schleifmaschinen. 2B204 Isostatische Pressen, die nicht von Nummer 2B004 oder A.4 OGB (N) 2B104 erfasst werden, und zugehörige Ausrüstung, wie T: 1000 folgt: a. Isostatische Pressen, mit allen folgendenden Eigen- schaften:

1. einem maximalen Arbeitsdruck grösser/gleich 69 MPa

und

2. einer Druckkammer mit einer lichten Weite

(Innendurchmesser) grösser als 152 mm; b. besonders konstruierte Gesenke, Formen oder Steuerun- gen für isostatische Pressen, erfasst von 2B204a. Technische Anmerkung: In Nummer 2B204 bezieht sich die lichte Weite des Kammer- raums auf die Kammer, in der sowohl die Arbeitstemperatur als auch der Arbeitsdruck erreicht werden, und schliesst Spannvor- richtungen nicht mit ein. Sie ist die Abmessung der kleineren Kammer, entweder die lichte Weite der Druckkammer oder die lichte Weite der isolierten Ofenkammer, je nachdem, welche der beiden Kammern sich innerhalb der anderen befindet.

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2B206 Koordinatenmessmaschinen, -geräte oder Systeme, die A.4 OGB (N) nicht von Nummer 2B006 erfasst werden, wie folgt: T: 5000 a. Rechnergesteuerte oder numerisch gesteuerte Koordina- tenmessmaschinen mit allen folgenden Eigenschaften:

1. zwei oder mehr Achsen und

2. eine eindimensionale Längen-Messunsicherheit kleiner

(besser)/gleich (1,25 + L/1000) µm, gemessen mit einem Prüfmittel mit einer Genauigkeit kleiner (besser) als 0,2 µm (L ist die Länge in mm) (Ref. VDI/ VDE 2617 Teil 1 und Teil 2); b. Systeme zum simultanen Messen von Linear- und Win- kelkoordinaten von Halbkugeln mit allen folgenden Ei- genschaften:

1. Messunsicherheit in jeder Achse kleiner (besser)/gleich

3,5 µm auf 5 mm und

2. Winkelpositionsabweichung kleiner/gleich 0,02°.

Anmerkungen:

1. Werkzeugmaschinen, die auch als Messmaschinen verwendet

werden können, werden erfasst, wenn sie die für Werkzeug- maschinen- oder Messmaschinenfunktionen festgelegten Krite- rien erreichen oder überschreiten.

2. Eine in Nummer 2B206 genannte Maschine wird erfasst, wenn

sie die Erfassungsschwelle innerhalb ihres Arbeitsbereiches überschreitet. Technische Anmerkungen:

1. Das Prüfmittel, das bei der Bestimmung der Messunsicherheit

eines Längenmesssystems verwendet wird, soll dem in VDI/VDE 2617 Teil 2, 3 und 4 beschriebenen entsprechen.

2. Alle Parameter für die Messwerte unter 2B206 lassen positive

und negative Abweichungen zu, d.h. sie stellen nicht die ge- samte Bandbreite dar. 2B207 Roboter, Endeffektoren und Steuerungen, die nicht von A.4 OGB (N) Nummer 2B007 erfasst werden, wie folgt: T: 1000 a. Roboter oder Endeffektoren, besonders konstruiert zur Einhaltung nationaler Sicherheitsnormen für die Hand- habung hochexplosiver Stoffe (z. B. Einhaltung elektri- scher Kenndaten bei hochexplosiven Stoffen), b. besonders konstruierte Steuerungen für einen der Roboter oder Endeffektoren, erfasst von Unternummer 2B207a. 2B209 Fliessdrückmaschinen und Drückmaschinen mit Fliess- A.4 OGB (N) drückfunktion, die nicht von Nummer 2B009 oder T: 5000 2B109 erfasst werden, und Dorne, wie folgt: a. Maschinen, mit allen folgenden Eigenschaften:

1. drei oder mehr Rollen (Drückrollen oder Führungsrollen)

und

2. nach der technischen Spezifikation des Herstellers mit nume-

rischer Steuerung oder Rechnersteuerung ausgerüstet;

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b. Dorne zum Formen von zylindrischen Rotoren mit ei- nem Innendurchmesser zwischen 75 mm und 400 mm. Anmerkung: Unternummer 2B209a schliesst Maschinen ein, die nur eine einzi- ge Rolle zur Verformung des Metalls und zwei Hilfsrollen aufwei- sen, die den Dorn abstützen, am Verformungsprozess aber nicht direkt beteiligt sind. 2B225 Fernlenk-Manipulatoren, die für ferngesteuerte Tätig- A.4 OGB (N) keiten bei radiochemischen Trennprozessen oder in Hei- T:1000 ssen Zellen eingesetzt werden können, mit einer der fol- genden Eigenschaften: a. Eignung zur Durchdringung der Wand einer Heissen Zelle mit einer Dicke grösser/gleich 0,6 m (Durch-die- Wand-Modifikation) oder b. Eignung zur Überbrückung der Wand einer Heissen Zelle mit einer Dicke grösser/gleich 0,6 m (Über-die- Wand-Modifikation). Technische Anmerkung: Fernlenk-Manipulatoren ermöglichen die Übertragung der Bewegungen einer Bedienungsperson auf einen ferngelenkten Funktionsarm und eine Endhalterung. Sie können über Master- Slave-Steuerung, Steuerknüppel oder Tastatur bedient werden. 2B226 Mit kontrollierter Atmosphäre (Vakuum oder Schutz- A.4 OGB (N) gas) betriebene Induktionsöfen und Netzgeräte hierfür, T: 1000 wie folgt: Anmerkung: Siehe auch 3B. a. Öfen mit allen folgenden Eigenschaften:

1. geeignet für Betriebstemperaturen grösser 1123 K

(850° C),

2. ausgerüstet mit Induktionsspulen mit einem Innen-

durchmesser kleiner/gleich 600 mm und

3. konstruiert für Eingangsleistungen grösser/gleich 5 kW;

b. Netzgeräte, besonders konstruiert für von Nummer 2B226a erfasste Öfen, mit einer angegebenen Aus- gangsleistung grösser/gleich 5 kW. Anmerkung: Unternummer 2B226a erfasst keine Öfen zur Bearbeitung von Halbleiterwafern. 2B227 Vakuum- oder Schutzgas-Metallschmelz- und Metall- A.4 OGB (N) giessöfen und zugehörige Ausrüstung, wie folgt: T: 1000 a. Lichtbogenöfen (Schmelz-, Umschmelz- und Giessöfen) mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Abschmelzelektrodenvolumen zwischen 1000 cm3

2. geeignet für den Betrieb bei Schmelztemperaturen

über 1973 K (1700 °C);

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b. Elektronenstrahlschmelzöfen und Plasma-Schmelz- oder Plasma-Zerstäubungsschmelzöfen mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Leistung grösser/gleich 50 kW und

2. geeignet für den Betrieb bei Schmelztemperaturen

über 1473 K (1200 °C). c. Rechnersteuerungs- und Überwachungssysteme beson- ders entwickelt für von Unternummer 2B227a oder 2B227b erfasste Öfen. 2B228 Rotorfertigungs- und Rotormontageausrüstung, A.4 OGB (N) Rotorrichtausrüstung, Dorne zur Sickenformung und T: 1000 Gesenke hierfür, wie folgt: a. Rotormontageausrüstung für den Zusammenbau von Gaszentrifugenteilrohren, Scheiben und Enddeckeln; Anmerkung: Unternummer 2B228a schliesst Präzisionsdorne, Haltevorrich- tungen und Einschrumpfvorrichtungen ein. b. Rotorrichtausrüstung zum Ausrichten von Zentrifugen- teilrohren auf eine gemeinsame Achse; Technische Anmerkung: Im Sinne von Unternummer 2B228b besteht diese Ausrüstung üblicherweise aus Präzisionsmesssonden, die mit einem Rech- ner verbunden sind, der die Funktion, z. B. der pneumatisch betriebenen Backen zum Ausrichten der Teilrohre, steuert. c. Dorne zur Sickenformung und Gesenke zur Herstellung von Einfachsicken. Technische Anmerkung: Sicken gemäss Unternummer 2B228c besitzen alle folgenden Eigenschaften:

1. Innendurchmesser zwischen 75 mm und 400 mm,

2. Länge grösser/gleich 12,7 mm,

3. Sickenhöhe grösser als 2 mm und

4. hergestellt aus hochfesten Aluminiumlegierungen, marten-

sitaushärtendem Stahl oder hochfesten faser- oder faden- förmigen Materialien. 2B229 Rotierende Mehrebenenauswuchtmaschinen, festinstal- A.4 OGB (N) liert oder beweglich, horizontal oder vertikal, wie folgt: T: 5000 a. Rotierende Mehrebenenauswuchtmaschinen, konstruiert zum Auswuchten von flexiblen Rotoren mit einer Länge grösser/gleich 600 mm, mit allen folgenden Eigenschaf- ten:

1. Rotor- oder Zapfen-Durchmesser grösser/gleich

75 mm,

2. Tragfähigkeit von 0,9 bis 23 kg und

3. nutzbare Auswuchtdrehzahl grösser als 5000 U/min;

Güterkontrollverordnung AS 1999

b. Rotierende Mehrebenenauswuchtmaschinen, konstruiert zum Auswuchten von hohlzylindrischen Rotorbauteilen, mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Aufnahme-Durchmesser grösser/gleich 75 mm,

2. Tragfähigkeit von 0,9 bis 23 kg,

3. Eignung zum Auswuchten für eine Restunwucht klei-

ner (besser)/gleich 0,01 kgmm/kg pro Auswuchtebene und

4. Riemenantriebsausführung.

2B230 Druckmessgeräte, geeignet zum Messen von Absolut- A.4 OGB (N) drücken im Bereich von 0 bis 13 kPa, mit allen folgen- T: 1000 den Eigenschaften: a. Drucksensoren, die aus Aluminium oder Aluminiumle- gierungen, Nickel, Nickellegierungen mit mehr als

60 Gew.-% Nickel, hergestellt oder damit geschützt sind

und b. mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Messbereich kleiner als 13 kPa und Messgenauigkeit

kleiner (besser) als ± 1% vom Skalenendwert oder

2. Messbereich grösser/gleich 13 kPa und Messgenauig-

keit kleiner (besser) als ± 130 Pa. Technische Anmerkung: Messgenauigkeit im Sinne der Nummer 2B230 schliesst Nichtli- nearität, Hysterese und Reproduzierbarkeit bei Umgebungstempe- ratur ein. 2B231 Vakuumpumpen mit allen folgenden Eigenschaften: A.4 OGB (N) a. Ansaugdurchmesser grösser/gleich 380 mm, T: 1000 c. geeignet zur Erzeugung eines Endvakuumdrucks kleiner als 13 mPa. Technische Anmerkungen:

1. Das Saugvermögen wird am Messpunkt mit Stickstoffgas oder

Luft bestimmt.

2. Der Endvakuumdruck wird an der geschlossenen Saugseite der

Pumpe bestimmt. 2B232 Mehrkammer-Leichtgaskanonen oder andere Hochge- A.4 OGB (N) schwindigkeitsbeschleunigungssysteme (spulenartige, T: 1000 elektromagnetische und elektrothermische Typen und andere fortgeschrittene Systeme), die Projektile auf Ge- schwindigkeiten grösser/gleich 2 km/s beschleunigen können. 2B350 Chemische Herstellungseinrichtungen und Apparate A.4 OGB (A) wie folgt: T: 5000

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a. Reaktionsbehälter oder Reaktoren, mit oder ohne Rüh- rer, mit einem inneren (geometrischen) Gesamtvolumen grösser als 0,1 m3 (100 l) und kleiner als 20 m3 (20 000 l), bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1. Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und

20 Gew.-% Chrom,

2. Fluorpolymere,

3. Glas oder Email,

4. Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als

40 Gew.-% Nickel,

5. Tantal oder Tantal-Legierungen,

6. Titan oder Titan-Legierungen oder

7. Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

b. Rührer für die Verwendung in Reaktionskesseln oder Reaktoren, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1. Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und

20 Gew.-% Chrom,

2. Fluorpolymere,

3. Glas oder Email,

4. Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als

40 Gew.-% Nickel,

5. Tantal oder Tantal-Legierungen,

6. Titan oder Titan-Legierungen oder

7. Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

c. Lagertanks, Container oder Vorlagen mit einem inneren (geometrischen) Gesamtvolumen grösser als 0,1 m3 (100 l), bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1. Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und

20 Gew.-% Chrom,

2. Fluorpolymere,

3. Glas oder Email,

4. Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als

40 Gew.-% Nickel,

5. Tantal oder Tantal-Legierungen,

6. Titan oder Titan-Legierungen oder

7. Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

d. Wärmetauscher oder Kondensatoren mit einer Wärme- austauschfläche kleiner als 20 m², bei denen die me- dienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1. Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und

20 Gew.-% Chrom,

2. Fluorpolymere,

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3. Glas oder Email,

4. Grafit,

5. Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als

40 Gew.-% Nickel,

6. Tantal oder Tantal-Legierungen,

7. Titan oder Titan-Legierungen oder

8. Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

e. Destillations- oder Absorptionskolonnen mit einem in- neren Durchmesser grösser als 0,1 m, bei denen die me- dienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1. Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und

20 Gew.-% Chrom,

2. Fluorpolymere,

3. Glas oder Email,

4. Grafit,

5. Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als

40 Gew.-% Nickel,

6. Tantal oder Tantal-Legierungen,

7. Titan oder Titan-Legierungen oder

8. Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

f. fernbedienbare Abfülleinrichtungen, bei denen die me- dienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1. Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und

20 Gew.-% Chrom oder

2. Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als

40 Gew.-% Nickel;

g. Ventile mit Mehrfachdichtung und Leckdetektor- Anschluss, Faltenbalgventile, Rückschlagventile oder Membranventile, bei denen die medienberührenden Flä- chen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1. Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und

20 Gew.-% Chrom,

2. Fluorpolymere,

3. Glas oder Email,

4. Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als

40 Gew.-% Nickel,

5. Tantal oder Tantal-Legierungen,

6. Titan oder Titan-Legierungen oder

7. Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

h. Mehrwandige Rohre mit Leckdetektor-Anschluss, bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1. Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und

20 Gew.-% Chrom,

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2. Fluorpolymere,

3. Glas oder Email,

4. Grafit,

5. Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als

40 Gew.-% Nickel,

6. Tantal oder Tantal-Legierungen,

7. Titan oder Titan-Legierungen oder

8. Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

i. Pumpen mit Mehrfachdichtung, Spaltrohrmotorpumpen, Magnetkupplungspumpen, Faltenbalgpumpen oder Membranpumpen mit einer vom Hersteller angegebenen maximalen Förderleistung grösser als 0,6 m3/h oder Va- kuumpumpen mit einer vom Hersteller angegebenen maximalen Förderleistung grösser als 5 m3/h (jeweils unter Standard-Bedingungen von 273 K [0 °C] und 101,3 kPa), bei denen die medienberührenden Flächen ganz aus einem der folgenden Werkstoffe bestehen:

1. Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und

20 Gew.-% Chrom,

2. Keramik,

3. Ferrosiliziumguss,

4. Fluorpolymere,

5. Glas oder Email,

6. Grafit,

7. Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als

40 Gew.-% Nickel,

8. Tantal oder Tantal-Legierungen,

9. Titan oder Titan-Legierungen oder

10. Zirkonium oder Zirkonium-Legierungen;

j. Verbrennungseinrichtungen, entwickelt zur Vernichtung der in Nummer 1C350 genannten Substanzen, mit be- sonders entwickelten Abfall-Zuführungssystemen, spezi- ellen Handhabungseinrichtungen und einer durch- schnittlichen Brennraumtemperatur grösser als 1273 K (1000 °C), wobei die medienberührenden Flächen des Zuführungssystems ganz aus einem der folgenden Werk- stoffe bestehen:

1. Legierungen mit mehr als 25 Gew.-% Nickel und

20 Gew.-% Chrom,

2. Keramik oder

3. Nickel oder Nickel-Legierungen mit mehr als

40 Gew.-% Nickel.

2B351 Systeme zur Feststellung oder Überwachung toxischer A.4 frei (A) Gase wie folgt, sowie dafür bestimmte Detektoren: T: 5000 a. entwickelt für den kontinuierlichen Betrieb und ver- wendbar für die Detektion von chemischen Kampfstof-

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fen oder den in Nummer 1C350 genannten Substanzen unterhalb einer Konzentration von 0,3 mg/m3 oder b. entwickelt für die Detektion cholinesterase-hemmender Wirkung. 2B352 Ausrüstung, geeignet zur Handhabung biologischer A.4 frei (A) Stoffe, wie folgt: T: 5000 a. Vollständige biologische Sicherheitsbereiche, ausge- stattet nach den Richtlinien für die Sicherheitsstufen P3 Technische Anmerkung: chen der Definition im WHO-Handbuch «Laboratory Biosafe- ty» (Genf, 1993, 2. Auflage). b. Fermenter, geeignet zur Kultivierung pathogener Mikro- organismen oder Viren oder geeignet zur Erzeugung von Toxinen, ohne Aerosolfreisetzung, mit einer Gesamtka- pazität grösser/gleich 100 l; Technische Anmerkung: Fermenter schliessen Bioreaktoren, Chemostate und kontinu- ierliche Fermentationssysteme ein. c. Zentrifugalseparatoren, geeignet zur kontinuierlichen Trennung ohne Aerosolfreisetzung, mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Durchflussrate grösser als 100 l/h,

2. Bestandteile aus poliertem Edelstahl oder Titan,

3. Doppel- oder Mehrfachdichtung im Dampfsterilisati-

onsbereich und

4. geeignet zur in-situ Sterilisation im geschlossenen

Zustand; Technische Anmerkung: Zentrifugalseparatoren schliessen Dekanter ein. d. Kreuzstromfilter (Crossflow), geeignet zur kontinuierli- chen Trennung ohne Aerosolfreisetzung, mit allen fol- genden Eigenschaften:

2. geeignet zur in-situ-Sterilisation;

e. Dampfsterilisierbare Gefriertrocknungsanlagen mit einer Eiskapazität des Kondensators grösser als 50 und kleiner als 1000 kg in 24 Stunden; verbunden oder darin enthalten ist, wie folgt:

1. fremdbelüftete Voll- oder Halbschutzanzüge,

2. biologische Sicherheitswerkbänke der Klasse III oder

Isolatoren mit ähnlichen Leistungsmerkmalen;

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Anmerkung: Die in Unternummer 2B352f² genannten Isolatoren schlies- sen flexible Isolatoren, Trockenkästen (dry boxes), Kästen für anaerobe Arbeiten, Handschuh-Arbeitskästen und Hau- ben mit laminarer Strömung ein. g. Aerosolprüfkammern mit einem Volumen grösser/gleich

1 m3, konstruiert für Aerosoleignungsprüfungen von

Mikroorganismen oder Toxinen.

2C Werkstoffe und Materialien nicht belegt

2D Datenverarbeitungsprogramme (Software) 2D001 Software, andere als von Nummer 2D002 erfasst, beson- A.4 OGB (W, N) ders entwickelt oder geändert für die Entwicklung, Her- T: keine (M) stellung oder Verwendung von Ausrüstung, die von 2D002 Software für elektronische Bauteile, auch wenn sie in ei- nem elektronischen Bauteil oder System dauerhaft ge- speichert ist, die solche Bauteile oder Systeme zu Funk- tionen einer numerischen Steuerung mit einer der fol- genden Eigenschaften befähigt: (W, N) a. mehr als vier interpolierende Achsen können simultan A.4 OGB zur Bahnsteuerung koordiniert werden oder T: keine (W) b. Echtzeitverarbeitung von Daten, um die Werkzeugbahn, A.4 frei den Vorschub und die Hauptspindelwerte während der T: keine Werkstückbearbeitung durch eine der folgenden Fähig- keiten zu verändern:

1. automatische Erzeugung und Veränderung von Teile-

programmen für die Bearbeitung in zwei oder mehr Achsen mit Hilfe von Messzyklen und Zugriff zu Teileprogramm-Quelldaten oder

2. adaptive Steuerung unter Zugrundelegung von mehr

als einer gemessenen physikalischen Variablen sowie eines mathematischen Modells (Strategie), um einen oder mehrere Maschinenbefehle zur Prozessoptimie- rung zu modifizieren. Anmerkung: Nummer 2D002 erfasst keine Software, besonders entwickelt oder geändert zur Verwendung in nicht von Kategorie 2 erfassten Werkzeugmaschinen. 2D101 Software, ausschliesslich entwickelt für die Verwendung A.4 OGB (M) von Ausrüstung, erfasst von Nummer 2B104, 2B109 T: keine Anmerkung: Siehe auch Nummer 9D004.

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2D201 Software, besonders entwickelt für die Verwendung von A.4 OGB (N) Ausrüstung, erfasst von Nummer 2B204, 2B206, 2B207, T: keine 2D202 Software, besonders entwickelt oder geändert für die A.4 OGB (N) Entwicklung, Herstellung oder Verwendung von Ausrü- T: keine stung, erfasst von Nummer 2B201.

2E Technologie 2E001 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technologie- A.4 OGB (W, M) Anmerkung für die Entwicklung von Ausrüstung oder T: keine (N, A) Software, die von Nummer 2A, 2B oder 2D erfasst wird. 2E002 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technologie- A.4 OGB (W, M) Anmerkung für die Herstellung von Ausrüstung, die von T: keine 2E003 Technologie wie folgt: A.4 frei (W) a. Technologie für die Entwicklung von interaktiver Grafik T: keine als integraler Bestandteil numerischer Steuerungen zur Vorbereitung oder Änderung von Teileprogrammen; b. Technologie für metallbearbeitende Fertigungsverfahren wie folgt:

1. Technologie für den Entwurf von Werkzeugen, Ge-

senken oder Spannvorrichtungen, besonders ent- wickelt für eines der folgenden Verfahren: a. superplastisches Umformen, b. Diffusionsschweissen oder c. hydrostatisches Umformen mit direkter Druckbe- aufschlagung,

2. technische Daten, d. h. Verfahrensbeschreibungen

oder Parameter, wie folgt, für die Verfahrenssteue- rung: a. superplastisches Umformen von Aluminium-, Ti- tan- oder Superlegierungen:

1. Oberflächenbehandlung,

2. Dehngeschwindigkeit,

3. Temperatur,

4. Druck,

b. Diffusionsschweissen von Superlegierungen oder Titanlegierungen:

1. Oberflächenbehandlung,

2. Temperatur,

3. Druck,

c. hydrostatisches Umformen mit direkter Druckbeauf- schlagung von Aluminium- oder Titanlegierungen:

1. Druck,

2. Dauer des Arbeitsvorgangs,

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d. heissisostatisches Verdichten von Titan-, Aluminium- oder Superlegierungen:

1. Temperatur,

2. Druck,

3. Dauer des Arbeitsvorgangs;

c. Technologie für die Entwicklung oder Herstellung von hydraulischen Streckziehpressen und dazugehörigen Formwerkzeugen zur Fertigung von Bauelementen für Flugzeugzellen; d. Technologie für die Entwicklung von Generatoren für die Erstellung von Steuerbefehlen für Werkzeugmaschi- nen (z. B. Teileprogramme) aus Konstruktionsdaten in- nerhalb der numerischen Steuerungen; e. Technologie für die Entwicklung von Integrations- Software zum Einfügen von Expertensystemen in nume- rische Steuerungen zur weitgehenden Unterstützung von Entscheidungen im maschinennahen Bereich; f. Technologie für das Aufbringen von anorganischen Auflageschichten oder anorganischen oberflächenverän- dernden Schichten (gemäss Spalte 3 der nachstehenden Tabelle) auf Substrate für nichtelektronische Anwen- dungen (gemäss Spalte 2 der nachstehenden Tabelle) durch die in Spalte 1 der nachstehenden Tabelle aufge- führten und in der Technischen Anmerkung definierten Verfahren. Anmerkung: Tabelle und Technische Anmerkung folgen nach Nummer 2E101 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (M, N) gie-Anmerkung für die Verwendung von Ausrüstung T: keine oder Software, erfasst von Nummer 2B004, 2B104, 2E201 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (N) gie-Anmerkung für die Verwendung von Ausrüstung T: keine oder Software, erfasst von Nummer 2A225, 2A226, 2E301 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (A) gie-Anmerkung für die Verwendung von Waren, erfasst T: keine

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Tabelle – Abscheidungsverfahren (siehe Unternummer 2E003 f) (Die in Klammern gesetzten Ziffern verweisen auf nachstehende Anmerkungen zu dieser Tabelle.)

1. Beschichtungsverfahren (1) 2. Substrat 3. Schichten

A) Chemische Beschich- Superlegierungen Aluminide für Innenbe- tung aus der Gasphase schichtungen (CVD-Beschichten) Keramik (19) und Glas mit Silicide niedriger Wärmeaus- Carbide dehnung (14) Dielektrische Schichten (15) Diamant Diamantartiger Kohlenstoff (17) Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Silicide Keramik- und Metall- Carbide Matrix-Verbundwerkstoffe Hochschmelzende Metalle Mischschichten daraus (4) Dielektrische Schichten (15) Aluminide Legierte Aluminide (2) Bornitrid Gesintertes Carbide Wolframcarbid (16), Wolfram Silicium Carbid (18) Mischschichten daraus (4) Dielektrische Schichten (15) Molybdän und Dielektrische Schichten Molybdänlegierungen (15) Beryllium und Dielektrische Schichten Berylliumlegierungen (15) Diamant Diamantartiger Kohlenstoff (17) Werkstoffe für Dielektrische Schichten Sensorenfenster (9) (15) Diamant Diamantartiger Kohlenstoff (17)

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B) Physikalische Be- schichtung aus der Gas- phase (PVD- Beschichten) durch thermisches Verdamp- fen (TE-PVD)

1. PVD-Beschich- Superlegierungen Legierte Silicide

ten mittels Legierte Aluminide (2) Elektronenstrahl MCrAlX (5) (EB-PVD) Modifiziertes Zirkonium- dioxid (12) Silicide Aluminide Mischschichten daraus (4) Keramik (19) und Glas mit Dielektrische Schichten niedriger Wärmeaus- (15) dehnung (14) Korrosionsbeständiger MCrAlX (5) Stahl (7) Modifiziertes Zirkonium- dioxid (12) Mischschichten daraus (4) Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Silicide Keramik- und Metall- Carbide Matrix-Verbundwerk- Hochschmelzende Metalle stoffe Mischichten daraus (4) Dielektrische Schichten (15) Bornitrid Gesintertes Wolfram- Carbide carbid (16), Silicium- Wolfram carbid (18) Mischschichten daraus (4) Dielektrische Schichten (15) Molybdän und Dielektrische Schichten Molybdänlegierungen (15) Beryllium und Dielektrische Schichten Berylliumlegierungen (15) Boride Beryllium Werkstoffe für Sensoren- Dielektrische Schichten fenster (9) (15) Titanlegierungen (13) Boride Nitride

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B) 2. Ionenunterstütztes Keramik (19) und Glas mit Dielektrische Schichten PVD-Beschichten niedriger Wärmeausdeh- (15) mittels Wider- nung (14) Diamantartiger Kohlenstoff standsheizung (PVD) (17) (Ionenplattieren) Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Dielektrische Schichten Keramik- und Metall- (15) Matrix-Verbundwerkstoffe Gesintertes Wolframcarbid Dielektrische Schichten (16), Siliciumcarbid (15) Molybdän und Molybdän- Dielektrische Schichten legierungen (15) Beryllium und Beryllium- Dielektrische Schichten legierungen (15) Werkstoffe für Sensoren- Dielektrische Schichten fenster (9) (15) B) 3. PVD-Beschichten: Keramik (19) und Glas mit Silicide Laser-Verdampfung niedriger Wärmeausdeh- Dielektrische Schichten nung (14) (15) Diamantartiger Kohlenstoff (17) Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Dielektrische Schichten Keramik- und Metall- (15) Matrix-Verbundwerkstoffe Gesintertes Wolframcarbid Dielektrische Schichten (16), Siliciumcarbid (15) Molybdän und Molybdän- Dielektrische Schichten legierungen (15) Beryllium und Beryllium- Dielektrische Schichten legierungen (15) Werkstoffe für Sensoren- Dielektrische Schichten fenster (9) (15) Diamantartiger Kohlenstoff (17) B) 4. Physikalische Superlegierungen Legierte Silicide Abscheidung aus der Legierte Aluminide (2) Gasphase (PVD): MCrAlX (5) Kathoden- zerstäubung durch Bogenentladung (Arc-Verdampfen) Polymere (11) Boride und Verbundwerkstoffe Carbide mit organischer Matrix Nitride Diamantartiger Kohlenstoff (17)

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C) Pack-Beschichten Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Silicide [Pack-Beschichten Keramik- und Metall- Carbide ohne direkten Pulver- Matrix-Verbundwerkstoffe Mischschichten kontakt daraus (4) (out-of-pack) (10): Siehe oben unter A] Titanlegierungen (13) Silicide Aluminide Legierte Aluminide (2) Hochschmelzende Metalle Silicide und Legierungen (8) Oxide

D) Plasmaspritzen Superlegierungen MCrAlX (5) Modifiziertes Zirkonium- dioxid (12) Mischschichten daraus (4) Nickel-Grafit-Einlaufbeläge Ni-Cr-Al-haltige Einlaufbeläge Al-Si-Polyester-Einlaufbeläge Legierte Aluminide (2) Aluminiumlegierungen (6) MCrAlX (5) Modifiziertes Zirkonium- dioxid (12) Silicide Mischschichten daraus (4) Hochschmelzende Metalle Aluminide und Legierungen (8) Silicide Carbide Korrosionsbeständiger MCrAlX (5) Stahl (7) Modifiziertes Zirkonium- dioxid (12) Mischschichten daraus (4) Titanlegierungen (13) Carbide Aluminide Legierte Aluminide (2) Nickel-Grafit-Einlaufbeläge Ni-Cr-Al-haltige Einlaufbeläge Al-Si-Polyester-Einlaufbeläge Polyester

E) Schlickerbeschichten Hochschmelzende Metalle Aufgeschmolzene Silicide und Legierungen (8) Aufgeschmolzene Alumini- de, ausgenommen für Wi- derstandsheizelemente Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Silicide Keramik- und Metall- Carbide Matrix-Verbundwerkstoffe Mischschichten daraus (4)

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F) Kathodenzerstäubungs- Superlegierungen Legierte Silicide beschichtung Legierte Aluminide (2) (Sputtern/Aufstäuben) Mit Edelmetallen modifi- zierte Aluminide (3) MCrAlX (5) Modifiziertes Zirkonium- dioxid (12) Platin Mischschichten daraus (4) Keramik und Glas mit Silicide niedriger Wärme- Platin ausdehnung (14) Mischschichten daraus (4) Dielektrische Schichten (15) Diamantartiger Kohenstoff (17) Titanlegierungen (13) Boride Nitride Oxide Silicide Aluminide Legierte Aluminide (2) Carbide Kohlenstoff-Kohlenstoff-, Silicide Keramik- und Metall- Carbide Matrix-Verbundwerkstoffe Hochschmelzende Metalle Mischschichten daraus (4) Dielektrische Schichten (15) Bornitrid Gesintertes Wolfram- Carbide carbid (16), Wolfram Siliciumcarbid (18) Mischschichten daraus (4) Dielektrische Schichten (15) Bornitrid Molybdän und Molybdän- Dielektrische Schichten legierungen (15) Beryllium und Beryllium- Boride legierungen Dielektrische Schichten (15) Beryllium Werkstoffe für Sensoren- Dielektrische Schichten (15) fenster (9) Diamantartiger Kohlenstoff (17) Hochschmelzende Metalle Aluminide und Legierungen (8) Silicide Oxide Carbide

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G) Ionenimplantation Hochwarmfeste Zusatz von Chrom, Lagerstähle Tantal oder Niob (Columbium) Titanlegierungen (13) Boride Nitride Beryllium und Boride Berylliumlegierungen Gesintertes Wolframcarid Carbide (16) Nitride

Anmerkungen zur Tabelle – Abscheidungsverfahren: 1. Die «Beschichtungsverfahren» schliessen das Ausbessern und Erneuern von Schichten ebenso ein wie die Originalbeschichtung. 2. «Legierte Aluminid»-Beschichtung schliesst das Beschichten nach Einzel- oder Mehr- schrittverfahren ein, bei denen ein oder mehrere Elemente vor oder während des Aufbrin- gens der Aluminid-Schicht abgeschieden werden, selbst wenn diese Elemente nach einem anderen Beschichtungsverfahren aufgebracht werden. Es schliesst jedoch nicht die mehr- fache Anwendung von Einzelschritt-Packbeschichtungsverfahren zur Erzielung von le- gierten Aluminidschichten ein. 3. «Mit Edelmetallen modifizierte Aluminid»-Beschichtung schliesst die Mehrschrittbe- schichtungen ein, bei denen das Edelmetall oder die Edelmetalle vor der Aluminidschicht durch ein anderes Beschichtungsverfahren aufgebracht wird/werden. 4. Der Ausdruck «Mischungen hiervon» schliesst infiltrierten Werkstoff, abgestufte Zusam- mensetzungen, Simultanabscheidungen und Mehrschichten-Abscheidungen ein. Sie wer- den durch Anwendung eines oder mehrerer der in der Tabelle aufgeführten Beschich- tungsverfahren hergestellt. 5. «MCrAlX» bezieht sich auf eine Beschichtungslegierung, bei der «M» für Cobalt, Eisen, Nickel oder Kombinationen aus diesen Elementen und «X» für Hafnium, Yttrium, Silici- um, Tantal in jeder gewünschten Menge oder für sonstige beabsichtigte Zusätze über 0,01 Masseprozent in unterschiedlichen Verhältnissen und Mischungen steht, ausgenom- men a. CoCrAlY-Schichten, die weniger als 22 Masseprozent Chrom, weniger als 7 Massepro- zent Aluminium und weniger als 2 Masseprozent Yttrium enthalten, b. CoCrAlY-Schichten, die 22 bis 24 Masseprozent Chrom, 10 bis 12 Masseprozent Aluminium und 0,5 bis 0,7 Masseprozent Yttrium enthalten, oder c. NiCrAlY-Schichten, die 21 bis 23 Masseprozent Chrom, 10 bis 12 Masseprozent Alu- minium und 0,9 bis 1,1 Masseprozent Yttrium enthalten. 6. «Aluminiumlegierungen» beziehen sich auf Legierungen mit einer Zugfestigkeit von

190 MPa oder mehr, gemessen bei einer Temperatur von 293 K (20 °C).

7. «Korrosionsbeständige Stähle» beziehen sich auf Stähle der AISI-Nummernreihe 300 (AISI = American Iron and Steel Institute) oder Stähle vergleichbarer nationaler Normen. 8. «Hochschmelzende Metalle und Legierungen» schliessen die folgenden Metalle und ihre Legierungen ein: Niob (Columbium), Molybdän, Wolfram und Tantal. 9. «Werkstoffe für Sensorenfenster» wie folgt: Aluminiumoxid, Silicium, Germanium, Zink- sulfid, Zinkselenid, Galliumarsenid, Diamant, Galliumphosphid, Saphir und die folgenden Metallhalogenide: Werkstoffe für Sensorenfenster mit einem Durchmesser von mehr als

40 mm bei Zirkoniumfluorid und Hafniumfluorid.

10. Kategorie 2 erfasst nicht die Technologie für das Pack-Beschichten im Einzelschrittver- fahren von massiven Turbinenschaufelblättern. 11. Polymere wie folgt: Polyimid, Polyester, Polysulfid, Polycarbonate und Polyurethane. 12. «Modifiziertes Zirkoniumdioxid» bezieht sich auf Zirkoniumdioxid mit Zusätzen von an- deren Metalloxiden (z. B. Calciumoxid, Magnesiumoxid, Yttriumoxid, Hafniumoxid, Seltenerdoxide) zur Stabilisierung bestimmter Kristallphasen und Phasenzusammenset- zungen. Wärmedämmschichten aus Zirkoniumdioxid, das durch Mischung oder Ver- schmelzung mit Calciumoxid oder Magnesiumoxid modifiziert wurde, werden nicht er- fasst.

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13. «Titanlegierungen» beziehen sich auf in der Luft- und Raumfahrt verwendete Legierun- gen, die über eine Zugfestigkeit von 900 MPa oder mehr verfügen, gemessen bei einer Temperatur von 293 K (20 °C). 14. «Glas mit niedriger Wärmeausdehnung» bezieht sich auf Glas mit einem Wärmeausdeh- nungskoeffizienten von 1 × 10–7 K–1 oder weniger, gemessen bei einer Temperatur von 293 K (20 °C). 15. «Dielektrische Schichten» sind Mehrfachschichten aus Isolierstoffen, wobei die Interfe- renzeigenschaften eines Schichtsystems, das aus Werkstoffen mit unterschiedlichem Bre- chungsindex besteht, zur Reflexion, Transmission oder Absorption von Wellen verschie- dener Längenbereiche verwendet werden. «Dielektrische Schichten» bestehen aus mehr als vier dielektrischen Lagen oder mehr als vier Dielektrikum/Metall-Verbundwerkstoff- lagen. 16. «Gesintertes Wolframcarbid» bezieht sich nicht auf Werkstoffe für Schneid- und Form- werkzeuge aus Wolframcarbid/(Cobalt, Nickel), Titancarbid/(Cobalt, Nickel), Chromcar- 17. Technologie, besonders entwickelt zum Abscheiden von diamantartigem Kohlenstoff auf den folgenden Gegenständen unterliegt nicht der Ausfuhrgenehmigungspflicht: Festplatten und Festplattenköpfe, Polycarbonat-Brillengläser, Ausrüstung für die Herstel- lung von Einwegartikeln, Bäckereiausrüstung, Ventile für Wasserhähne, Lautspre- chermembranen, Teile für Automobilmotoren, spangebende Werkzeuge, Stanz- und Presswerkzeuge, für Kameras und Teleskope entwickelte hochwertige Linsen, Ausrüstung für Büroautomation, Mikrophone oder medizinische Geräte. 18. «Siliziumkarbid» schliesst nicht Materialien für spanende und umformende Werkzeuge ein. 19. Keramiksubstrate, wie sie in dieser Position benutzt werden, beinhalten nicht Keramik- materialien mit einem Anteil grösser/gleich 5 Gew.-% an Lehm oder Bindemittel als sepa- rater Bestandteil oder als Kombination. Technische Anmerkung zur Tabelle – Abscheidungsverfahren: Die in Spalte 1 der Tabelle angegebenen Verfahren sind wie folgt definiert: a. Chemische Beschichtung aus der Gasphase (CVD-Beschichten) ist ein Verfahren zum Aufbringen von Auflageschichten oder oberflächenverändernden Schichten, bei dem ein Metall, eine Legierung, ein Verbundwerkstoff, ein Dielektrikum oder Keramik auf einem erhitzten Substrat abgeschieden wird. Gasförmige Reaktanten werden im oberflächenna-

hen Bereich eines Substrats zersetzt oder verbunden, wobei der gewünschte Schichtstoff als Element, Legierung oder Verbindung auf dem Substrat abgeschieden wird. Die für die Zersetzung oder chemische Reaktion benötigte Energie wird entweder durch die Hitze des Substrats, durch die elektrische Entladung in einem Glimmlichtplasma oder durch Laser- strahlen geliefert. Anmerkungen: 1. Das CVD-Beschichten schliesst folgende Verfahren ein: Abscheidung mittels gerich- tetem Gasfluss ohne direkten Pulverkontakt des Substrats (out of pack), CVD- Beschichten mit pulsierendem Druck, thermische Zersetzung mit geregelter Keimbil- dung (CNTD), plasmaverstärktes oder -unterstütztes CVD-Beschichten. 2. Pack-Beschichten bedeutet, dass ein Substrat in ein Pulvergemisch eingebettet wird.

3. Die beim Out-of-Pack-Verfahren verwendeten gasförmigen Reaktanten werden mit

denselben Hauptreaktionen und Parametern erzeugt wie beim Pack-Beschichten, mit der Ausnahme, dass das zu beschichtende Substrat keinen Kontakt mit dem Pulverge- misch hat. b. Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (TE-PVD = thermal evaporation physical vapour deposition) ist ein Beschichtungsverfahren zur Her- stellung von Auflageschichten in einem Vakuum bei einem Druck von weniger als 0,1 Pa, wobei Wärmeenergie zum Verdampfen des Schichtwerkstoffes eingesetzt wird. Bei die- sem Verfahren wird das dampfförmige Beschichtungsmaterial durch Kondensation oder Abscheidung auf entsprechend positionierten Substraten aufgebracht. Die Zufuhr von Gasen in die Vakuumkammer während des Beschichtungsvorgangs zum Zwecke der Synthese von zusammengesetzten Schichten ist eine übliche Variante dieses Verfahrens. Die Verwendung von Ionen- oder Elektronenstrahlen oder von Plasma zur Einleitung oder Förderung des Abscheidungsvorgangs ist ebenfalls eine übliche Variante dieses Verfah-

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rens. Der Einsatz von Monitoren zur Messung der optischen Eigenschaften und der Schichtdicke während des Beschichtungsvorgangs kann ein Merkmal dieser Verfahren sein. Spezifische TE-PVD-Verfahren sind folgende: 1. Beim PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl wird das Beschichtungsmaterial mit- tels Elektronenstrahl erhitzt und verdampft. 2. Beim PVD-Beschichten mittels Widerstandsheizung werden Heizquellen mit elektri- schem Widerstand verwendet, mit denen ein kontrollierter und gleichmässiger Fluss aus verdampftem Beschichtungsmaterial erzeugt wird. 3. Bei der Laser-Verdampfung werden zum Verdampfen des Beschichtungsmaterials Im- pulslaser oder Dauerstrich-Laser verwendet.

4. Bei der Kathodenzerstäubung durch Bogenentladung (Arc-Verdampfen) wird eine

selbstverzehrende Kathode verwendet, die aus dem Beschichtungsmaterial besteht. Da- bei wird durch den Momentkontakt einer geerdeten Zündelektrode auf der Katho- denoberfläche eine Lichbogenentladung ausgelöst. Durch die kontrollierte Bewegung des Lichtbogens wird die Kathodenoberfläche abgetragen, wobei ein hochionisiertes Plasma entsteht. Als Anode kann entweder ein am Rande der Kathode über einen Iso- lator angebrachter Kegel oder die Kammer selbst verwendet werden. Bei nicht geradli- niger Abscheidung wird an das Substrat eine Vorspannung angelegt. Anmerkung: Diese Definition beinhaltet nicht die Kathodenzerstäubungsabscheidung mit unkon- trollierter Bogenentladung und Substraten ohne Vorspannung. 5. Ionenplattieren ist eine spezielle Variante eines allgemeinen TE-PVD-Verfahrens, bei dem ein Plasma oder eine Ionenquelle zur Ionisierung des Beschichtungsmaterials ver- wendet und an das Substrat eine negative Vorspannung angelegt wird, um die Ab- scheidung des Beschichtungsmaterials aus dem Plasma zu fördern. Die Einbringung von reaktiven Stoffen, die Verdampfung von Feststoffen im Reaktionsbehälter und der Einsatz von Monitoren zur Messung der optischen Eigenschaften und der Schichtdicke während des Beschichtungsvorgangs sind übliche Varianten dieses Verfahrens. c. Pack-Beschichten ist ein Verfahren zur Herstellung von oberflächenverändernden Schichten oder Auflageschichten, bei dem das Substrat in ein Pulvergemisch eingebettet wird, das aus folgenden Stoffen besteht:

1. den Metallpulvern, die abgeschieden werden sollen (normalerweise Aluminium,

Chrom, Silicium oder Gemische daraus),

2. einem Aktivator (normalerweise ein Halogenid) und

3. einem inerten Pulver, in der Regel Aluminiumoxid.

Das Substrat und das Pulvergemisch befinden sich in einer Retorte, die auf eine Tempe- ratur zwischen 1030 K (757 °C) und 1375 K (1102 °C) erhitzt wird, wobei die Haltezeit ausreichend bemessen sein muss, um die Beschichtung abzuscheiden. d. Plasmaspritzen ist ein Verfahren zur Herstellung von Auflageschichten, wobei mit einer Plasmaspritzpistole, die ein Plasma erzeugt und regelt, Spritzwerkstoffe in Pulver- oder Drahtform aufgenommen, aufgeschmolzen und auf die Oberfläche des Substrats ge- schleudert werden. Dabei entsteht auf dem Substrat eine homogene, gut haftende Schicht. Plasmaspritzen bezieht sich auf Niederdruckplasmaspritzen oder Hochgeschwindigkeits- plasmaspritzen. Anmerkungen:

1. Niederdruck bezeichnet einen Druck unterhalb des normalen Atmosphärendrucks.

2. Hochgeschwindigkeit bezieht sich auf eine Gasgeschwindigkeit am Düsenaustritt von mehr als 750 m/s bei einer Temperatur von 293 K (20 °C) und einem Druck von 0,1 MPa. e. Schlickerbeschichten (Aufbringen von Schichten durch Aufschlämmen) ist ein Verfahren zur Herstellung von oberflächenverändernden Schichten oder Auflageschichten, bei dem ein Metall- oder Keramikpulver zusammen mit einem organischen Binder in einer Flüs- sigkeit suspendiert und durch Aufspritzen, Tauchen oder Aufpinseln auf ein Substrat auf- gebracht wird. Die gewünschte Schicht wird anschliessend durch Luft- oder Ofen- trocknung und Wärmebehandlung gebildet. f. Kathodenzerstäubungsbeschichtung (Sputtern/Aufstäuben) ist ein Verfahren zur Herstel- lung von Auflageschichten, das auf dem Prinzip der Impulsübertragung beruht. Dabei werden positiv geladene Ionen mit Hilfe eines elektrischen Feldes auf die Oberfläche eines Targets (Beschichtungsmaterial) geschossen. Die Bewegungsenergie der auftreffenden Io-

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nen reicht aus, um Atome aus der Oberfläche des Targets herauszulösen, die sich auf ei- nem entsprechend angebrachten Substrat niederschlagen. Anmerkungen: 1. Die Tabelle bezieht sich ausschliesslich auf das Abscheiden mittels Trioden- oder Mag- netronanlagen oder reaktivem Aufstäuben, wodurch die Haftfestigkeit der Schicht und die Beschichtungsrate erhöht werden, sowie auf das beschleunigte Aufstäuben mittels einer am Target anliegenden HF-Spannung, wodurch nichtmetallische Schichtwerkstof- fe zerstäubt werden können. 2. Ionenstrahlen mit niedriger Energie (weniger als 5 keV) können verwendet werden, um die Abscheidung zu aktivieren. g. Ionenimplantation ist ein oberflächenveränderndes Beschichtungsverfahren, bei dem das zu legierende Element ionisiert, durch ein Spannungsgefälle beschleunigt und in die Ober- fläche des Substrats implantiert wird. Dies schliesst Verfahren ein, bei denen neben der Ionenimplantation gleichzeitig das PVD-Beschichten mittels Elektronenstrahl und das Sputtern/Aufstäuben zur Anwendung kommen.

Listen-Nr. Güterbezeichnung Erleichterungen (Regime)

3 Allgemeine Elektronik

3A Systeme, Ausrüstung und Bestandteile Anmerkungen zu Nummer 3A:

1. Die Erfassung der in den Nummern 3A001 oder 3A002 – ohne

beschriebenen Ausrüstung, Baugruppen und Bauelemente, die besonders konstruiert sind oder dieselben Funktionsmerkmale wie andere Waren aufweisen, richtet sich nach deren Erfas- sungsstatus.

2. Die Erfassung der in den Unternummern 3A001a3 bis 3A001a9

oder 3A001a12 beschriebenen integrierten Schaltungen, die festprogrammiert sind oder für eine bestimmte Funktion ent- wickelt wurden, richtet sich nach dem Erfassungsstatus der Waren, in denen sie verwendet werden. Ergänzende Anmerkungen:

1. Wenn der Hersteller oder Ausführer den Erfassungsstatus

der anderen für die Endbenutzung vorgesehenen Ware nicht festlegen kann, richtet sich die Erfassung der integrierten Schaltungen nach den Unternummern 3A001a3 bis

2. Ist die integrierte Schaltung aus Silizium und ein Mikrocom-

puter oder Mikrocontroller gemäss Unternummer 3A001a3 mit einer Datenwortlänge von kleiner/gleich 8 bit, gelten die Grenzwerte von Unternummer 3A001a3. 3A001 Elektronische Bauelemente und Baugruppen wie folgt: a. integrierte Schaltungen für allgemeine Anwendungen wie folgt: Anmerkungen:

1. Die Erfassung von (fertigen oder noch nicht fertigen) Wa-

fern, deren Funktion festliegt, richtet sich nach den Parame- tern von Unternummer 3A001a.

2. Zu den integrierten Schaltungen gehören:

– monolithisch integrierte Schaltungen, – integrierte Hybrid-Schaltungen, – integrierte Multichip-Schaltungen,

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– integrierte Schichtschaltungen einschliesslich integrierter Schaltungen in SOS-Technologie, – integrierte optische Schaltungen. (W, N) 1. integrierte Schaltungen, entwickelt oder ausgelegt für A.4 OGB eine der folgenden Strahlungsfestigkeiten: T: 1000 a. Gesamtdosis grösser/gleich 5 × 103 Gy (Si) oder b. Dosisrate grösser/gleich 5 × 106 Gy (Si)/s, (W) 2. Mikroprozessoren, Mikrocomputer, Mikrocontroller, A.4 frei elektrisch löschbare programmierbare Festwertspei- T: 1000 cher (EEPROMs), Flash-Speicher, statische Speicher (SRAMs), aus einem Verbindungshalbleiter herge- stellte integrierte Speicherschaltungen, Analog- Digital-Wandler, Digital-Analog-Wandler, elektro- optische oder integrierte optische Schaltungen für die Signaldatenverarbeitung, anwenderprogrammierbare Gate-Arrays, anwenderprogrammierbare Logic- Arrays, integrierte Schaltungen für neuronale Netze, kundenspezifische integrierte Schaltungen, deren Funktion oder deren Erfassungsstatus in Bezug auf die Endbenutzergeräte unbekannt ist, oder FFT-Pro- zessoren (Fast Fourier Transform) mit einer der fol- genden Eigenschaften: a. ausgelegt für eine Betriebstemperatur über 398 K (+125 °C), b. ausgelegt für eine Betriebstemperatur unter 218 K (– 55 °C) oder c. ausgelegt für einen Bereich von 218 K (– 55 °C) bis 398 K (+125 °C), Anmerkung: Unternummer 3A001a² gilt nicht für integrierte Schaltun- gen, die in zivilen Kraftfahrzeugen oder Eisenbahnzügen verwendet werden. (W) 3. Mikroprozessoren, Mikrocomputer und Mikrocon- A.4 frei troller mit einer der folgenden Eigenschaften: T: 1000 Anmerkung: Unternummer 3A001a3 schliesst digitale Signal- Prozessoren, Vektorprozessoren und Coprozessoren ein. a. mit einer zusammengesetzten theoretischen Verar- beitungsrate CTP von grösser/gleich 3500 Mtops (Millionen theoretischer Operationen je Sekunde) und einer arithmetisch-logischen Einheit (ALU) mit einer Zugriffsbreite von grösser/gleich 32 bit, b. hergestellt aus einem Verbindungshalbleiter und mit einer Taktfrequenz grösser als 40 MHz oder c. entwickelt für Parallelrechner, mit mehr als einem Daten- oder Befehlsbus oder mehr als einer Kom- munikationsschnittstelle mit einer Übertragungsrate grösser als 2,5 MByte/s,

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(W) 4. Speicherschaltungen aus einem Verbindungshalb- A.4 frei leiter, T: 1000 (W, M) 5. Analog-Digital- und Digital-Analog- A.4 OGB Wandlerschaltungen wie folgt: T: 1000 a. Analog-Digital-Wandler mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Auflösung grösser/gleich 8 bit, aber kleiner als

12 bit, mit einer Wandlungszeit bei maximaler

Auflösung kleiner als 10 ns,

2. Auflösung von 12 bit mit einer Wandlungszeit

bei maximaler Auflösung kleiner als 200 ns oder

3. Auflösung grösser als 12 bit mit einer Wandlungs-

zeit bei maximaler Auflösung kleiner als 2 µs, b. Digital-Analog-Wandler mit einer Auflösung grö- sser/gleich 12 bit und einer Einstellzeit (settling ti- me) kleiner als 10 ns, (W) 6. elektrooptische oder integrierte optische Schaltungen, A.4 frei entwickelt für die Signaldatenverarbeitung mit allen T: 1000 folgenden Eigenschaften: a. mit einer oder mehreren internen Laser-Diode(n), b. mit einem oder mehreren internen lichtempfindli- chen Element(en) und c. mit optischen Strahlführungselementen, (W) 7. anwenderprogrammierbare Gate-Arrays (FPGA) mit A.4 frei einer der folgenden Eigenschaften: T: 1000 a. nutzbares Gatteräquivalent (equivalent usable gate count) grösser als 30 000 (Gatter mit zwei Eingän- gen) oder b. typische Signallaufzeit des Grundgatters (basic gate propagation delay time) kleiner als 0,4 ns, (W) 8. anwenderprogrammierbare Logic-Arrays mit einer der A.4 frei folgenden Eigenschaften: T: 1000 a. nutzbares Gatteräquivalent (equivalent usable gate count) grösser als 30 000 (Gatter mit zwei Eingän- gen) oder b. Umschalt-Frequenz (toggle frequency) grösser als

133 MHz,

(W) 9. integrierte Schaltungen für neuronale Netze, A.4 frei T: 1000 (W) 10. kundenspezifische integrierte Schaltungen, deren A.4 frei Funktion unbekannt ist oder deren Erfassungsstatus T: 1000 in bezug auf die Endbenutzergeräte dem Hersteller nicht bekannt ist, mit einer der folgenden Eigen- schaften: a. mehr als 208 Anschlüsse, b. typische Signallaufzeit des Grundgatters (basic gate propagation delay time) kleiner als 0,35 ns oder c. Betriebsfrequenz grösser als 3 GHz,

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(W) 11. andere als die in den Unternummern 3A001a3 bis A.4 frei integrierten Schaltungen, die auf einem Verbin- dungshalbleiter basieren und eine der folgenden Ei- genschaften aufweisen: a. Gatteräquivalent (equivalent gate count) grösser als 300 (Gatter mit zwei Eingängen) oder b. Umschalt-Frequenz (toggle frequency) grösser als 1,2 GHz, (W) 12. FFT-Prozessoren (Fast Fourier Transform) mit einer A.4 frei der folgenden Eigenschaften: T: 1000 a. ausgelegt für eine komplexe FFT mit 1024 Punk- ten in weniger als 1 ms, b. ausgelegt für eine komplexe FFT mit n Punkten (n ungleich 1024) in weniger als n × log2n/10 240 ms oder c. FFT-Butterfly-Berechnungsdurchsatz von mehr als 5,12 MHz; (W) b. Mikro- oder Millimeterwellenbauelemente oder - A.4 frei baugruppen wie folgt: T: 5000

1. elektronische Vakuumröhren und Kathoden wie folgt:

Anmerkung: Unternummer 3A001b¹ erfasst nicht Röhren, die für den Betrieb in den von ITU standardisierten Bändern der zivilen Nachrichtentechnik bei Frequenzen kleiner/gleich 31 GHz entwickelt oder ausgelegt sind. a. Wanderfeldröhren für Impuls- oder Dauerstrichbe- trieb wie folgt:

1. Betriebsfrequenz grösser als 31 GHz,

2. mit einem Kathodenheizelement, das eine Ein-

schaltzeit von weniger als 3 Sekunden bis zum Erreichen der HF-Nennleistung ermöglicht,

3. hohlraumgekoppelte oder davon abgeleitete

Röhren, mit einer Momentan-Bandbreite grösser als 7% der nominalen Betriebsfrequenz und ei- ner Spitzenleistung grösser als 2,5 kW,

4. Wendelröhren oder davon abgeleitete Röhren

mit einer der folgenden Eigenschaften: a. Momentan-Bandbreite grösser als eine Oktave und Produkt der mittleren Leistung (in Kilo- watt) und der Frequenz (in Gigahertz) grösser als 0,5, b. Momentan-Bandbreite kleiner/gleich eine Oktave und Produkt der mittleren Leistung (in Kilowatt) und der Frequenz (in Gigahertz) grösser als 1 oder c. weltraumgeeignet,

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b. Cross-Field-Verstärkerröhren mit einem Verstär- kungsfaktor grösser als 17 dB, c. getränkte (impregnated) Kathoden, entwickelt für elektronische Röhren mit einer der folgenden Ei- genschaften:

1. Einschaltzeit bis zum Erreichen der Nenn-

emission kleiner als drei Sekunden oder

2. Erzeugung einer Stromdichte grösser als 5 A/cm2

bei kontinuierlicher Emission und Nenn- Betriebsbedingungen,

2. integrierte Mikrowellenschaltungen oder Module mit

allen folgenden Eigenschaften: a. mit monolithisch integrierten Schaltungen; und b. Betrieb bei Frequenzen grösser als 3 GHz. Anmerkung: Unternummer 3A001b² erfasst nicht Schaltungen oder Mo- dule, konstruiert oder ausgelegt für Geräte, die in den von ITU standardisierten internationalen Fernmeldebändern bei Frequenzen kleiner/gleich 31 GHz betrieben werden.

3. Mikrowellentransistoren, die für den Betrieb bei Fre-

quenzen grösser als 31 GHz ausgelegt sind,

4. Halbleitermikrowellenverstärker mit einer der folgen-

den Eigenschaften: a. Betriebsfrequenz grösser als 10,5 GHz und Momentan-Bandbreite grösser als eine halbe Okta- ve oder b. Betriebsfrequenz grösser als 31 GHz,

5. elektronisch oder magnetisch abstimmbare Bandpass-

filter oder Bandsperrfilter mit mehr als fünf abstimm- baren Resonatoren, die in weniger als 10 µs über ei- nen Frequenzbereich im Verhältnis 1,5:1 (fmax/fmin) abgestimmt werden können, mit einer der folgenden Eigenschaften: a. mit einer Durchlassbandbreite grösser als 0,5% der Mittenfrequenz oder b. mit einer Sperrbandbreite kleiner als 0,5% der Mittenfrequenz,

6. Mikrowellenbaugruppen, die bei Frequenzen grösser

als 31 GHz betrieben werden können,

7. Mischer und Umsetzer, entwickelt um den Frequenz-

bereich von Ausrüstung gemäss Unternummer ten Grenzwerte hinaus zu erweitern,

8. Mikrowellenleistungsverstärker mit von Unternum-

mer 3A001b erfassten Röhren und allen folgenden Eigenschaften:

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a. Betriebsfrequenz grösser als 3 GHz, b. mittlere Ausgangsleistungsdichte grösser als c. Volumen kleiner als 400 cm3; Anmerkung: Unternummer 3A001b8 erfasst nicht Ausrüstung, konstruiert oder ausgelegt für den Einsatz in den von ITU standardi- sierten, internationalen Fernmeldebändern. (W) c. Akustikwellenvorrichtungen wie folgt und besonders A.4 frei konstruierte Bestandteile hierfür: T: 5000

1. Vorrichtungen mit akustischen Oberflächenwellen

(surface acoustic waves) und mit akustischen ober- flächennahen Volumenwellen (surface skimming [shallow bulk] acoustic waves), d. h. Signaldatenver- arbeitungs-Vorrichtungen, die akustisch-mechanische Schwingungen (elastic waves) in Werkstoffen ver- wenden, mit einer der folgenden Eigenschaften: a. Trägerfrequenz grösser als 2,5 GHz, b. Trägerfrequenz grösser als 1 GHz und klei- ner/gleich 2,5 GHz und mit einer der folgenden Ei- genschaften:

1. Frequenz-Nebenkeulendämpfung grösser als

55 dB,

2. Produkt aus maximaler Verzögerungszeit (in

Mikrosekunden) und Bandbreite (in Megahertz) grösser als 100,

3. Bandbreite grösser als 250 MHz oder

4. dispergierende Verzögerung grösser als 10 µs

oder c. Trägerfrequenz kleiner/gleich 1 GHz und mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Produkt aus maximaler Verzögerungszeit (in

Mikrosekunden) und Bandbreite (in Megahertz) grösser als 100,

2. dispergierende Verzögerung grösser als 10 µs

oder

3. Frequenz-Nebenkeulendämpfung grösser als

55 dB und Bandbreite grösser als 50 MHz,

2. akustische Volumenwellenvorrichtungen, d. h. Sig-

naldatenverarbeitungs-Vorrichtungen, die akustisch- mechanische Schwingungen verwenden, mit denen die unmittelbare Aufbereitung von Signalen bei einer Frequenz grösser als 1 GHz möglich ist,

3. akustisch-optische Signaldatenverarbeitungs-

Vorrichtungen, die die Wechselwirkung zwischen Schallwellen (Volumen- oder Oberflächenwellen) und Lichtwellen ausnutzen und die eine unmittelbare Auf- bereitung von Signalen oder Bildern ermöglichen ein-

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schliesslich Spektralanalyse, Korrelation oder Kon- volution (Faltung); (W) d. elektronische Bauelemente oder Schaltungen, die Bau- A.4 frei teile aus supraleitenden Werkstoffen enthalten, beson- T: 5000 ders konstruiert für den Betrieb bei Temperaturen unter der kritischen Temperatur von wenigstens einem ihrer supraleitenden Bestandteile mit einer der folgenden Ei- genschaften:

1. elektromagnetische Verstärkung

a. bei Frequenzen kleiner/gleich 31 GHz mit einer Rauschzahl kleiner als 0,5 dB oder b. bei Frequenzen grösser als 31 GHz,

2. Stromschalter für digitale Schaltungen mit supralei-

tenden Gattern mit einem Produkt aus Laufzeit pro Gatter (in Sekunden) und Verlustleistung je Gatter (in Watt) kleiner als 10–14 J oder

3. Frequenzselektion bei allen Frequenzen mit Reso-

nanzkreisen, die Güte-Faktoren von mehr als 10 000 aufweisen; e. hochenergietechnische Geräte wie folgt: (W) 1. Batterien und fotovoltaische Generatoren A.4 frei (photovoltaic arrays) wie folgt: T: 5000 Anmerkung: Unternummer 3A001e¹ erfasst nicht Batterien, deren Volu- men kleiner/gleich 27 cm3 ist (wie z. B. C-Zellen, UM-2, R 14 oder sogenannte Babyzellen). a. Primärzellen und Batterien, die über eine «Energiedichte» grösser als 480 Wh/kg verfügen und für den Betrieb in einem Temperaturbereich von unter 243 K (–30 °C) bis über 343 K (70 °C) ausgelegt sind, b. wiederaufladbare Zellen und Batterien, die nach

75 Ladungs-/Entladungszyklen bei einem Entla-

dungsstrom gleich C/5 Stunden (wobei C die Nennkapazität in Ampèrestunden ist) in einem Temperaturbereich von unter 253 K (–20 °C) bis über 333 K (60 °C) über eine «Energiedichte» grösser als 150 Wh/kg verfügen, Technische Anmerkung: Die «Energiedichte» errechnet sich durch Multiplikation der Durchschnittsleistung in Watt (durchschnittliche Spannung in Volt mal durchschnittlicher Strom in Ampère) mit der Dauer der Entladung in Stunden bis auf 75% der Leerlaufspannung und dividiert durch die ge- samte Masse der Zelle (oder Batterie) in Kilogramm. c. weltraumgeeignete (space qualified) und strah- lungsfeste Solargeneratoren mit einer spezifischen Leistung grösser als 160 W/m² bei einer Betriebs-

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temperatur von 301 K (28 °C) und bei einer Be- leuchtung mit 1 kW/m² durch einen Wolframglüh- faden von 2800 K (2527 °C), (W, N) 2. Hochenergie-Speicherkondensatoren wie folgt: A.4 OGB Anmerkung: T: 1000 Siehe auch Unternummer 3A201a. a. Kondensatoren mit einer Folgefrequenz kleiner als

10 Hz (single shot capacitors) mit allen folgenden

Eigenschaften:

1. Nennspannung grösser/gleich 5 kV,

3. Gesamtenergie grösser/gleich 25 kJ,

b. Kondensatoren mit einer Folgefrequenz grö- sser/gleich 10 Hz (repetition rated capacitors) mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Nennspannung grösser/gleich 5 kV,

3. Gesamtenergie grösser/gleich 100 J und

4. Lebensdauer grösser/gleich 10 000 La-

dungs/Entladungszyklen, (W, N) 3. supraleitende Elektromagnete oder Zylinderspulen, A.4 OGB besonders konstruiert, um in weniger als einer Sekun- T: 1000 de vollständig geladen oder entladen zu werden, mit allen folgenden Eigenschaften: Anmerkung: Unternummer 3A001e3 erfasst nicht supraleitende Elektro- magnete oder Zylinderspulen, besonders konstruiert für me- dizinische Gerätschaften für Magnetresonanzbilderzeugung (Magnetic Resonance Imaging). Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Unternummer 3A201b. a. Energieabgabe während der ersten Sekunde der Entladung grösser als 10 kJ, b. innerer Durchmesser der stromführenden Windun- gen grösser als 250 mm und c. spezifiziert für eine magnetische Induktion grösser als 8 Tesla oder eine Gesamtstromdichte (overall current density) in der Windung grösser als (W) f. Absolut-Drehwinkelgeber mit einer der folgenden Ei- A.4 frei genschaften: T: 5000

1. Auflösung besser als 1 zu 265 000 vom Skalenend-

wert (Auflösung 18 bit) oder

2. Genauigkeit kleiner (besser) als ± 2,5 Bogensekun-

den.

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3A002 Elektronische Ausrüstung für allgemeine Zwecke wie (W) folgt: a. Aufzeichnungsgeräte wie folgt und besonders ent- A.4 frei wickelte Test-Magnetbänder hierfür: T: 5000

1. analoge Messmagnetbandgeräte einschliesslich sol-

cher, welche die Aufnahme digitaler Signale gestatten, z. B. mit einem «high density digital recording (HDDR) module», mit einer der folgenden Eigen- schaften: a. Bandbreite grösser als 4 MHz je elektronischem Kanal oder je Spur, b. Bandbreite grösser als 2 MHz je elektronischem Kanal oder je Spur und mit mehr als 42 Spuren oder c. Zeitfehler gegenüber der Zeitbasis (time displace- ment [base] error), gemessen in Übereinstimmung mit den zutreffenden IRIG- oder EIA-Normen, kleiner als ± 0,1 µs, Anmerkung: Analoge Magnetbandgeräte, besonders konstruiert für zivile Videoanwendungen, werden nicht als Messmagnetbandge- räte im Sinne von Unternummer 3A002a¹ betrachtet.

2. digitale Videomagnetbandgeräte mit einer höchsten

Bit-Übertragungsrate (der digitalen Schnittstelle) grösser als 360 Mio bit/s, Anmerkung: Unternummer 3A002a² erfasst nicht digitale Videomagnet- bandgeräte, besonders konstruiert für Fernsehaufzeichnungen mit einem Signalformat, das ein komprimiertes Signalformat enthalten kann, genormt oder empfohlen von ITU, IEC, SMPTE, EBU oder IEEE für zivile Fernsehanwendungen.

3. digitale Mess-/Datenaufzeichnungsmagnetbandgeräte

mit Schrägschriftverfahren oder Festkopfverfahren mit einer der folgenden Eigenschaften: a. maximale Übertragungsrate über die digitale Schnittstelle grösser als 175 Mio bit/s oder b. weltraumgeeignet, Anmerkung: Unternummer 3A002a3 erfasst nicht Analogmagnetbandge- räte, die mit einer Umsetzelektronik für digitale Aufzeich- nungen hoher Dichte (HDDR) ausgestattet und so konfigu- riert sind, dass sie nur digitale Daten aufzeichnen können.

4. Einrichtungen mit einer maximalen Übertragungsrate

über die digitale Schnittstelle grösser als 175 Mio bit/s, konstruiert, um digitale Videobandgeräte als digitale Messmagnetbandgeräte einsetzen zu können,

5. Signal-Digitalisierer (waveform digitisers) und Tran-

sientenrekorder mit allen folgenden Eigenschaften:

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a. Digitalisierungsrate grösser/gleich 200 x 106 Ab- tastwerte (samples) pro Sekunde und einer Auflö- sung von 10 bit oder mehr und b. kontinuierlicher Datendurchlauf von 2 Gbit/s oder mehr; Technische Anmerkung: Für solche Geräte mit einer parallelen Bus-Architektur ist der kontinuierliche Datendurchlauf die höchste Wortge- schwindigkeit (word rate) multipliziert mit der Anzahl der Bit pro Wort. Der kontinuierliche Datendurchlauf ist der schnellste Datenfluss (data rate), den das Gerät ohne Infor- mationsverlust und bei gleichbleibender Abtastrate und A/D- Wandlung an den Massenspeicher ausgeben kann. b. Elektronische Frequenz-Synthesizer-Baugruppen mit ei- A.4 frei ner Frequenzumschaltzeit für das Umschalten von einer T: 5000 gewählten Frequenz zu einer anderen kleiner als 1 ms; c. Signalanalysatoren wie folgt: A.4 frei

1. Signalanalysatoren, geeignet zur Analyse von Fre- T: 5000

quenzen grösser als 31 GHz,

2. dynamische Signalanalysatoren mit einer Echtzeit-

bandbreite grösser als 25,6 kHz; Anmerkung: Unternummer 3A002c² erfasst nicht dynamische Signal- analysatoren, die nur konstante prozentuale Bandbreitenfil- ter verwenden (auch bekannt als Oktaven- oder Teiloktaven- filter). d. mit Frequenzsynthese arbeitende Signalgeneratoren, die A.4 frei Ausgangsfrequenzen erzeugen, deren Genauigkeit sowie T: 5000 Kurz- und Langzeitstabilität von der geräteeigenen Normalfrequenz gesteuert, abgeleitet oder geregelt wer- den, und die eine der folgenden Eigenschaften aufwei- sen:

1. grösste, durch Frequenzsynthese erzeugte Ausgangs-

frequenz über 31 GHz,

2. Frequenzumschaltzeit für das Umschalten von einer

gewählten Frequenz zu einer anderen kleiner als 1 ms oder

3. Phasenrauschen im Einseitenband (SSB) besser als

den Abstand von der Betriebsfrequenz (in Hertz) und f für die Betriebsfrequenz (in Megahertz) steht; Anmerkung: Unternummer 3A002d erfasst nicht Geräte, in denen die Aus- gangsfrequenz entweder durch Addition oder Subtraktion von zwei oder mehreren quarzgesteuerten Oszillatorfrequenzen oder durch Addition oder Subtraktion und darauf folgende Multipli- kation des Ergebnisses erzeugt wird. e. Netzwerkanalysatoren mit einer höchsten Betriebsfre- A.4 frei quenz grösser als 40 GHz; T: 5000

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f. Mikrowellenmessempfänger mit allen folgenden Eigen- A.4 frei schaften: T: 5000

1. höchste Betriebsfrequenz grösser als 40 GHz und

2. geeignet zur gleichzeitigen Messung von Amplitude

und Phase; g. Atomfrequenznormale mit einer der folgenden Eigen- A.4 OGB schaften: T: 5000

1. Langzeitstabilität (Alterung) kleiner (besser) als

1 × 10–11 pro Monat oder

2. weltraumgeeignet.

Anmerkung: Unternummer 3A002g¹ erfasst nicht Rubidiumnormale, die nicht weltraumgeeignet sind. 3A101 Elektronische Ausrüstung, Geräte und Komponenten, die nicht von Nummer 3A001 erfasst werden, wie folgt: (M) a. Analog-Digital-Wandler, geeignet für Flugkörper, be- A.4 OGB sonders robust konstruiert (ruggedized), um militäri- T: 1000 schen Spezifikationen zu genügen; (M) b. Beschleuniger, geeignet zur Erzeugung elektromagneti- A.4 OGB scher Strahlung, erzeugt durch Bremsstrahlung mit T: 1000 Elektronenenergien grösser/gleich 2 MeV, und Systeme, die solche Beschleuniger enthalten. Anmerkung: Unternummer 3A101b erfasst nicht Ausrüstung, besonders konstruiert für medizinische Zwecke. 3A201 Elektronische Ausrüstung, die nicht von Nummer 3A001 erfasst wird, wie folgt: (N) a. Kondensatoren mit einer der folgenden Kombinationen A.4 OGB von Eigenschaften: T: 1000

1. a. Betriebsspannung grösser als 1,4 kV,

b. gespeicherte Energie grösser als 10 J, c. Kapazität grösser als 0,5 µF und d. Reiheninduktivität kleiner als 50 nH; oder

2. a. Betriebsspannung grösser als 750 V,

b. Kapazität grösser als 0,25 µF und c. Reiheninduktivität kleiner als 10 nH; (N) b. Supraleitende Solenoid-Elektromagnete mit allen fol- A.4 OGB genden Eigenschaften: T: 1000

1. geeignet zum Aufbau magnetischer Felder grösser als

2 Tesla (20 kGauss),

2. Verhältnis Länge/innerer Durchmesser grösser als 2,

3. Innendurchmesser grösser als 300 mm und

4. Gleichmässigkeit des Magnetfeldes im Bereich der

innen liegenden 50% des inneren Volumens besser als 1%;

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Anmerkung: Unternummer 3A201b erfasst nicht Magnete, die besonders konstruiert sind für medizinische NMR-Bildsysteme (nuclear magnetic resonance imaging systems) und als Teile davon ex- portiert werden. Dabei ist es nicht notwendig, dass alle Teile in einer Lieferung zusammengefasst sind. Jedoch muss aus den Ausfuhr-Dokumenten jeder Einzellieferung eindeutig hervorge- hen, dass es sich um Teile der Gesamtlieferung handelt. (N) c. Röntgenblitzgeneratoren oder gepulste Elektronenbe- A.4 OGB schleuniger mit einer der folgenden Kombinationen von T: 1000 Eigenschaften:

1. a. Spitzenelektronenenergie des Beschleunigers

grösser/gleich 500 keV und kleiner als 25 MeV und b. ein «Gütefaktor» K grösser/gleich 0,25; oder

2. a. Spitzenelektronenenergie des Beschleunigers

grösser/gleich 25 MeV und b. «Spitzenleistung» grösser als 50 MW; Anmerkung: Unternummer 3A201c erfasst nicht Beschleuniger als Be- standteile von Geräten, die für die Anwendungsgebiete ausser- halb der Elektronen- oder Röntgenbestrahlung (z. B. Elektronen- mikroskopie) oder für medizinische Zwecke entwickelt wurden. Technische Anmerkungen:

1. Im Sinne von Unternummer 3A201c ist der «Gütefaktor» K

definiert als: V = Spitzenelektronenenergie in MeV Bei einer Dauer des Strahlpulses kleiner/gleich 1 µs ist Q die gesamte beschleunigte Ladung in Coulomb. Falls die Dauer grösser ist als 1 µs, ist Q die maximale beschleunigte La- dung in 1 µs. Q = Integral des Strahlstromes i in Ampere über der Dauer t in Sekunden bis zum kleineren Wert von 1 µs oder der Dauer des Strahlpulses.

2. «Spitzenleistung» = Produkt aus Spitzenpotenzial in Volt

und Spitzenstrahlstrom in Ampere.

3. Im Sinne von Unternummer 3A201c ist bei Beschleunigern,

die auf Hohlraumresonatoren basieren (microwave accelera- ting cavities), die Dauer des Strahlpulses der kleinere Wert von 1 µs oder der Dauer des Strahlbündels, das durch einen Modulatorimpuls erzeugt wird,

4. Bei Beschleunigern, die auf Hohlraumresonatoren basieren,

ist der Spitzenstrahlstrom der Durchschnittsstrom während der Dauer eines Strahlbündels. 3A225 Frequenzumwandler oder Generatoren mit allen fol- A.4 OGB (N) genden Eigenschaften: T: 1000 a. Mehrphasenausgang mit einer Leistung grösser/gleich 40 W, b. Frequenzbereich von 600 Hz bis 2000 Hz, c. Klirrfaktor kleiner (besser) als 10% und d. Frequenzstabilisierung kleiner (besser) als 0,1%.

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Technische Anmerkung: Frequenzumwandler im Sinne von Nummer 3A225 werden auch als Konverter oder Inverter bezeichnet. 3A226 Hochenergie-Gleichstromversorgungsgeräte mit allen A.4 OGB (N) folgenden Eigenschaften: T: 1000 a. Erzeugung von 100 V oder mehr im Dauerbetrieb über einen Zeitraum von 8 h mit einem Ausgangsstrom grösser/gleich 500 A und b. Strom- oder Spannungsregelung kleiner (besser) als 0,1% über einen Zeitraum von 8 h. 3A227 Hochspannungs-Gleichstromversorgungsgeräte mit al- A.4 OGB (N) len folgenden Eigenschaften: T: 1000 a. Erzeugung von 20 kV oder mehr im Dauerbetrieb über einen Zeitraum von 8 h mit einem Ausgangsstrom grösser/gleich 1 A und b. Strom- oder Spannungsregelung kleiner (besser) als 0,1% über einen Zeitraum von 8 h. 3A228 Schaltelemente wie folgt: A.4 OGB (N) a. Kaltkathodenröhren mit oder ohne Gasfüllung, die wie T: 1000 Schaltfunkenstrecken funktionieren, mit allen folgenden Eigenschaften:

1. drei oder mehr Elektroden,

2. spezifizierte Anodenspitzenspannung grösser/gleich

2,5 kV,

3. spezifizierter Anodenspitzenstrom grösser/gleich

100 A und

4. Zündverzögerungszeit kleiner/gleich 10 µs;

Anmerkung: Nummer 3A228 schliesst gasgefüllte Krytrons und Vakuum- Sprytrons ein. b. getriggerte Schaltfunkenstrecken mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Zündverzögerungszeit kleiner/gleich 15 µs und

2. spezifiziert für Spitzenströme grösser/gleich 500 A;

c. Module oder Baugruppen zum schnellen Schalten mit allen folgenden Eigenschaften:

1. spezifizierte Anodenspitzenspannung grösser als 2 kV,

2. spezifizierter Anodenspitzenstrom grösser/gleich

500 A und

3. Einschaltzeit kleiner/gleich 1 µs.

3A229 Zündvorrichtungen und gleichwertige Hochstrom- A.4 OGB (N) Impulsgeneratoren wie folgt: T: 1000 Anmerkung: Siehe auch ML 3, Anhang 3.

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a. Zündvorrichtungen für Explosivstoffdetonatoren, ent- wickelt zur gleichzeitigen Zündung mehrerer von Num- mer 3A232 erfassten Detonatoren; b. modulare elektrische Impulsgeneratoren (Impulsgeber), mit allen folgenden Eigenschaften:

1. konstruiert für beweglichen oder besonders robusten

(ruggedized) Einsatz,

2. staubdichte Ausführung,

3. Energieabgabe in weniger als 15 µs,

4. Ausgangsstrom grösser als 100 A,

5. «Anstiegszeit» kleiner als 10 µs bei Lasten kleiner als

40 Ohm,

6. keine Abmessung grösser als 25,4 cm,

7. Gewicht kleiner als 25 kg und

8. spezifiziert für einen erweiterten Temperaturbereich

zwischen 223 K (–50 °C) und 373 K (100 °C) oder luftfahrttauglich. Anmerkung: Unternummer 3A229b schliesst Xenon-Blitzlampentreiber ein. Technische Anmerkung: Die «Anstiegszeit» ist definiert als das Zeitintervall von 10% bis 90% der Stromamplitude beim Treiben einer ohmschen Last. 3A230 Hochgeschwindigkeits-Impulsgeneratoren mit allen fol- A.4 OGB (N) genden Eigenschaften: T: 1000 a. Ausgangsspannung grösser als 6 V an einer ohmschen Last kleiner als 55 Ohm und b. «Impulsanstiegszeit» kleiner als 500 ps. Technische Anmerkung: «Impulsanstiegszeit» im Sinne von Nummer 3A230 ist das Zeit- intervall, in dem die Spannungsamplitude zwischen 10% und 90% des Maximalwertes beträgt. 3A231 Neutronengeneratorsysteme einschliesslich Neutronen- A.4 OGB (N) generatorröhren mit allen folgenden Eigenschaften: T: 1000 a. konstruiert für den Betrieb ohne äusseres Vakuumsystem und b. mit elektrostatischer Beschleunigung zur Auslösung einer Tritium-Deuterium-Kernreaktion. 3A232 Detonatoren und Mehrfachzündersysteme wie folgt: A.4 OGB (N) Anmerkung: T: 1000 Siehe auch ML 3, Anhang 3. a. elektrisch betriebene Detonatoren wie folgt:

1. Brückenzünder (EB),

2. Brückenzünderdraht (EBW),

3. Slapperzünder,

4. Folienzünder (EFI);

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b. Vorrichtungen mit einzelnen oder mehreren Detonatoren zum annähernd gleichzeitigen Zünden explosiver Ober- flächen grösser als 5000 mm², mit nur einem Zündsignal und mit einer maximalen zeitlichen Abweichung vom ursprünglichen Zündsignal über der gesamten zu zün- denden Oberfläche kleiner als 2,5 µs. Anmerkung: Nummer 3A232 erfasst keine Detonatoren, die nur Initial- Sprengstoffe, wie z. B. Bleiazid, verwenden. Technische Anmerkung: Die von Nummer 3A232 erfassten Detonatoren basieren auf einem elektrischen Leiter (Brücke, Drahtbrücke, Folien), der explosions- artig verdampft, wenn ein schneller Hochstromimpuls angelegt wird. Ausser bei den Slapperzündern wird durch den explodieren- den Leiter die chemische Detonation im Material, wie z. B. PETN (Pentaerythrittetranitrat), in Gang gesetzt. Bei den Slapperzündern wird durch den explodierenden Leiter ein Zündhammer getrieben, der bei Aufschlag auf eine Zündmasse die chemische Detonation startet. Bei einigen Ausführungen wird der Zündhammer magne- tisch angetrieben. Der Begriff Folienzünder kann sich sowohl auf Brückenzünder als auch auf Slapperzünder beziehen. Der Begriff Detonator wird auch anstelle von Zünder verwendet. 3A233 Massenspektrometer für die Messung von Ionen einer A.4 OGB (N) Atommasse grösser/gleich 230 amu (atomic mass units) T: 1000 mit einer Auflösung besser als 2 amu bei 230 amu oder grösser, und Ionenquellen hierfür wie folgt: a. induktiv gekoppelte Plasma-Massenspektrometer (ICP/MS); b. Glühentladungs-Massenspektrometer (GDMS); c. Thermoionisations-Massenspektrometer (TIMS); d. Elektronenstoss-Massenspektrometer mit einer Quellen- kammer, hergestellt aus UF6-resistenten Werkstoffen, damit ausgekleidet oder plattiert; e. Molekularstrahl-Massenspektrometer mit einer der fol- genden Eigenschaften:

1. mit einer Quellenkammer, hergestellt aus rostfreiem

Stahl oder Molybdän, damit ausgekleidet oder plat- tiert und mit einer Kühlfalle, die auf 193 K (–80 °C) oder weniger kühlen kann oder

2. mit einer Quellenkammer, hergestellt aus UF6-

resistenten Werkstoffen, damit ausgekleidet oder plattiert; f. Massenspektrometer, ausgestattet mit einer Mikro- fluorierungs-Ionenquelle, konstruiert zur Verwendung mit Aktiniden oder Aktinidenfluoriden.

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3B Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen 3B001 Ausrüstung für die Fertigung von Halbleiterbauelemen- (W) ten oder -materialien wie folgt sowie besonders kon- struierte Bestandteile und besonders konstruiertes Zu- behör hierfür: a. Speicherprogrammierbare Epitaxieausrüstung wie folgt: A.4 frei

1. Ausrüstung, geeignet zur Herstellung einer gleich- T: 5000

mässigen Schichtdicke mit einer Abweichung von weniger als ± 2,5% auf einer Strecke grösser/gleich

75 mm,

2. MOCVD (Metal Organic Chemical Vapour Deposi-

tion)-Reaktoren, besonders konstruiert für das Kri- stallwachstum von Verbindungshalbleitern aus der chemischen Reaktion zwischen Substanzen (Materialien, Werkstoffen), die von Nummer 3C003 oder 3C004 erfasst werden,

3. Molekularstrahlepitaxie-Ausrüstung, die Gas- oder

Feststoffquellen verwendet; b. Speicherprogrammierbare Ausrüstung, konstruiert für A.4 OGB Ionenimplantation, mit einer der folgenden Eigenschaf- T: 5000 ten:

1. Elektronenenergie (Beschleunigungsspannung)

grösser als 1 MeV,

2. besonders konstruiert und optimiert, um bei einer

Elektronenenergie (Beschleunigungsspannung) klei- ner als 2 keV zu arbeiten,

3. mit Direktschreibbetrieb oder

4. mit der Fähigkeit, Sauerstoff mit hoher Energie in ein

erhitztes Halbleitersubstrat zu implantieren; c. Speicherprogrammierbare Ausrüstung zum anisotropen A.4 frei Trockenätzen im Plasma wie folgt: T: 5000

1. Ausrüstung mit Kassettenbetrieb und Ladeschleusen

und mit einer der folgenden Eigenschaften: a. magnetische Plasmafeldbegrenzung (magnetic confinement) oder b. Elektronenzyklotronresonanz (ECR);

2. Ausrüstung, besonders konstruiert für die von Unter-

nummer 3B001e erfasste Ausrüstung und mit einer der folgenden Eigenschaften: a. magnetische Plasmafeldbegrenzung (magnetic confinement) oder b. Elektronenzyklotronresonanz (ECR); d. Speicherprogrammierbare Ausrüstung für plasmaunter- A.4 frei stützte chemische Abscheidung (PECVD) wie folgt: T: 5000

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1. Ausrüstung mit Kassettenbetrieb und Ladeschleusen

und mit einer der folgenden Eigenschaften: a. magnetische Plasmafeldbegrenzung (magnetic confinement) oder b. Elektronenzyklotronresonanz (ECR);

2. Ausrüstung, besonders konstruiert für die von Unter-

nummer 3B001e erfasste Ausrüstung und mit einer der folgenden Eigenschaften: a. magnetische Plasmafeldbegrenzung (magnetic confinement) oder b. Elektronenzyklotronresonanz (ECR); e. Speicherprogrammierbare zentrale Waferhandling- A.4 frei systeme für das automatische Beladen von Mehrkam- T: 5000 mersystemen mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Schnittstellen für Waferein- und -ausgabe, an die

mehr als zwei Halbleiterprozessgeräte angeschlossen werden können und

2. entwickelt, um ein integrales System zur sequentiellen

multiplen Waferverarbeitung innerhalb einer ge- schlossenen Vakuumumgebung aufbauen zu können; Anmerkung: Unternummer 3B001e erfasst nicht automatische Roboter- systeme für das Waferhandling, die nicht für den Betrieb in ei- ner Vakuumumgebung ausgelegt sind. f. Speicherprogrammierbare Lithografieanlagen wie folgt: A.4 frei

1. «Step-and-repeat»- (direct step on wafer) oder «step- T: 5000

and-scan»- (scanner) Justier- und Belichtungsanlagen für die Waferfertigung, die lichtoptische oder rönt- gentechnische Verfahren verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften: a. Wellenlänge der Lichtquelle kleiner als 350 nm oder b. geeignet, «kleinste auflösbare Strukturbreiten» von kleiner/gleich 0,5 µm zu erzeugen, Technische Anmerkung: Die «kleinste auflösbare Strukturbreite» KAS wird berechnet nach der Formel: KAS = Lambda × K NA mit: Lambda = Wellenlänge der Belichtungsquelle (in µm) NA = numerische Apertur

2. Anlagen, besonders konstruiert für die Maskenher-

stellung oder die Herstellung von Halbleiterbauele- menten, die abgelenkte, fokussierte Elektronenstrah- len, Ionenstrahlen oder Laserstrahlen verwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:

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a. Auflösungsvermögen kleiner als 0,2 µm, b. Fähigkeit, Strukturen mit Abmessungen kleiner als

1 µm zu erzeugen oder

c. Justiergenauigkeit (overlay accuracy) besser als ± 0,20 µm (3 Sigma); g. Masken oder Reticles, entwickelt für von Nummer A.4 frei 3A001 erfasste integrierte Schaltungen; T: 5000 h. Multilayer-Masken mit einer phasenverschiebenden A.4 frei Schicht. T: 5000 3B002 Speicherprogrammierbare Prüfgeräte, besonders kon- A.4 frei (W) struiert für das Testen von fertigen oder unfertigen T: 5000 Halbleiterbauelementen wie folgt, sowie besonders kon- struierte Bestandteile und besonders konstruiertes Zu- behör hierfür: a. zum Prüfen der S-Parameter von Transistoren bei Fre- quenzen grösser als 31 GHz; b. zum Prüfen von integrierten Schaltungen mit Wahrheits- tabellen (truth tables) bei einer Testmusterrate grösser als 60 Mhz; Anmerkung: Unternummer 3B002b erfasst nicht Prüfgeräte, besonders kon- struiert für die Prüfung von

1. Elektronischen Baugruppen oder einer Klasse von elektroni-

schen Baugruppen für die Haushalts- oder Unterhaltungs- Elektronik,

2. nicht erfassten elektronischen Bauteilen, elektronischen

Baugruppen oder integrierten Schaltungen. c. zum Prüfen von integrierten Mikrowellenschaltungen bei Frequenzen grösser als 3 Ghz; Anmerkung: Unternummer 3B002c erfasst nicht Prüfgeräte, besonders kon- struiert zur Prüfung von integrierten Mikrowellenschaltungen, die für Geräte entwickelt oder ausgelegt sind, die nur in den von ITU standardisierten internationalen Fernmeldebändern bei Frequenzen kleiner/gleich 31 GHz betrieben werden. d. Elektronenstrahlsysteme, entwickelt für den Betrieb bei oder unter 3 keV, oder Laserstrahlsysteme zur berüh- rungsfreien Prüfung von Halbleiterbauelementen im ein- geschalteten Zustand mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Stroboskopbetrieb entweder mittels Strahlaustastung

(beam-blanking) oder Pulsbetrieb des Detektors (detector strobing) und

2. Elektronenspektrometer zur Spannungsmessung mit

einer Auflösung kleiner als 0,5 V. Anmerkung: Unternummer 3B002d erfasst nicht Rasterelektronenmikroskope, ausgenommen solche, die für die berührungsfreie Prüfung von

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Halbleiterbauelementen im eingeschalteten Zustand besonders ausgelegt und ausgerüstet sind.

3C Werkstoffe und Materialien 3C001 Hetero-epitaxiale Werkstoffe aus einem Substrat, das A.4 frei (W) mehrere Epitaxieschichten aus einem der folgenden Ma- T: 5000 terialien enthält: a. Silizium, b. Germanium oder c. III/V-Verbindungen von Gallium oder Indium. Technische Anmerkung: III/V-Verbindungen sind polykristalline, binäre oder komplexe monokristalline Produkte, die aus den Elementen der Gruppen IIIA und VA des Mendelejeffschen Periodensystems (z. B. Galliumar- senid, Galliumaluminiumarsenid, Indiumphosphid) bestehen. 3C002 Photoresists wie folgt und Substrate, die mit erfassten A.4 frei (W) Photoresists beschichtet sind: T: 5000 a. Positiv-Photoresists, entwickelt für die Halbleiter- Lithografie, besonders eingestellt (optimiert) für den Einsatz bei Wellenlängen kleiner als 350 nm; b. alle Photoresists, entwickelt zur Verwendung mit Elek- tronen- oder Ionenstrahlen mit einer Empfindlichkeit c. alle Photoresists, entwickelt zur Verwendung mit Rönt- genstrahlen mit einer Empfindlichkeit besser/gleich d. alle Photoresists, optimiert für Oberflächen- Belichtungstechnologien einschliesslich «silylierter» Photoresists (silylated resists). Technische Anmerkung: «Silylation»-Techniken sind Verfahren, bei denen Oxydation innerhalb der Resistschicht zur Verbesserung der Nass- und Trockenentwicklung angewendet wird. 3C003 Organisch-anorganische Verbindungen wie folgt: A.4 frei (W) a. Metallorganische Verbindungen aus Aluminium, Gallium T: 5000 oder Indium mit einer Reinheit (bezogen auf das Metall) grösser als 99,999%; b. Organische Arsen-, Antimon- oder Phosphorverbindun- gen mit einer Reinheit (bezogen auf das anorganische Element) grösser als 99,999%. Anmerkung: Nummer 3C003 erfasst nur Verbindungen, deren metallisches, halbmetallisches oder nichtmetallisches Element direkt an das Kohlenstoffatom im organischen Teil des Moleküls gebunden ist.

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3C004 Phosphor-, Arsen- oder Antimonhydride mit einer A.4 frei (W) Reinheit grösser als 99,999%, auch verdünnt in Inert- T: 5000 gasen oder Wasserstoff. Anmerkung: Nummer 3C004 erfasst nicht Hydride, die 20 Molprozent oder mehr Inertgase oder Wasserstoff enthalten.

3D Datenverarbeitungsprogramme (Software) 3D001 Software, besonders entwickelt für die Entwicklung oder A.4 OGB (W) Herstellung von Ausrüstung, die von den Unternummern T: keine 3D002 Software, besonders entwickelt für die Verwendung der A.4 frei (W) von Nummer 3B erfassten speicherprogrammierbaren T: keine Ausrüstung. 3D003 Software, entwickelt für den computergestützten Ent- A.4 frei (W) wurf (CAD) zur Fertigung von Halbleiterbauelementen T: keine oder integrierten Schaltungen mit einer der folgenden Eigenschaften: a. Entwurfsregeln oder Regeln zur Überprüfung des Schaltungsentwurfs, b. Simulation der physikalischen Eigenschaften von ent- worfenen Schaltungen oder c. «Simulatoren der lithografischen Bearbeitung» in der Entwurfsphase. Technische Anmerkung: Ein «Simulator der lithografischen Bearbeitung» ist ein Soft- ware-Paket für die Entwurfsphase, bei dem die Schrittfolge in Bezug auf die Lithografie, das Ätzen und die Abscheidung festgelegt werden, um die Maskenmuster in die spezifischen topografischen Muster für die Leiterbahnen, dielektrischen Werkstoffe oder Halbleiterwerkstoffe umzusetzen. Anmerkung: Nummer 3D003 erfasst nicht Software, besonders entwickelt für die Schaltplaneingabe, die Logiksimulation, das Platzieren und die Anordnung der elektrischen Verbindungen, die Layout-Über- prüfung oder die Erstellung des PG(Pattern Generation)-Bandes. Ergänzende Anmerkung: Die Bibliotheken, die Entwurfsattribute oder die zugehörigen Da- ten zum Entwurf von Halbleiterbauelementen oder integrierten Schaltungen gelten als Technologie. 3D101 Software, ausschliesslich entwickelt für die Verwendung A.4 OGB (M) der von Unternummer 3A101b erfassten Ausrüstung. T: keine

3E Technologie 3E001 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W, M) gie-Anmerkung für die Entwicklung oder Herstellung T: keine (N) von Ausrüstung oder Werkstoffen, die von Nummer 3A,

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Anmerkung: Nummer 3E001 erfasst nicht Technologie für die Entwicklung oder Herstellung von a. Mikrowellentransistoren, die bei Frequenzen unter 31 GHz ar- beiten, b. integrierten Schaltungen, die von den Unternummern 3A001a3 bis 3A001a12 erfasst werden und folgende Merkmale aufwei- sen:

1. Verwendung einer Technologie mit minimalen Struktur-

breiten grösser/gleich 0,7 µm und

2. keine «Multilayer-Strukturen».

Ergänzende Anmerkung: Der Begriff «Multilayer-Strukturen» in Anmerkung b² zu Nummer 3E001 schliesst nicht Bauelemente mit höchstens zwei Metallisierungsschichten und zwei Polysilizium- schichten ein. 3E002 Technologie wie folgt für die Entwicklung oder Her- A.4 frei (W) stellung von: T: keine a. mikroelektronischen Vakuumbauelementen; b. Halbleiterbauelementen mit heterogener Struktur, z. B. HEMTs (high electron mobility transistors), HBTs (hetero-bipolar transistors), «quantum well devices» oder «super lattice devices»; c. supraleitenden elektronischen Bauelementen; d. Substraten mit Diamantfilmen für elektronische Bauele- mente, e. Substraten aus «silicon-on-insulator» (SOI) für inte- grierte Schaltungen, wobei der Isolator aus Silizium- dioxid besteht; f. Substraten aus Siliziumkarbid für elektronische Bauele- mente. 3E101 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (M) gie-Anmerkung für die Verwendung von Ausrüstung T: keine oder Software, erfasst von Unternummer 3A001a¹, 3E102 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (M) gie-Anmerkung für die Entwicklung von Software, er- T: keine fasst von Nummer 3D101. 3E201 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (N) gie-Anmerkung für die Verwendung von Ausrüstung, T: keine erfasst von Unternummer 3A001e², 3A001e3, Nummer

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4 Rechner

Anmerkungen zu Kategorie 4:

1. Rechner, verwandte Geräte und Software für Telekommunika-

tions- oder Local Area Network-Funktionen sind auch nach den Leistungsmerkmalen der Kategorie 5, Teil 1 – Telekommuni- kation, zu bewerten. Ergänzende Anmerkungen:

1. Steuereinheiten, die Bussysteme oder Kanäle von Zentral-

einheiten, Hauptspeicher oder Plattensteuerungen direkt verbinden, gelten nicht als Telekommunikationsgeräte im Sinne der Kategorie 5, Teil 1 – Telekommunikation.

2. Die Erfassung von Software, besonders entwickelt für die

Paketvermittlung, richtet sich nach der Nummer 5D001 – Telekommunikation.

2. Rechner, verwandte Geräte und Software mit kryptografischen,

kryptoanalytischen, einstufbaren, mehrstufigen Sicherheits- oder einstufbaren Teilnehmerabgrenzungs-Funktionen oder mit einer Begrenzung elektromagnetischer Verträglichkeit (EMV) sind auch nach den Leistungsmerkmalen der Kategorie 5, Teil 2 – Informationssicherheit, zu bewerten.

4A Systeme, Ausrüstung und Bestandteile 4A001 Elektronische Rechner und verwandte Geräte wie folgt sowie elektronische Baugruppen und besonders kon- struierte Bestandteile hierfür: Anmerkung: Siehe auch Nummer 4A101. (W, M) a. besonders konstruiert für eine der folgenden Eigen- A.4 OGB schaften: T: 5000

1. ausgelegt für den Betrieb bei Umgebungstemperatu-

ren unterhalb 228 K (–45 °C) oder oberhalb 358 K (+85 °C), oder Anmerkung: Unternummer 4A001a¹ gilt nicht für Rechner, besonders konstruiert zur Verwendung in zivilen Kraftfahrzeugen oder Eisenbahnzügen.

2. unempfindlich gegen Strahlungsbelastungen

(radiation-hardened), die höher sind als einer der fol- genden Grenzwerte: a. Gesamtstrahlungsdosis 5 × 103 Gy (Si), b. kritische Strahlungsdosisleistung 5 × 106 Gy (Si)/s, oder c. Einzelereignis-Grenzwerte (SEU) 1 × 10–7 Feh- ler/bit/Tag; (W) b. mit Eigenschaften oder Funktionen, welche die Grenz- A.4 OGB werte der Kategorie 5, Teil 2 - Informationssicherheit, T: 5000 überschreiten. Anmerkung: Unternummer 4A001b erfasst nicht elektronische Rechner und verwandte Geräte, wenn diese von ihrem Benutzer zum persön- lichen Gebrauch mitgeführt werden.

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4A002 Hybridrechner wie folgt sowie elektronische Baugruppen A.4 frei (W) und besonders konstruierte Bestandteile hierfür: T: 5000 Anmerkung: Siehe auch Nummer 4A102. a. mit von Nummer 4A003 erfassten Digitalrechnern; b. mit Analog/Digital-Wandlern, die alle folgenden Eigen- schaften haben:

1. 32 oder mehr Kanäle und

2. Auflösung grösser/gleich 14 bit (ohne Vorzeichen)

bei Wandlungsraten grösser/gleich 200 000 Wand- lungen/s. 4A003 Digitalrechner, elektronische Baugruppen und verwandte (W) Geräte wie folgt sowie besonders konstruierte Bestand- teile hierfür: Anmerkungen:

1. Nummer 4A003 schliesst folgendes ein:

a. Vektorrechner, b. Array-Rechner, c. digitale Signaldatenverarbeitungsrechner, d. Logikrechner, e. Geräte, entwickelt für Bildverarbeitung, f. Geräte, entwickelt für Signaldatenverarbeitung.

2. Die Erfassung von in Nummer 4A003 beschriebenen Digital-

rechnern und verwandten Geräten richtet sich nach dem Erfas- sungsstatus anderer Geräte oder Systeme, sofern a. die Digitalrechner oder die verwandten Geräte wesentlich sind für die Funktion der anderen Geräte oder Systeme, b. die Digitalrechner oder verwandten Geräte nicht einen Haup- bestandteil der anderen Geräte oder Systeme darstellen und Ergänzende Anmerkungen:

1. Die Erfassung von Geräten zur Signaldatenverarbeitung

oder Bildverarbeitung, besonders konstruiert für andere Einrichtungen unter Einhaltung der Funktionsgrenzwerte dieser anderen Einrichtungen, wird durch den Erfas- sungsstatus der anderen Einrichtungen auch dann be- stimmt, wenn das Kriterium des Hauptbestandteils nicht mehr erfüllt ist.

2. Die Erfassung von Digitalrechnern oder verwandten Ge-

räten für Telekommunikationseinrichtungen richtet sich nach Kategorie 5, Teil 1 – Telekommunikation. c. die Technologie für die Digitalrechner oder verwandten Ge- räte von Nummer 4E geregelt wird. a. konstruiert oder geändert für Systeme mit Fehlertoleranz; A.4 frei T: 5000 Anmerkung: Im Sinne von Unternummer 4A003a gelten Digitalrechner und verwandte Geräte nicht als konstruiert oder geändert für Feh- lertoleranz, wenn sie

1. Fehlererkennungs- oder Fehlerkorrekturalgorithmen im Haupt-

speicher verwenden, 2.die gegenseitige Verbindung von zwei Digitalrechnern so verwenden, dass bei Ausfall der aktiven Zentraleinheit eine

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mitlaufende Zentraleinheit die Aufgaben des Systems fort- führen kann,

3. die gegenseitige Verbindung von zwei Zentraleinheiten über

Datenkanäle oder gemeinsame Speicher so verwenden, dass eine mitlaufende Zentraleinheit so lange andere Aufgaben ausführen kann, bis die aktive Zentraleinheit ausfällt; dann übernimmt die mitlaufende Zentraleinheit, um die Aufgaben des Systems fortzuführen, oder

4. die Synchronisierung von zwei Zentraleinheiten mittels

Software so verwenden, dass die mitlaufende Zentraleinheit erkennt, wenn die aktive Zentraleinheit ausfällt, um dann die Aufgaben der ausgefallenen Zentraleinheit zu übernehmen. b. Digitalrechner mit einer zusammengesetzten theoreti- A.4 OGB schen Verarbeitungsrate CTP von mehr als 6500 Mtops T: 1000 (Millionen theoretischer Operationen je Sekunde); c. elektronische Baugruppen, besonders konstruiert oder A.4 OGB geändert zur Steigerung der Rechenleistung durch Zu- T: 1000 sammenschalten von Rechenelementen CEs, so dass die zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate CTP den Grenzwert von Unternummer 4A003b überschreiten kann; Anmerkungen:

1. Unternummer 4A003c gilt nur für elektronische Bau-

gruppen und programmierbare Zusammenschaltungen von Rechenelementen CEs, welche die Grenzwerte der Unter- nummer 4A003b nicht überschreiten, soweit sie als einzelne elektronische Baugruppen geliefert werden. Unternummer 4A003c gilt nicht für elektronische Baugrup- pen, die aufgrund ihrer Konstruktion auf eine Verwendung wandte Geräte beschränkt sind.

2. Unternummer 4A003c erfasst keine elektronischen Bau-

gruppen, besonders konstruiert für Produkte oder Produkt- familien, deren Maximalkonfiguration den Grenzwert der Unternummer 4A003b nicht überschreitet. d. Grafikbeschleuniger und Grafik-Coprozessoren mit einer A.4 frei dreidimensionalen (3-D) Vektorrate grösser als T: 5000

3 000 000 Vektoren/s;

e. Geräte für Analog/Digital-Umwandlungen, welche die A.4 frei Grenzwerte der Unternummer 3A001a5 überschreiten; T: 5000 f. nicht belegt; g. Geräte, besonders konstruiert für die externe Vernetzung A.4 frei von Digitalrechnern oder verwandten Geräten, die eine T: 5000 Kommunikation mit Datenraten über 80 MByte/s erlauben. Anmerkung: Unternummer 4A003g erfasst keine Geräte zur internen Ver- netzung (z. B. Rückwandplatinen, Bussysteme) oder passives Netzwerkzubehör, Netzzugangssteuerungen oder Kommunika- tionskanalsteuerungen.

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4A004 Rechner wie folgt und besonders konstruierte, verwandte A.4 frei (W) Geräte, elektronische Baugruppen und Bauteile hierfür: T: 5000 a. systolische Array-Rechner; b. neuronale Rechner; c. optische Rechner. 4A101 Analogrechner, Digitalrechner oder digitale Differen- A.4 OGB (M) tialanalysatoren, die nicht von Unternummer 4A001a¹ T: 5000 erfasst werden, besonders robust (ruggedized) und kon- struiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen. 4A102 Hybridrechner, ausschliesslich konstruiert für die Mo- A.4 OGB (M) dellbildung, Simulation oder Integrationsplanung der T: 5000 von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen. Anmerkung: Nummer 4A102 erfasst nur Ausrüstung in Verbindung mit der von Nummer 7D103 oder 9D103 erfassten Software.

4B Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtung nicht belegt

4C Werkstoffe und Materialien nicht belegt

4D Datenverarbeitungsprogramme (Software) Anmerkung: Der Erfassungsstatus von Software für die Entwicklung, Herstel- lung oder Verwendung von in anderen Kategorien beschriebenen Einrichtungen wird in den zutreffenden Kategorien geregelt. Die Erfassung von Software für die in Kategorie 4 beschriebenen Ein- richtungen richtet sich nach Nummer 4D. 4D001 Software, besonders entwickelt oder geändert für die A.4 OGB (W) Entwicklung, Herstellung oder Verwendung von Ein- T: keine richtungen oder Software, die von Nummer 4A001 bis 4D002 Software, besonders entwickelt oder geändert zur Un- A.4 frei (W) terstützung der Technologie, die von Nummer 4E er- T: keine fasst wird. 4D003 Software wie folgt: A.4 frei (W) a. Quellcodes von Betriebssystem-Software, Software- T: keine Entwicklungswerkzeugen und Compilern, besonders entwickelt für Geräte zur Mehrfachdatenstromverarbei- tung;

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b. Expertensysteme oder Software für Expertensysteme zur Wissensauswertung (inference engines) mit beiden fol- genden Eigenschaften:

1. zeitabhängige Regeln und

2. Elementarfunktionen (primitives) zur Behandlung von

Zeitcharakteristika der Regeln und Tatsachen; c. Software mit Eigenschaften oder Funktionen, die die Grenzwerte der Kategorie 5, Teil 2 - Informationssi- cherheit, überschreiten; Anmerkung: Unternummer 4D003c erfasst nicht Software, wenn diese von ihrem Benutzer zum persönlichen Gebrauch mitgeführt wird. d. Betriebssysteme, besonders konstruiert für Rechner zur Echtzeitverarbeitung, die eine Prozess-Reaktionszeit (global interrupt latency time) kleiner als 20 µs gewähr- leisten.

4E Technologie 4E001 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W, M) gie-Anmerkung für die Entwicklung, Herstellung oder T: keine Verwendung von Einrichtungen oder Software, die von Nummer 4A oder 4D erfasst werden.

Technische Anmerkung zur zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate CTP (Composite Theoretical Performance) Abkürzungen: CE Rechenelement (i. d. R. eine arithmetische oder logische Einheit) FP Gleitkomma XP Festkomma t Ausführungszeit eines Befehls (in Mikrosekunden) XOR exklusive ODER-Verknüpfung CPU Zentraleinheit TP theoretische Verarbeitungsrate (eines einzelnen Rechenelements CEs) (in Mtops, Millionen theoretischer Operationen je Sekunde) CTP zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate (in Mtops, Millionen theoretischer Operationen je Sekunde) von mehreren Rechenelementen CEs R effektive Verarbeitungsrate WL Wortlänge (in Bit) L Wortlängen-Normierung × Multiplikation Die zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate CTP ist eine Masszahl für die Rechnerleistung, angegeben in Millionen theoretischer Operationen je Sekunde (Mtops). Zur Berechnung der zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate CTP eines Systems mit Rechenelementen Ces sind folgende drei prinzipielle Schritte erforderlich:

Güterkontrollverordnung AS 1999

1. Berechnung der effektiven Verarbeitungsrate R für jedes Rechenelement CE.

2. Berechnung der theoretischen Verarbeitungsrate TP durch Verknüpfung der ef-

fektiven Verarbeitungsrate R und der zugehörigen Wortlängen-Normierung L je Rechenelement CE.

3. Enthält ein System mehr als ein Rechenelement CE, so sind zur Berechnung der

zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate CTP die einzelnen theoreti- schen Verarbeitungsraten TP zu aggregieren. Technische Anmerkungen: 1. Für Zusammenschaltungen mehrerer Rechenelemente CEs, die sowohl gemeinsamen Spei- cher als auch lokalen (keinen gemeinsamen) Speicher besitzen, ist die Berechnung der zu- sammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate CTP in zwei Schritten nacheinander durchzuführen: a. es ist die zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate CTP der Zusammenschal- tung (Gruppen) der Rechenelemente Ces mit gemeinsamem Speicher und dann b. die zusammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate CTP der Gruppen unter Verwen- dung der Rechenvorschrift für mehrere parallel arbeitende Rechenelemente CEs, ohne einen gemeinsamen Speicher zu berechnen. 2. Rechenelemente CEs, deren Funktion beschränkt ist auf Ein-/Ausgabe und periphere Funk- tionen (z. B. Festplatten-, Kommunikations- und Bildschirm-Steuereinheiten), sind nicht in die CTP-Berechnung mit einzubeziehen. Schritt 1: Berechnung der effektiven Verarbeitungsrate R verschiedener Rechenelemente CEs: Ergänzende Anmerkung: Jedes Rechenelement CE muss unabhängig von den anderen berechnet werden.

Rechenelement CE Effektive Verarbeitungsrate R

mit Festkommabefehlen: 1

3 × txp add

Ist kein Additionsbefehl vorhanden, so ist die Aus- führungszeit des schnellsten Multiplikationsbefehls zu verwenden:

txp mult Ist weder ein Additions- noch ein Multiplikations- befehl vorhanden, so ist die Ausführungszeit des schnellsten arithmetischen Befehls zu verwenden:

3 × txp

Siehe Anmerkungen X und Z.

mit Gleitkommabefehlen: Rfp = max [ 1 ; 1 ] tfp add tfp mult Siehe Anmerkungen X und Y.

mit Festkomma- und sowohl Rxp als auch Rfp sind zu berechnen. Gleitkommabefehlen:

Güterkontrollverordnung AS 1999

mit nur logischen Befehlen 1 (keine arithmetischen Befehle 3 × tlog vorhanden): tlog ist die Ausführungszeit des schnellsten XOR- Befehls. Ist kein XOR-Befehl vorhanden, so ist die Ausführungszeit des schnellsten logischen Befehls zu verwenden. Siehe Anmerkungen X und Z.

metischen oder logischen Be- R' ist die Anzahl der Rechenoperationen je Sekunde. fehle (spezielle Rechenele- WL ist die Anzahl der Bits, die miteinander logisch mente CEs): verknüpft werden. 64 ist eine Konstante zur Norma- lisierung, bezogen auf Operationen mit einer Wort- länge von 64 bit.

Schritt 2: Berechnung der theoretischen Verarbeitungsrate TP unter Berücksichtigung der Wortlänge WL: Die effektive Verarbeitungsrate R (oder R') ist wie folgt durch die Wortlänge WL zu normalisieren: Ergänzende Anmerkung: Die Wortlänge WL entspricht der Länge der Operanden in Bits. Verwendet ein Befehl Operanden unterschiedlicher Länge, so ist die grösste Wortlänge zu benutzen. Bei der Berechnung der zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate CTP ist die Kombi- nation einer arithmetisch logischen Einheit ALU zur Berechnung der Mantisse mit einer ALU zur Berechnung des Exponenten einer Gleitkommazahl in einem Gleitkommaprozessor oder einer Gleitkommaeinheit als ein einziges Rechenelement CE mit einer Wortlänge WL entsprechend der Anzahl der Datenbits in der Datendarstellung (typisch 32 oder 64 bit) zu betrachten. Die Normalisierung der effektiven Verarbeitungsrate R (oder R') ist nicht für spezielle Re- chenelemente CEs ohne XOR-Befehle anzuwenden. Hier gilt TP = R. Die grösstmögliche theoretische Verarbeitungsrate TP ergibt sich aus: Rxp = Rechenelement CE mit Festkommaarithmetik, Rfp = Rechenelement CE mit Gleitkommaarithmetik, Rxp und Rfp = Rechenelement CE mit Fest- und Gleitkommaarithmetik, R = Rechenelement CE mit nur logischen Befehlen (keine arithmetischen Befehle) und R = Rechenelement CE ohne die spezifizierten arithmetischen oder logi- schen Befehle. Schritt 3: Berechnung der zusammengesetzten theoretischen Verarbeitungsrate CTP zusam- mengeschalteter Rechenelemente CEs, einschliesslich Rechenwerke CPUs: a. Für ein Rechenwerk mit nur einem Rechenelement CE gilt Ergänzende Anmerkung: Für Rechenelemente CEs mit Fest- und Gleitkommaarithmetik gilt TP = max (TP xp; TPfp).

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b. Für Systeme mit mehreren simultan arbeitenden Rechenelementen CEs: Anmerkung 1: Für Zusammenschaltungen, in denen nicht alle Rechenelemente CEs simultan arbeiten, ist diejenige mögliche Kombination simultan arbeitender Rechenelemente CEs auszuwählen, die den höchsten CTP-Wert ergibt. Die zum Gesamtergebnis beitragende höchste erreichba- re theoretische Verarbeitungsrate jedes Rechenelements CEs ist zu ermitteln, ehe die zu- sammengesetzte theoretische Verarbeitungsrate CTP des Systems berechnet wird. Ergänzende Anmerkung: Um die möglichen Kombinationen von gleichzeitig arbeitenden Rechenelementen CEs zu bestimmen, soll eine Befehlssequenz erstellt werden, die Operationen in mehreren Re- chenelementen Ces in Gang setzt, beginnend mit dem «langsamsten» Rechenelement CE (das Rechenelement CE, das die grösste Anzahl von Instruktionszyklen für die Ausführung der Operation benötigt) und endend mit dem «schnellsten» Rechenelement CE. Während jedes Zyklus der Befehlssequenz ist jede Kombination von Rechenelementen CEs, die arbeitet, eine mögliche Kombination. Die Befehlssequenz muss alle hardware- und/oder architekturbedingten Einschränkungen für überlappende Operationen berücksichtigen. Anmerkung 2: Ein einzelner integrierter Schaltkreis oder eine Platine kann mehrere Rechenelemente CEs enthalten. Anmerkung 3: Es ist von simultan arbeitenden Rechenelementen Ces auszugehen, wenn der Hersteller in seinen Handbüchern oder Datenblättern die parallele oder simultane Verarbeitung von Be- fehlen angibt. Anmerkung 4: Eine Aggregation der CTP-Werte einzelner Rechenelemente Ces ist nicht vorzunehmen bei Kombinationen von Rechenelementen CEs, die verbunden oder vernetzt sind über: Lokal Area Networks (LANs), Weitverkehrsnetze (WANs), Systeme, die über gemeinsame I/O- Verbindungen vernetzt sind, Systeme mit gemeinsamen I/O-Steuereinheiten und alle Systeme, bei denen die Kommunikationsverbindung ausschliesslich durch Software implementiert ist. Anmerkung 5: Eine Aggregation der CTP-Werte ist vorzunehmen bei mehreren Rechenelementen CEs, wenn diese besonders konstruiert sind, um die Rechenleistung durch Zusammenschaltung zu erhöhen, sie gleichzeitig arbeiten und einen gemeinsamen Speicher besitzen. Ebenfalls aggregiert werden müssen Speicher/Rechenelement-Kombinationen, die gleich- zeitig arbeiten und besonders konstruierte Hardware zur Parallelverarbeitung benutzen.

Diese Aggregation ist nicht für elektronische Baugruppen gemäss Unternummer 4A003c anzuwenden, wenn diese als Einzelbaugruppen exportiert werden. wobei TP¹ der höchste aller TP-Werte und Ci ein durch den Grad der Kopplung der Rechenelemente CEs bestimmter Faktor ist wie folgt:

1. Für mehrere parallel arbeitende Rechenelemente CEs mit einem gemeinsamen

Speicher: Anmerkung: Rechenelemente Ces haben einen gemeinsamen Speicher, falls sie zu mindestens einem ge- meinsamen Segment eines Halbleiterspeichers zugreifen können. Der Speicher kann aus Puffer- speicher, Hauptspeicher oder anderem internem Speicher bestehen. Periphere Speichergeräte wie Plattenspeicher, Magnetbandspeicher oder «RAM disk» sind ausgeschlossen.

2. Für parallel arbeitende Rechenelemente CEs oder Rechenwerke ohne einen ge-

meinsamen Speicher, die über einen oder mehrere Datenkanäle verbunden sind: Ci = 0,75 × ki (i = 2,...,32) (siehe unten)

Güterkontrollverordnung AS 1999

Der Wert von Ci bezieht sich auf die Anzahl der Rechenelemente CEs und nicht auf die Anzahl der Knoten mit: Si = Summe der höchsten Datenraten in MByte/s aller Datenkanäle, die mit dem i-ten Rechenelement CE oder Rechenwerk verbunden sind. Bei der Berechnung von Ci für ein Rechenwerk bestimmt die laufende Nummer des ersten Rechenelementes CE den richtigen Grenzwert für Ci. Beispiel: In einer Zusammenschaltung von Rechenwerken, die jeweils aus 3 Rechenele- menten CEs bestehen, enthält das 22. Rechenwerk die Rechenelemente CEs Nr. 64, 65 und 66. Der richtige Ci-Wert für dieses Rechenwerk ist 0,60. Die Zusammenschaltung (von Rechenelementen CEs oder Rechenwerken) sollte in der Reihenfolge vom schnellsten zum langsamsten geschehen, d. h. TP¹ ≥ TP² ≥ TP3 ≥ ... TPn und im Falle von TPi = TPi+1 vom grössten zum kleinsten Ci, d. h. Ci ≥ Ci+1. Anmerkung: Der ki-Faktor wird nicht auf die Rechenelemente CEs Nr. 2 bis Nr. 12 angewendet, wenn die TPi des Rechenelementes CE oder des Rechenwerks grösser als 50 Mtops ist, d. h. Ci für die Rechenelemente CEs 2 bis 12 ist dann 0,75. Anmerkung W: Für ein Rechenelement CE in Fliessbandtechnik (pipelined CE), das in einer sei- ner sequentiellen Funktionseinheiten bis zu einen Befehl pro Zyklus ausführen kann, nachdem das Fliessband (pipeline) gefüllt ist, kann eine Verarbeitungsrate für Rechenelemente CEs in Fliessbandtechnik eingeführt werden. Die effektive Verarbeitungsrate R für ein derartiges Rechenelement CE ist die grössere der bei- den Verarbeitungsraten für den Fliessband- (pipeline-) und den Nicht-Fliessband- Betrieb des Rechenelementes CE. Anmerkung X: Für ein Rechenelement CE, das mehrere gleichartige arithmetische Operationen während eines Maschinenzyklusses ausführt (z. B. zwei Additionen je Zyklus oder zwei identische logische Operationen pro Zyklus) ergibt sich die Ausfüh- rungszeit t wie folgt: t= Zykluszeit Anzahl der identischen Operationen je Zyklus Rechenelemente CEs, die verschiedenartige arithmetische oder logische Operatio- nen in einem Maschinenzyklus ausführen, sind als mehrere selbstständige simul- tan arbeitende Rechenelemente CEs zu behandeln (z. B., führt ein Rechenelement CE in demselben Zyklus einen Additions- und einen Multiplikationsbefehl aus, so ist diese Operation als in zwei Rechenelementen CEs ausgeführt anzusehen. Das erste Rechenelement CE führt in einem Zyklus den Additionsbefehl und das

zweite in einem Zyklus den Multiplikationsbefehl aus). Kann ein Rechenelement CE sowohl skalare Operationen als auch Vektoropera- tionen ausführen, so ist die kürzere Ausführungszeit zu verwenden.

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Anmerkung Y: Sind in einem Rechenelement CE keine Gleitkomma-Additions- oder Gleitkom- ma-Multiplikationsbefehle vorhanden, hingegen Divisionsbefehle, so gilt: tfp div Wenn in einem Gleitkomma-Rechenelement CE der Reziprok-Befehl implemen- tiert ist, jedoch weder die Addition noch die Multiplikation oder Division imple- mentiert ist, dann gilt: tfp reziprok Sind keine der angegebenen Befehle vorhanden, so ist die effektive Verarbei- tungsrate R für Gleitkomma-Operationen gleich Null zu setzen. Anmerkung Z: Durch einfache logische Operationen werden von einem Befehl nicht mehr als zwei Operanden bestimmter Länge miteinander verknüpft. Durch komplexe logi- sche Operationen werden von einem Befehl mehrere Verknüpfungen ausgeführt, um ein oder mehrere Ergebnisse aus zwei oder mehreren Operanden zu erzeugen. Die Verarbeitungsraten sind für alle im System vorhandenen Operandenlängen zu ermitteln, und zwar unter Berücksichtigung der schnellsten Befehlsausführungs- zeit je Operandenlänge, sowohl für Operationen in Fliessbandtechnik (pipelined operations), wenn vorhanden, als auch für sequentielle Befehle, basierend auf:

1. Register-Register-Operationen oder Operationen in Fliessbandtechnik (pipe-

lined operations). Sehr kurze Befehlsausführungszeiten für Operationen mit vorab festgelegtem Operand oder bestimmten Operanden (z. B. eine Multipli- kation mit 0 und 1) können ausser Betracht bleiben. Sind keine Register- Register-Operationen vorhanden, so ist mit 2. fortzufahren.

2. Register-Speicher- oder Speicher-Register-Operationen. Sind keine Register-

Speicher- oder Speicher-Register-Operationen vorhanden, so ist mit 3. fortzu- fahren.

3. Speicher-Speicher-Operationen.

In jedem der vorstehenden Fälle ist die vom Hersteller angegebene kürzeste Be- fehlsausführungszeit anzuwenden.

Listen-Nr. Güterbezeichnung Erleichterungen (Regime)

5 Telekommunikation und Informationssicherheit

Teil 1 – Telekommunikation Anmerkungen zu Kategorie 5, Teil 1:

1. Die Erfassung von Bauteilen, Lasern, Test- und Herstellungs-

einrichtungen, und Software hierfür, die für Telekommuni- kationseinrichtungen oder -systeme besonders entwickelt sind, richtet sich nach Kategorie 5, Teil 1.

Güterkontrollverordnung AS 1999

2. Digitalrechner, verwandte Geräte (Peripherie) oder Software,

soweit notwendig für den Betrieb und die Unterstützung von in dieser Kategorie beschriebenen Telekommunikationsgeräten, gelten als besonders entwickelte Bestandteile, sofern sie stan- dardmässig vom Hersteller vorgesehene Typen sind. Dies schliesst Betriebs-, Verwaltungs-, Wartungs-, Entwicklungs- oder Gebühren-(Billing-) Computer-Systeme ein.

5A¹ Systeme, Ausrüstung und Bestandteile 5A001 a. Jede Art von Telekommunikationsgeräten mit einer der A.4 frei (W) folgenden Eigenschaften, Funktionen oder einem der T: 5000 folgenden Leistungsmerkmale:

1. besonders entwickelt, um transienten Störstrahlungen

oder elektromagnetischen Impulsen, erzeugt durch ei- ne Kernexplosion, zu widerstehen,

2. besonders geschützt, um Gamma-, Neutronen- oder

Ionen-Strahlung zu widerstehen, oder

3. besonders entwickelt für den Betrieb unter 218 K

(–55 °C) oder über 397 K (124 °C); Anmerkung: Unternummer 5A001a3 gilt nur für elektronische Geräte. Anmerkung: Unternummern 5A001a² und 5A001a3 erfassen nicht Geräte, entwickelt oder geändert für den Einsatz in Satelliten. b. Telekommunikationsübertragungseinrichtungen und -systeme sowie besonders entwickelte Bestandteile und besonders entwickeltes Zubehör hierfür mit einer der folgenden Eigenschaften, Funktionen oder einem der folgenden Leistungsmerkmale:

1. Unterwasser-Kommunikationssysteme mit einer der A.4 frei

folgenden Eigenschaften: T: 5000 a. akustische Trägerfrequenz ausserhalb des Bereichs von 20 kHz bis 60 kHz, b. elektromagnetische Trägerfrequenz kleiner als

30 kHz, oder

c. elektronische Strahlsteuerungstechniken,

2. Funkgeräte für den Einsatz im Bereich 1,5 MHz bis A.4 frei

87,5 MHz mit einer der folgenden Eigenschaften: T: 5000 a. Einsatz von adaptiven Verfahren, die ein Störsignal grösser als 15 dB kompensieren, oder b. mit allen folgenden Eigenschaften:

1. automatische Vorwahl und Auswahl der Fre-

quenzen und der gesamten digitalen Übertra- gungsraten pro Kanal zur Optimierung der Übertragung und

2. ausgestattet mit einem Linear-

Leistungsverstärker mit der Fähigkeit, gleichzei- tig Mehrfachsignale mit einer Ausgangsleistung grösser/gleich 1 kW im Frequenzbereich

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1,5 MHz bis 30 MHz oder grösser/gleich 250 W im Frequenzbereich 30 MHz bis 87,5 MHz abzugeben, bei einer Momentan-Bandbreite grösser/gleich einer Oktave und mit einem Oberwellen- und Klirranteil besser als –80 dB,

3. Funkgeräte, die Gespreiztes-Spektrum-Verfahren oder A.4 OGB

Frequenzsprungverfahren einsetzen, mit einer der T: 5000 folgenden Eigenschaften: a. anwenderprogrammierbare Spreizungs-Codes oder b. eine gesamte gesendete Bandbreite mit 100-facher oder mehr als 100-facher Bandbreite eines beliebi- gen einzelnen Informationskanals und mit mehr als

50 kHz Bandbreite,

Anmerkung: Unternummer 5A001b3b erfasst nicht zellulare Funkaus- rüstung für den Einsatz in zivilen Frequenzbändern. Anmerkung: Unternummer 5A001b3 erfasst keine Geräte entwickelt für eine Ausgangsleistung (Sendeleistung) von kleiner/gleich 1,0 W.

4. digitale Funkempfänger mit allen folgenden Eigen- A.4 OGB

schaften: T: 1000 a. mit mehr als 1000 Kanälen, b. Frequenzumschaltzeit kleiner als 1 ms, c. automatisches Absuchen eines Teils des elektro- magnetischen Spektrums und d. Identifizierung der empfangenen Signale oder des Sendertyps, oder Anmerkung: Unternummer 5A001b4 erfasst nicht zellulare Funkaus- rüstung für den Einsatz in zivilen Frequenzbändern.

5. Funktionen der digitalen Signaldatenverarbeitung, A.4 frei

die eine Sprach-Codierung mit einer Übertragungsrate T: 5000 von weniger als 2400 bit/s erlaubt; c. Lichtwellenleiterkabel, Lichtwellenleiter und Zubehör A.4 frei hierfür, wie folgt: T: 5000

1. Lichtwellenleiter von mehr als 500 m Länge mit

einer vom Hersteller spezifizierten Prüf-Zugfestigkeit Technische Anmerkung: Prüf-Zugfestigkeit (proof test): eine an den Produktionspro- zess gekoppelte oder davon unabhängige Fertigungsprüfung, bei der die vorgeschriebene Zugbeanspruchung dynamisch auf eine Länge des Lichtwellenleiters von 0,5 bis 3 m und mit einer Geschwindigkeit von 2 bis 5 m/s beim Durchzug zwischen Antriebsrollen von ca. 15 cm Durchmesser aufge- bracht wird. Die Umgebungstemperatur muss dabei nomi- nell 293 K (20 °C) und die relative Feuchte 40% betragen. Ergänzende Anmerkung: Vergleichbare nationale Normen können zum Messen der Prüf-Zugfestigkeit verwendet werden.

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2. Lichtwellenleiterkabel und Zubehör, entwickelt für

Unterwasserbetrieb; Anmerkung: Unternummer 5A001c² erfasst nicht Standard-Kabel für die zivile Telekommunikation sowie Zubehör. Ergänzende Anmerkungen:

1. Unterwasser-Versorgungskabel und -Steckverbinder hierfür:

siehe Unternummer 8A002a3

2. Faseroptische Schiffskörper-Durchführungen oder

-Steckverbinder: siehe Unternummer 8A002c. d. Elektronisch phasengesteuerte Antennengruppen für A.4 frei Frequenzen über 31 GHz. T: 5000 Anmerkung: Unternummer 5A001d erfasst nicht elektronisch phasenge- steuerte Antennengruppen für Instrumenten-Landesysteme ge- mäss ICAO-Empfehlungen (Mikrowellen-Landesysteme – MLS –). 5A101 Fernmess- und Fernsteuerungsausrüstung, geeignet für A.4 OGB (M) Flugkörper T: 1000 Anmerkung: Nummer 5A101 erfasst nicht Geräte, die besonders für die Fern- steuerung von Modell-Flugzeugen, -Booten oder -Fahrzeugen kon- struiert sind und eine elektrische Feldstärke kleiner/gleich

200 µV/m in einer Entfernung von 500 m erzeugen.

5B¹ Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen 5B001 a. Einrichtungen und besonders konstruierte Bestandteile A.4 frei (W) sowie besonders konstruiertes Zubehör hierfür, beson- T: 5000 ders entwickelt für die Entwicklung, Herstellung oder Verwendung von Einrichtungen, Funktionen oder Leis- Anmerkung: Nummer 5B001a erfasst nicht Ausrüstung zur Charakterisie- rung von Lichtwellenleitern, die keine Halbleiter-Laser enthal- ten. b. Einrichtungen und besonders konstruierte Bestandteile sowie besonders konstruiertes Zubehör hierfür, beson- ders entwickelt für die Entwicklung von Telekommuni- kationsübertragungseinrichtungen oder speicherpro- grammierbaren Vermittlungseinrichtungen wie folgt:

1. Verwendung von digitalen Techniken, einschliesslich

Asynchronous Transfer Mode (ATM)-Verfahren, entwickelt für eine gesamte digitale Übertragungsrate grösser als 1,5 Gbit/s,

2. Verwendung von Lasern mit einer der folgenden Ei-

genschaften: a. Übertragungswellenlänge grösser als 1750 nm, b. Einsatz optischer Verstärkung,

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c. Einsatz von heterodynen oder homodynen opti- schen Techniken, oder d. Bandbreite grösser als 2,5 GHz bei Einsatz analo- ger Techniken, Anmerkung: Unternummer 5B001b2d erfasst nicht Ausrüstung beson- ders entwickelt für die Entwicklung kommerzieller TV- Systeme.

3. Optische Vermittlung,

4. Funkgeräte mit einer der folgenden Eigenschaften:

a. Quadratur-Amplituden-Modulation (QAM) höher als Stufe 128, oder b. Ein- oder Ausgangsfrequenzen grösser als 31 GHz, oder Anmerkung: Unternummer 5B001b4b erfasst keine Ausrüstung beson- ders entwickelt für die Entwicklung von Geräten, die für den Betrieb in von ITU festgelegten Frequenzbändern entwickelt oder geändert sind.

5. Signalisierung über zentralen Zeichengabekanal bei

nicht-assoziierter oder quasi-assoziierter Betriebsweise.

5C¹ Werkstoffe und Materialien nicht belegt

5D¹ Datenverarbeitungsprogramme (Software) 5D001 a. Software, besonders entwickelt oder geändert für die A.4 OGB (W) Entwicklung, Herstellung oder Verwendung der von T: keine Nummer 5A001 oder 5B001 erfassten Einrichtungen, Funktionen oder Leistungsmerkmale; b. Software, besonders entwickelt oder geändert für die A.4 OGB Unterstützung der von Nummer 5E001 erfassten Tech- T: keine nologie; c. Software wie folgt: A.4 frei

1. Software, besonders entwickelt oder geändert zur Er- T: keine

zielung der von Nummer 5A001 oder 5B001 erfassten Eigenschaften, Funktionen oder Leistungsmerkmale,

2. Software, die die Rückgewinnung des Quellcodes

(source code) der von Nummer 5D001 erfassten Tele- kommunikationssoftware ermöglicht,

3. Software, besonders entwickelt für dynamisch adapti-

ve Leitweglenkung (dynamic adaptive routing), ausser in maschinenausführbarem Code. d. Software besonders entwickelt oder geändert für die Ent- wicklung einer der folgenden Telekommunikationsübertra- gungseinrichtungen oder speicherprogrammierbaren Ver- mittlungseinrichtungen wie folgt:

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1. Verwendung von digitalen Techniken, einschliesslich

Asynchronous Transfer Mode (ATM)-Verfahren, entwickelt für eine gesamte digitale Übertragungsrate grösser als 1,5 Gbit/s,

2. Verwendung von Lasern mit einer der folgenden Ei-

genschaften: a. Übertragungswellenlänge grösser als 1750 nm, oder b. Bandbreite grösser als 2,5 GHz bei Einsatz analo- ger Techniken, Anmerkung: Unternummer 5D001d2b erfasst keine Software, die be- sonders entwickelt oder geändert ist für die Entwicklung von kommerziellen TV-Systemen.

3. Optische Vermittlung, oder

4. Funkgeräte mit einer der folgenden Eigenschaften:

a. Quadratur-Amplituden-Modulation (QAM) höher als Stufe 128, oder b. Ein- oder Ausgangsfrequenzen grösser als 31 GHz. Anmerkung: Unternummer 5D001d4b erfasst keine Software, beson- ders entwickelt oder geändert für die Entwicklung von Geräten, die für den Betrieb in den von ITU festgelegten Frequenzbändern entwickelt oder geändert sind.

5E¹ Technologie 5E001 a. Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W) gie-Anmerkung für die Entwicklung, Herstellung oder T: keine Verwendung (ausser Betrieb) von Einrichtungen, Funk- tionen oder Leistungsmerkmalen oder Software, die von Nummer 5A001, 5B001 oder 5D001 erfasst werden; b. Technologie wie folgt: A.4 frei

1. unverzichtbare Technologie für die Entwicklung oder T: keine

Herstellung von Telekommunikationseinrichtungen, besonders entwickelt zur Verwendung in Satelliten,

2. Technologie für die Entwicklung oder Verwendung

von Laser-Kommunikationstechniken mit der Fähig- keit, Signale automatisch zu erfassen und zu verfolgen und Kommunikationsverbindungen durch die Exoat- mosphäre oder durch Wasser zu gewährleisten,

3. Technologie für die Entwicklung von digitalen, zellu-

laren Mobilfunksystemen,

4. Technologie für die Entwicklung von Gespreiztes-

Spektrum-Verfahren oder Frequenzsprungverfahren. c. Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- gie-Anmerkung für die Entwicklung oder Herstellung von Telekommunikationsübertragungseinrichtungen oder speicherprogrammierbaren Vermittlungseinrich-

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tungen mit einer der folgenden Funktionen oder Lei- stungsmerkmalen:

1. Verwendung von digitalen Techniken, einschliesslich

Asynchronous Transfer Mode (ATM)-Verfahren, entwickelt für eine gesamte digitale Übertragungsrate grösser als 1,5 Gbit/s,

2. Verwendung von Lasern mit einer der folgenden Ei-

genschaften: a. Übertragungswellenlänge grösser als 1750 nm, b. Einsatz optischer Verstärkung unter Verwendung Praseodym-dotierter Fluoridfaserverstärker (PDFFA), c. Einsatz von heterodynen oder homodynen opti- schen Techniken, d. Einsatz von Wellenlängen-Multiplex-Techniken, sofern die Anzahl der optischen Trägerwellen pro optischem Fenster grösser als 8 ist, oder e. Bandbreite grösser als 2,5 GHz beim Einsatz von analogen Techniken, Anmerkung: Unternummer 5E001c2e erfasst keine Technologie für Entwicklung oder Herstellung kommerzieller TV- Systeme.

3. Einsatz von optischer Vermittlung

4. Funkgeräte mit einer der folgenden Eigenschaften:

a. Quadratur-Amplituden-Modulation (QAM) höher als Stufe 128, oder b. Ein- oder Ausgangsfrequenzen grösser als 31 GHz, oder Anmerkung: Unternummer 5E001c4b erfasst keine Technologie für die Entwicklung oder Herstellung von Geräten, die für den Betrieb in den von ITU festgelegten Frequenzbändern entwickelt oder geändert sind.

5. Signalisierung über zentralen Zeichengabekanal bei

nicht-assoziierter oder quasi-assoziierter Betriebsweise. 5E101 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (M) gie-Anmerkung für die Entwicklung, Herstellung oder T: keine Verwendung von Ausrüstung, erfasst von Nummer Teil 2 – Informationssicherheit Anmerkungen zu Kategorie 5, Teil 2:

1. Die Erfassung von Einrichtungen, Software, Systemen, anwen-

derspezifischen elektronischen Baugruppen, Modulen, integ- rierten Schaltungen, Bauteilen oder Funktionen der Informa- tionssicherheit richtet sich nach Kategorie 5, Teil 2 auch dann, wenn es sich um Komponenten oder elektronische Baugruppen anderer Einrichtungen handelt.

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2. Die Kategorie 5, Teil 2 erfasst keine Güter, wenn diese von

ihrem Benutzer für den persönlichen Gebrauch mitgeführt werden.

3. Kryptotechnik-Anmerkung:

Die Nummern 5A002a und 5D002 erfassen keine Güter, die alle folgenden Voraussetzungen erfüllen: a. Die Güter sind frei erhältlich und werden im Einzelhandel ohne Einschränkungen mittels einer der folgenden Ge- schäftspraktiken verkauft:

1. Barverkauf;

2. Versandverkauf;

3. Verkauf über elektronische Medien oder

4. Telefonverkauf;

b. Die kryptografische Funktionalität der Güter kann nicht mit einfachen Mitteln durch den Benutzer geändert werden; c. Die Güter sind entwickelt, um vom Benutzer ohne umfang- reiche Unterstützung durch den Anbieter installiert zu wer- den; d. Die Güter enthalten keinen symmetrischen Algorithmus mit einer Schlüssellänge von mehr als 64 bit; und e. Um die Übereinstimmung mit den unter a. bis d. beschrie- benen Voraussetzungen feststellen zu können, sind detail- lierte technische Beschreibungen der Güter vorzuhalten und auf Verlangen der Bewilligungsstelle vorzulegen. Technische Anmerkung: Der in der Kategorie 5, Teil 2 verwendete Begriff der Schlüssel- länge schliesst Paritätsbits nicht mit ein.

5A² Systeme, Ausrüstung und Bestandteile 5A002 a. Systeme, Geräte, anwenderspezifische elektronische A.4 OGB (W) Baugruppen, Module und integrierte Schaltungen für T: 5000 Informationssicherheit, wie folgt und andere besonders entwickelte Bestandteile hierfür: Anmerkung: Bezüglich der Erfassung von GPS- oder GLONASS- Empfangseinrichtungen mit Kryptotechnik siehe Nummer

1. entwickelt oder geändert zum Einsatz von Krypto-

technik unter Verwendung digitaler Verfahren, soweit es sich nicht um Authentisierung oder Digitale Si- gnatur handelt, mit einer der folgenden Eigenschaften: Technische Anmerkungen:

1. Funktionen der Authentisierung und Digitalen Signatur

schliessen zugehörige Schlüsselmanagementfunktionen ein.

2. Der Begriff der Authentisierung schliesst alle Elemente

der Zugangskontrolle ein, welche nicht die Verschlüsse- lung von Dateien oder Texten ermöglichen, mit Ausnah- me derer, die im direkten Zusammenhang mit dem Schutz von Passwörtern, persönlicher Identifikationsnummern (PINs) oder vergleichbarer Daten stehen und den unbe- fugten Zugriff verhindern.

3. Der Begriff Kryptotechnik beinhaltet nicht feste Daten-

kompressions- oder Kodierungstechniken.

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Anmerkung: Die Unternummer 5A002a¹ schliesst Einrichtungen, ent- wickelt oder geändert zum Einsatz analoger Kryptotechnik ein, wenn deren Funktion auf der Verwendung digitaler Ver- fahren beruht. a. Verwendung symmetrischer Algorithmen mit einer Schlüssellänge grösser 56 bit, oder b. Verwendung asymmetrischer Algorithmen, deren Si- cherheit auf einem der folgenden Probleme beruht:

1. Faktorisierung ganzer Zahlen, die grösser als

2512 sind (z. B. RSA-Verfahren),

2. Berechnung des diskreten Logarithmus in der

Multiplikationsgruppe eines endlichen Körpers mit mehr als 2512 Elementen (z. B. Diffie- Hellman-Verfahren über Z/pZ), oder

3. Berechnung des diskreten Logarithmus in anderen

Gruppen, als den unter 5A002a1b² aufgeführten mit grösserer Ordnung als 2112 (z. B. Diffie-- Hellman-Verfahren über einer elliptischen Kurve),

2. entwickelt oder geändert zur Ausführung kryptoana-

lytischer Funktionen,

3. nicht belegt,

4. besonders entwickelt oder geändert, um kompromit-

tierende Abstrahlung von Informationssignalen über das Mass hinaus zu unterdrücken, das aus Gründen des Gesundheitsschutzes, der Sicherheit oder der Ein- haltung von Standards zur Elektromagnetischen Ver- träglichkeit (EMV) erforderlich ist,

5. entwickelt oder geändert, um Kryptotechniken zur Er-

zeugung eines Spreizungscodes für Systeme mit Ge- spreiztem-Spektrum-Verfahren oder eines Sprung- Codes für Systeme mit Frequenzsprungverfahren zu verwenden,

6. entwickelt oder geändert, um eingestufte oder einstuf-

bare mehrstufige Sicherheit oder Teilnehmerabgren- zungen auf einer höheren Ebene als Klasse B² von TCSEC (Trusted Computer System Evaluation Crite- ria) oder einer vergleichbaren Norm zu ermöglichen,

7. Kommunikations-Kabelsysteme, entwickelt oder ge-

ändert, um unter Einsatz von mechanischen, elektri- schen oder elektronischen Mitteln heimliches Ein- dringen zu erkennen. Anmerkung: Unternummer 5A002a erfasst nicht: a. personenbezogene Mikroprozessor-Karten (personalized smart cards), deren kryptografische Funktionalität beschränkt ist auf die Verwendung in Geräten oder Systemen, die gemäss Anmer- kungen b. bis f. dieser Anmerkung von der Erfassung ausge- nommen sind,

Güterkontrollverordnung AS 1999

Anmerkung: Falls eine personenbezogene Mikroprozessor-Karte über ver- schiedene Funktionen verfügt, ist jede einzelne Funktion hin- sichtlich der Erfassung zu prüfen, b. Rundfunkempfänger, Pay-TV oder ähnliche eingeschränkte Fernseheinrichtungen für den allgemeinen Gebrauch ohne di- gitale Verschlüsselungsfunktionen, ausgenommen derer, die ausschliesslich für die Übermittlung von Zahlungs- bzw. pro- grammbezogenen Informationen an den Dienstanbieter benutzt werden, c. Einrichtungen, deren kryptografische Funktionalität nicht an- wenderzugänglich ist und die für folgende Anwendungen so- wohl besonders entwickelt als auch beschränkt sind:

1. Ausführung kopiergeschützter Software,

2. Zugriff auf:

a. kopiergeschützte und nur mit Leseberechtigung versehene Medien (read-only media), oder b. in verschlüsselter Form gespeicherte Informationen (z. B. in Verbindung mit dem Schutz von Urheberrechten), wenn die entsprechenden Medien in jeweils identischer Form zum Verkauf im Einzelhandel angeboten werden, oder

3. Einmaliges Kopieren (one-time copying) kopiergeschützter

d. Kryptoeinrichtungen, besonders entwickelt für den Bankge- brauch oder Geldtransaktionen, soweit sie nur für diese An- wendungen einsetzbar sind, Technische Anmerkung: Der in der Anmerkung d) zur Unternummer 5A002a ver- wendete Begriff Geldtransaktionen schliesst auch die Erfassung und den Einzug von Gebühren sowie Kreditfunktionen ein, e. tragbare oder mobile Funktelefone für zivilen Einsatz, z. B. für den Einsatz in kommerziellen, zivilen, zellularen Funksyste- men, die Verschlüsselung enthalten, jedoch ohne End-zu-End- Verschlüsselung, f. Ausrüstung für schnurlose Telefone, die keine Möglichkeit der End-zu-End-Verschlüsselung bieten und deren maximal erziel- bare einfache Reichweite (das ist die Reichweite zwischen Terminal und Basistation ohne Massnahmen zur Reichwei- tenerhöhung) nach Angaben des Herstellers kleiner ist als

5B² Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen 5B002 a. Einrichtungen, besonders entwickelt für A.4 OGB (W) 1. die Entwicklung von Geräten oder Funktionen, die T: 5000 fasst werden, einschliesslich entsprechender Mess- und Prüfeinrichtungen,

2. die Herstellung von Geräten oder Funktionen, die von

werden, einschliesslich entsprechender Mess-, Prüf-, Reparatur- oder Herstellungseinrichtungen; b. Messeinrichtungen, besonders entwickelt, um Informa- tionssicherheits-Funktionen, die von Nummer 5A002 oder 5D002 erfasst werden, auszuwerten und zu bestätigen.

Güterkontrollverordnung AS 1999

5C² Werkstoffe und Materialien nicht belegt

5D² Datenverarbeitungsprogramme (Software) 5D002 a. Software, besonders entwickelt oder geändert für die A.4 OGB (W) Entwicklung, Herstellung oder Verwendung von Ein- T: keine richtungen oder Software, die von Nummer 5A002, b. Software, besonders entwickelt oder geändert zur Unter- stützung der von Nummer 5E002 erfassten Technologie; c. Software wie folgt:

1. Software, die die Eigenschaften der von Nummer

5A002 oder 5B002 erfassten Geräte besitzt oder deren Funktionen ausführt oder simuliert,

2. Software zur Zertifizierung der von Unternummer

5D002c¹ erfassten Software, Anmerkung: Nummer 5D002 erfasst nicht: a. Software, erforderlich für die Verwendung von Einrichtungen, die gemäss der Anmerkung zu Nummer 5A002 von der Erfas- sung ausgenommen sind, b. Software, die Funktionen von Einrichtungen bereitstellt, die gemäss der Anmerkung zu Nummer 5A002 von der Erfassung ausgenommen sind.

5E² Technologie 5E002 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W) gie-Anmerkung für die Entwicklung, Herstellung oder T: keine Verwendung von Einrichtungen oder Software, die von Nummer 5A002, 5B002 oder 5D002 erfasst werden.

6 Sensoren und Laser

6A Systeme, Ausrüstung und Bestandteile 6A001 Akustik (W) a. Marine-Akustiksysteme, -Ausrüstung und besonders konstruierte Bestandteile hierfür wie folgt:

1. aktive (Sende- oder Sende-/Empfangs-) Systeme,

Ausrüstung und besonders konstruierte Bestandteile hierfür wie folgt: Anmerkung: Unternummer 6A001a¹ erfasst nicht: a. akustische Tiefenmesser, die in vertikaler Richtung unter dem Geräteträger betrieben werden, keinen grösseren se- lektiven Abtastwinkel als ± 20° haben und begrenzt sind

Güterkontrollverordnung AS 1999

auf das Messen der Wassertiefe, der Entfernung von unter der Wasseroberfläche oder im Boden befindlichen Ob- jekten oder auf die Fischortung, b. akustische Baken wie folgt:

1. akustische Notfall-Baken,

2. Pinger, besonders konstruiert für das Wiederauffinden

einer Unterwasser-Position oder die Rückkehr zu die- ser. a. Fächer-Echolotsysteme, entwickelt zum Erstellen A.4 frei topografischer Meeresbodenkarten mit allen fol- T: 5000 genden Eigenschaften:

1. entwickelt für selektive Messungen innerhalb ei-

nes Abtastwinkels grösser als 20° von der Verti- kalen,

2. entwickelt für die Messung von Tiefen grösser

als 600 m unter der Wasseroberfläche und

3. entwickelt zur Gewährleistung einer der folgen-

den Eigenschaften: a. Verwendung von mehrfachen Strahlkeulen, deren einzelne Keulenbreite kleiner als 1,9° ist oder b. Messgenauigkeit besser als 0,3% der Wassertiefe über den gesamten Messwinkel, gemittelt über die Einzelmessungen innerhalb des Messwinkels, b. Objekterfassungs- oder Lokalisierungssysteme mit A.4 OGB einer der folgenden Eigenschaften: T: 5000

1. Sendefrequenz kleiner als 10 kHz,

2. Schalldruckpegel grösser als 224 dB (bezogen

auf 1 µPa in 1 m Entfernung) für Geräte mit Be- triebsfrequenzen grösser/gleich 10 kHz und klei- ner/gleich 24 kHz,

3. Schalldruckpegel grösser als 235 dB (bezogen

auf 1 µPa in 1 m Entfernung) für Geräte mit Be- triebsfrequenzen grösser als 24 kHz und klei- ner/gleich 30 kHz,

4. mit Strahlkeulen, deren Keulenbreite in jeder

Achse kleiner als 1° ist, und mit einer Betriebs- frequenz kleiner als 100 kHz,

5. konstruiert zum Betrieb mit einem eindeutigen

Anzeigenbereich grösser als 5120 m oder

6. konstruiert, um während des Normalbetriebs

Drücken in Tiefen grösser als 1000 m standzu- halten, und mit Wandlern mit einer der folgen- den Eigenschaften: a. mit dynamischem Druckausgleich oder b. mit anderen Wandlungselementen als Blei- Zirkon-Titanat,

Güterkontrollverordnung AS 1999

c. Akustikprojektoren einschliesslich Wandlern mit A.4 frei piezoelektrischen, magnetostriktiven, elektrostrikti- T: 5000 ven, elektrodynamischen oder hydraulischen Bau- teilen, die einzeln oder in einer konstruierten Zu- sammensetzung arbeiten und eine der folgenden Eigenschaften haben: Anmerkungen:

1. Die Erfassung von Akustikprojektoren einschliesslich

Wandlern, besonders entwickelt für andere Geräte, richtet sich nach der Erfassung der anderen Geräte.

2. Unternummer 6A001a1c erfasst nicht elektronische

Geräuschquellen, ausschliesslich für Anwendungen mit vertikaler Richtwirkung, mechanische (z. B. «air gun» oder «vapour-shock gun») oder chemische (z. B. Verwendung von Explosivstoffen) Geräuschquellen.

1. momentan (pulsförmig) abgestrahlte

«Schalleistungsdichte» grösser als 0,01 mW/mm² je Hz bei Geräten, die mit Frequenzen unter 10 kHz arbeiten,

2. kontinuierlich (Dauerstrich) abgestrahlte

«Schallleistungsdichte» grösser als 0,001 mW/mm² je Hz bei Geräten, die mit Frequenzen unter 10 kHz arbeiten, Technische Anmerkung: «Schallleistungsdichte» wird wie folgt bestimmt: Schall- ausgangsleistung geteilt durch das Produkt aus der Grösse der Abstrahlfläche und der Arbeitsfrequenz.

3. konstruiert, um während des Normalbetriebs

Drücken in Tiefen grösser als 1000 m standzu- halten oder

4. Nebenkeulenunterdrückung grösser als 22 dB,

d. Akustiksysteme, -ausrüstung und besonders kon- A.4 frei struierte Bestandteile zur Ermittlung der Position T: 5000 von Überwasserschiffen oder Unterwasserfahrzeu- gen, mit einer der folgenden Eigenschaften: Anmerkung: Unternummer 6A001a1d schliesst ein: a. Ausrüstung, die kohärente Signaldatenverarbeitung zwischen zwei oder mehreren Baken und der auf ei- nem Überwasserschiff oder Unterwasserfahrzeug be- findlichen Hydrophoneinheit verwendet, b. Ausrüstung, die automatisch Ausbreitungsgeschwin- digkeitsfehler in der Berechnung eines Punkts berich- tigen kann.

1. konstruiert zum Betrieb bei Reichweiten grösser

als 1000 m mit einer Positionsgenauigkeit besser (kleiner) als 10 m rms bei einer Messung mit ei- ner Reichweite von 1000 m oder

2. konstruiert, um Drücken in Tiefen grösser als

1000 m standzuhalten,

Güterkontrollverordnung AS 1999

2. passive Systeme oder Geräte (Empfangssysteme, un- A.4 OGB

abhängig ob in der normalen Anwendung mit einer T: 1000 separaten aktiven Ausrüstung in Zusammenhang ste- hend oder nicht) und besonders konstruierte Be- standteile hierfür wie folgt: a. Hydrophone (Wandler) mit einer der folgenden Ei- genschaften:

1. mit kontinuierlichen, flexiblen Sensoren oder mit

Anordnungen diskreter Sensoren mit einem Durchmesser oder einer Länge kleiner als 20 mm und mit einem Abstand zwischen den Elementen kleiner als 20 mm,

2. mit einem der folgenden Sensor-Elemente:

a. Lichtwellenleiter, b. piezoelektrische Polymere oder c. flexible piezoelektrische Keramik-Werkstoffe,

3. «Hydrophonempfindlichkeit» besser als

–180 dB bei jeder Tiefe ohne Beschleunigungs- kompensation,

4. «Hydrophonempfindlichkeit» besser als –186 dB

mit Beschleunigungskompensation, wenn kon- struiert für Normalbetrieb in Tiefen klei- ner/gleich 35 m,

5. «Hydrophonempfindlichkeit» besser als –192 dB

mit Beschleunigungskompensation, wenn kon- struiert für Normalbetrieb in Tiefen grösser als

35 m,

6. «Hydrophonempfindlichkeit» besser als –204 dB,

wenn konstruiert für Normalbetrieb in Tiefen grösser als 100 m oder

7. konstruiert für Betrieb in Tiefen grösser als

1000 m,

Technische Anmerkung: Die «Hydrophonempfindlichkeit» eines Hydrophons wird definiert als 20 × log10 des Effektivwerts (rms) der Aus- gangsspannung, bezogen auf 1 V, wenn sich der Hydro- phonsensor ohne einen Vorverstärker in einem ebenen Schallwellenfeld mit effektivem Schalldruck von

1 Mikropascal befindet.

Beispiel: Ein Hydrophon mit einer Empfindlichkeit von –160 dB (Bezugseinheit 1 V je Mikropascal) würde in einem solchen Feld eine Ausgangsspannung von 10–8 V abgeben, während ein Hydrophon mit einer Empfindlich- keit von –180 dB eine Ausgangsspannung von nur 10–9 V abgeben würde. Somit ist -160 dB besser als –180 dB.

Güterkontrollverordnung AS 1999

b. akustische Schlepp-Hydrophonanordnungen mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. mit einem Abstand zwischen den einzelnen Hy-

drophongruppen kleiner als 12,5 m,

2. mit einem Abstand zwischen den einzelnen Hy-

drophongruppen grösser/gleich 12,5 m und klei- ner als 25 m und entwickelt oder «änderungsfähig» für Normalbetrieb in Tiefen grösser als 35 m, Technische Anmerkung: «Änderungsfähig» im Sinne von Unternummer 6A001a2b² bedeutet, dass Vorkehrungen bestehen, die eine Veränderung der Verdrahtung oder von Verbin- dungen ermöglichen, um den Abstand zwischen den einzelnen Hydrophongruppen oder die Begrenzung der Betriebstauchtiefe zu ändern. Diese Vorkehrungen sind: Zusatzverdrahtung von mehr als 10% der Anzahl der Kabeladern, Blöcke zur Einstellung des Abstands zwischen den einzelnen Hydrophongruppen oder in- terne Mittel zur Begrenzung der Betriebstauchtiefe, die einstellbar sind oder die mehr als eine Gruppe von Hy- drophonen steuern.

3. mit einem Abstand zwischen den einzelnen Hy-

drophongruppen grösser/gleich 25 m und ent- wickelt für Normalbetrieb in Tiefen grösser als

100 m,

4. mit Steuerkurssensoren, erfasst von Unternum-

5. mit Schlauchanordnungen mit Strukturverstär-

kung in Längsrichtung,

6. mit einem Durchmesser der fertig montierten

Schlauchanordnung kleiner als 40 mm,

7. mit gebündelten (multiplexed) Signalen der Hy-

drophone einer Gruppe, entwickelt für den Be- trieb in Tiefen grösser als 35 m oder mit einer einstellbaren oder entfernbaren Tiefenmessein- richtung, um in Tiefen grösser als 35 m arbeiten zu können oder

8. mit Hydrophoneigenschaften gemäss Unter-

nummer 6A001a2a, c. Daten-Verarbeitungsausrüstung, besonders kon- struiert für akustische Schlepp- Hydrophonanordnungen, mit anwenderzugängli- cher Programmierbarkeit und Verarbeitung und Korrelation im Zeit- oder Frequenzbereich ein- schliesslich Spektralanalyse, digitaler Filterung und Strahlformung unter Verwendung der schnellen Fourier-Transformation (FFT) oder anderer Trans- formationen oder Verfahren,

Güterkontrollverordnung AS 1999

d. Steuerkurssensoren mit allen folgenden Eigen- schaften:

1. Genauigkeit besser als ± 0,5° und

2. mit einer der folgenden Eigenschaften:

a. entwickelt zur Integration in eine Schlauchanordnung und für Betrieb in Tiefen grösser als 35 m oder mit einer einstellbaren oder entfernbaren Tiefenmesseinrichtung, um in Tiefen grösser als 35 m arbeiten zu können oder b. entwickelt, um ausserhalb der Schlauchanord- nung angebracht werden zu können, und mit einer Sensoreinheit, die bei einem Rollwinkel von 360° in Tiefen grösser als 35 m betrieben werden kann, e. Flachwasser-Messkabelsysteme (bottom or bay cable systems) mit einer der folgenden Eigen- schaften:

1. mit eingebauten Hydrophonen, erfasst von Un-

ternummer 6A001a2a,

2. Einsatz von gebündelten (multiplexed) Signalen

der Hydrophone einer Gruppe, entwickelt für den Betrieb in Tiefen grösser als 35 m oder mit einer einstellbaren oder entfernbaren Tiefen- messeinrichtung, um in Tiefen grösser als 35 m arbeiten zu können; f. Daten-Verarbeitungsausrüstung, besonders kon- struiert für Flachwasser-Messkabelsysteme, mit anwenderzugänglicher Programmierbarkeit und Verarbeitung und Korrelation im Zeit- oder Fre- quenzbereich einschliesslich Spektralanalyse, digi- taler Filterung und Strahlformung unter Verwen- dung der schnellen Fourier-Transformation (FFT) oder anderer Transformationen oder Verfahren; b. Sonar-Korrelationsausrüstung zur Messung der hori- A.4 frei zontalen Geschwindigkeit des Geräteträgers in Bezug T: 5000 zum Meeresboden bei Entfernungen zwischen Träger und Meeresboden grösser als 500 m. 6A002 Optische Sensoren A.4 OGB (W) Anmerkung: Siehe auch Nummer 6A102. T: 1000 a. Optische Detektoren wie folgt: Anmerkung: Unternummer 6A002a erfasst nicht optoelektronische Bau- elemente aus Germanium oder Silizium.

Güterkontrollverordnung AS 1999

1. weltraumgeeignete Detektoren wie folgt:

a. weltraumgeeignete Detektoren mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Spitzenempfindlichkeit innerhalb eines Wellen-

längenbereichs grösser als 10 nm und klei- ner/gleich 300 nm und

2. Empfindlichkeit kleiner als 0,1% bezogen auf

die Spitzenempfindlichkeit bei einer Wellenlän- ge grösser als 400 nm, b. weltraumgeeignete Detektoren mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellen-

längenbereichs von grösser als 900 nm und klei- ner/gleich 1200 nm und

2. Ansprechzeitkonstante kleiner/ gleich 95 ns oder

c. weltraumgeeignete Detektoren mit einer Spit- zenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbe- reichs von grösser als 1200 nm und kleiner/gleich

30 000 nm,

2. Bildverstärkerröhren und besonders konstruierte Be-

standteile hierfür wie folgt: a. Bildverstärkerröhren mit allen folgenden Eigen- schaften:

1. Spitzenempfindlichkeit innerhalb des Wellen-

längenbereichs von grösser als 400 nm und klei- ner/gleich 1050 nm,

2. Mikrokanalanode zur elektronischen Bildver-

stärkung mit einem Lochabstand (Lochmitte zu Lochmitte) kleiner/gleich 15 µm und

3. Fotokathoden wie folgt:

a. S-20, S-25 oder multialkalische Fotokathode mit einer Lichtempfindlichkeit (luminous sen- sitivity) von mehr als 240 µA/lm, b. GaAs- oder GaInAs-Fotokathode, c. andere III-V Verbindungshalbleiter- Fotokathoden, Anmerkung: Unternummer 6A002a2a3c erfasst keine Verbin- dungshalbleiter-Fotokathoden mit einer maximalen Strahlungsempfindlichkeit (radiant sensitivity) von b. besonders konstruierte Bauteile wie folgt:

1. Mikrokanalanoden mit einem Lochabstand

(Lochmitte zu Lochmitte) kleiner/gleich 15 µm,

2. GaAs- oder GaInAs-Fotokathoden,

3. andere III–V Verbindungshalbleiter-

Fotokathoden,

Güterkontrollverordnung AS 1999

Anmerkung: Unternummer 6A002a2b3 erfasst keine Verbindungs- halbleiter-Fotokathoden mit einer maximalen Strah- lungsempfindlichkeit (radiant sensitivity) von klei-

3. nicht weltraumgeeignete Focal-plane-arrays wie

folgt: Technische Anmerkung: Detektorarrays mit mehreren Elementen in Zeilenanordnung oder zweidimensionaler Anordnung gelten als Focal-plane- arrays. Anmerkungen:

1. Unternummer 6A002a3 schliesst fotoleitende und foto-

voltaische Anordnungen (arrays) ein.

2. Unternummer 6A002a3 erfasst nicht Focal-plane-arrays

aus Silizium, gekapselte, aus maximal 16 Elementen be- stehende fotoleitende Zellen oder pyroelektrische Detek- toren, die eines der folgenden Materialien verwenden: a. Bleisulfid, b. Triglycinsulfat und Varianten, c. Bleilanthanzirkoniumtitanat und Varianten, d. Lithiumtantalat, e. Polyvinylidenfluorid und Varianten, f. Strontiumbariumniobat und Varianten, g. Bleiselenid. a. nicht weltraumgeeignete Focal-plane-arrays mit allen folgenden Eigenschaften:

1. bestehend aus Einzelelementen mit einer Spit-

zenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängen- bereichs grösser als 900 nm und kleiner/gleich

1050 nm und

2. Ansprechzeitkonstante kleiner als 0,5 ns,

b. nicht weltraumgeeignete Focal-plane-arrays mit allen folgenden Eigenschaften:

1. bestehend aus Einzelelementen mit einer Spit-

zenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängen- bereichs grösser als 1050 nm und kleiner/gleich

1200 nm und

2. Ansprechzeitkonstante kleiner/ gleich 95 ns,

c. nicht weltraumgeeignete Focal-plane-arrays, be- stehend aus Einzelelementen mit einer Spit- zenempfindlichkeit innerhalb des Wellenlängenbe- reichs grösser als 1200 nm und kleiner/gleich

30 000 nm;

b. monospektrale Bildsensoren und multispektrale Bildsen- soren, entwickelt für die Fernerkennung, mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. momentaner Bildfeldwinkel (IFOV, Instantaneous

Field Of View) kleiner als 200 µrad oder

Güterkontrollverordnung AS 1999

2. spezifiziert für Betrieb im Wellenlängenbereich

grösser als 400 nm und kleiner/gleich 30 000 nm und mit allen folgenden Eigenschaften: a. Ausgabe von Bilddaten in Digitalformat und b. mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. weltraumgeeignet oder

2. entwickelt für Luftfahrtbetrieb, Verwendung an-

derer als Silizium-Detektoren und mit einem momentanen Bildfeldwinkel (IFOV) kleiner als 2,5 mrad; c. Ausrüstung zur «direkten Bildwandlung» für das sicht- bare oder Infrarotspektrum mit einer der folgenden Ei- genschaften:

1. mit eingebauten Bildverstärkerröhren, erfasst von

Unternummer 6A002a2a oder

2. mit eingebauten Focal-plane-arrays, erfasst von Un-

ternummer 6A002a3; Technische Anmerkung: «Direkte Bildwandlung» bezieht sich auf Bildausrüstung, die im sichtbaren oder Infrarotspektrum arbeitet und einem Beobachter ein sichtbares Bild ohne Umwandlung in ein elektronisches Signal für TV-Bildschirme liefert. Dabei kann das Bild nicht fotografisch, elektronisch oder durch andere Mittel aufgezeichnet oder gespeichert werden. Anmerkung: Unternummer 6A002c erfasst nicht folgende Ausrüstung, wenn sie andere als GaAs- oder GaInAs-Fotokathoden ent- hält: a. industrielle oder zivile Einbruch-Alarmanlagen, Bewe- gungsmelder und Zählsysteme für den Verkehr und für industrielle Anwendungen, b. medizinische Geräte, c. industrielle Geräte zum Prüfen, Sortieren oder Analysie- ren von Werkstoffeigenschaften, d. Flammenwächter für industrielle Öfen, e. Geräte, besonders entwickelt zum Einsatz in Laborato- rien. d. Teile für optische Sensoren wie folgt:

1. weltraumgeeignete kryogenische Kühler,

2. nicht weltraumgeeignete kryogenische Kühler mit ei-

ner Kühlerausgangstemperatur unter 218 K (–55 °C) wie folgt: a. geschlossener Kühlmittelkreislauf mit einer spezifi- zierten mittleren Zeit bis zum Ausfall (MTTF, Mean Time To Failure) oder mit einer mittleren Zeit zwischen zwei Ausfällen (MTBF, Mean Time Between Failures) grösser als 2500 Stunden, b. selbstregelnde Joule-Thomson-Miniaturkühler für Bohrungsdurchmesser kleiner als 8 mm,

Güterkontrollverordnung AS 1999

3. optische Fasern für Sensorzwecke, besonders gefer-

tigt, entweder durch die Zusammensetzung oder die Struktur, oder durch Beschichtung so verändert, dass sie akustisch, thermisch, trägheitsmässig, elektromag- netisch oder gegen ionisierende Strahlung empfind- lich sind; e. weltraumgeeignete Focal-plane-arrays mit mehr als

2048 Elementen pro Array und einer Spitzenempfind-

lichkeit im Wellenlängenbereich grösser als 300 nm und kleiner/gleich 900 nm. 6A003 Kameras A.4 OGB (W, N) Anmerkung: T: 1000 Kameras, besonders konstruiert oder geändert für Unterwasserein- Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Nummer 6A203. a. Kameraausrüstung wie folgt:

1. Hochgeschwindigkeitsfilmkameras für die Filmfor-

mate von 8 mm bis 16 mm, bei denen der Film wäh- rend der Aufzeichnungsdauer kontinuierlich transpor- tiert wird und die mehr als 13 150 Einzelbilder pro Sekunde aufnehmen können, Anmerkung: Unternummer 6A003a¹ erfasst nicht Filmkameras, konstru- iert für zivile Zwecke.

2. mechanische Hochgeschwindigkeitskameras mit still-

stehendem Film, die mehr als 1 Million Einzelbilder pro Sekunde mit der vollen Bildhöhe im 35-mm- Bildformat aufnehmen können oder proportional hö- here Aufnahmegeschwindigkeiten für geringere Bild- höhen oder proportional niedrigere Aufnahmege- schwindigkeiten für grössere Bildhöhen ermöglichen,

3. mechanische oder elektronische Streakkameras mit

Aufzeichnungsgeschwindigkeiten grösser als

4. elektronische Bildkameras mit einer Aufzeichnungs-

geschwindigkeit grösser als 1 Million Einzelbilder pro Sekunde,

5. elektronische Kameras mit allen folgenden Eigen-

schaften: a. elektronische Verschlussgeschwindigkeit (Aus- blendfähigkeit) kleiner als 1 µs pro Vollbild und b. Ausgabezeit, die eine Bildgeschwindigkeit grösser als 125 Vollbilder pro Sekunde ermöglicht; b. Bildkameras wie folgt: Anmerkung: Unternummer 6A003b erfasst nicht Fernseh- oder Videokame- ras, besonders konstruiert für Fernseh-Rundfunk-Einsatz.

Güterkontrollverordnung AS 1999

1. Videokameras mit Halbleitersensoren und mit einer

der folgenden Eigenschaften: a. mehr als 4 × 106 aktive Bildelemente (active pixels) je Halbleiter-Sensor-Anordnung für Monochrom- Kameras (Schwarzweisskameras), b. mehr als 4 × 106 aktive Bildelemente je Halbleiter- Sensor-Anordnung für Farbkameras mit drei Halb- leiter-Sensor-Anordnungen oder c. mehr als 12 × 106 aktive Bildelemente für Halblei- ter-Farbkameras mit einer Halbleiter-Sensor- Anordnung,

2. Abtastkameras und Abtastkamerasysteme mit allen

folgenden Eigenschaften: a. mit linearen Sensor-Anordnungen (linear detector arrays) mit mehr als 8192 Elementen je Anordnung und b. mit mechanischer Abtastung in einer Richtung,

3. Bildkameras mit eingebauten Bildverstärkern, die von

Unternummer 6A002a2a erfasst werden,

4. Bildkameras mit eingebauten Focal-plane-arrays, die

von Unternummer 6A002a3 erfasst werden. Anmerkung: Unternummer 6A003b4 erfasst nicht Bildkameras mit linea- ren Focal-Plane-Arrays mit zwölf Elementen oder weniger, sofern keine zeitlich verschobene Signalintegration (time- delay-and-integration) im Element selbst vorgenommen wird, konstruiert für eines der folgenden: a. industrielle oder zivile Einbruch-Alarmanlagen, Bewe- gungsmelder und Zählsysteme für den Verkehr oder für industrielle Anwendungen, b. industrielle Ausrüstung für Inspektion oder Überwachung des Wärmeflusses in Gebäuden, Ausrüstung oder indus- triellen Prozessen, c. industrielle Ausrüstung zum Prüfen, Sortieren oder Ana- lysieren von Werkstoffeigenschaften, d. Ausrüstung, besonders konstruiert für den Einsatz in La- boratorien oder e. medizinische Ausrüstung. 6A004 Optik (W) a. Optische Spiegel (Reflektoren) wie folgt: A.4 frei

1. verformbare Spiegel mit kontinuierlichen oder aus T: 5000

mehreren Elementen bestehenden Oberflächen und besonders entwickelte Bauteile hierfür, die in der La- ge sind, Teile der Oberfläche dynamisch mit einer Frequenz grösser als 100 Hz zu positionieren,

2. monolithische Leichtspiegel mit einer mittleren äqui-

valenten Dichte kleiner als 30 kg/m² und einem Gesamtgewicht grösser als 10 kg,

Güterkontrollverordnung AS 1999

3. Verbundwerkstoff- oder Schaumstoffstrukturen für

Leichtspiegel mit einer mittleren äquivalenten Dichte kleiner als 30 kg/m² und einem Gesamtgewicht grösser als 2 kg,

4. strahllenkende Spiegel (beam steering mirrors) mit einem

Durchmesser oder einer Hauptachsenlänge grösser als

100 mm, die eine Ebenheit (flatness) kleiner (besser)/

gleich Lambda/2 (Lambda entspricht 633 nm) bewahren, und einer Regelbandbreite grösser als 100 Hz; b. optische Elemente aus Zinkselenid (ZnSe) oder Zink- A.4 frei sulfid (ZnS) mit einer Transmissionswellenlänge im Be- T: 5000 reich von grösser als 3000 nm bis 25 000 nm und mit ei- ner der folgenden Eigenschaften:

1. Volumen grösser als 100 cm3 oder

2. Durchmesser oder Hauptachsenlänge grösser als

80 mm und Dicke (Tiefe) grösser als 20 mm;

c. weltraumgeeignete Bauteile für optische Systeme wie A.4 OGB folgt: T: 5000

1. Gewichtsreduzierung auf weniger als 20% der äqui-

valenten Dichte eines massiven Werkstücks gleicher Blendenöffnung und Dicke,

2. Unbearbeitete Substrate, bearbeitete Substrate mit

Oberflächenbeschichtungen (eine oder mehrere Schichten, metallisch oder dielektrisch, elektrisch leitend, halbleitend oder nichtleitend) oder mit Schutzfilmen,

3. Segmente oder Baugruppen von Spiegeln, entwickelt

für den Zusammenbau im Weltraum zu einem opti- schen System, dessen Sammelblendenöffnung der ei- ner Einzeloptik mit einem Durchmesser grösser/gleich

1 m entspricht,

4. hergestellt aus Verbundwerkstoffen mit einem linearen

thermischen Ausdehnungskoeffizienten kleiner/gleich

5 × 10–6 in jeder Koordinatenrichtung;

d. Steuereinrichtungen für optische Elemente wie folgt: A.4 OGB

1. besonders entwickelt, um die Oberflächenform T: 5000

(surface figure) oder -ausrichtung der von Unternum- eigneten Bauteile beizubehalten,

2. mit Steuer-, Verfolgungs-, Stabilisierungs- oder Re-

sonatoreinstellbandbreiten grösser/gleich 100 Hz und mit einer Genauigkeit von 10 µrad oder besser,

3. kardanische Aufhängungen mit allen folgenden Ei-

genschaften: a. maximaler Schwenkbereich grösser als 5°, b. Bandbreite grösser/gleich 100 Hz,

Güterkontrollverordnung AS 1999

c. Winkelfehler kleiner/gleich 200 µrad und d. mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Hauptachsenlänge oder Durchmesser grösser als

0,15 m und kleiner/gleich 1 m und Winkelbe- schleunigungen grösser als 2 rad/s² oder

2. Hauptachsenlänge oder Durchmesser grösser als

1 m und Winkelbeschleunigungen grösser als 0,5

4. besonders entwickelt für die Beibehaltung der Justie-

rung von Gruppenstrahler-Spiegelsystemen (auch mit Phasenkopplung zwischen Segmenten), die aus Spie- geln mit einem Segmentdurchmesser oder einer Hauptachsenlänge grösser/gleich 1 m bestehen. 6A005 Laser, Bauteile und optische Ausrüstung wie folgt: Anmerkungen:

1. Gepulste Laser schliessen solche ein, die im Dauerstrichbetrieb

mit überlagerten Pulsen arbeiten.

2. Impulserregte Laser schliessen solche ein, die im kontinuierlich

angeregten Betrieb mit überlagerten Erregungsimpulsen arbei- ten.

3. Der Erfassungsstatus von Raman-Lasern richtet sich nach den

Parametern der Pump-Laserquelle. Eine Pump-Laserquelle kann jeder der nachstehend beschriebenen Laser sein. Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Nummer 6A205. a. Gaslaser wie folgt:

1. Excimer-Laser mit einer der folgenden Eigenschaften:

(W) a. Ausgangswellenlänge kleiner/gleich 150 nm und A.4 frei

1. Ausgangsenergie grösser als 50 mJ je Puls oder T: 5000

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

1 W, (W) b. Ausgangswellenlänge grösser als 150 nm und klei- A.4 frei ner/gleich 190 nm und T: 5000

1. Ausgangsenergie grösser als 1,5 J je Puls oder

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

120 W, (W, N) c. Ausgangswellenlänge grösser als 190 nm und klei- A.4 OGB ner/gleich 360 nm und T: 1000

1. Ausgangsenergie grösser als 10 J je Puls oder

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

500 W, (W) d. Ausgangswellenlänge grösser als 360 nm und A.4 frei

1. Ausgangsenergie grösser als 1,5 J je Puls oder T: 5000

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

30 W, Anmerkung: Für Eximer-Laser, besonders konstruiert für Litho- grafie-Ausrüstung, siehe Nummer 3B001.

Güterkontrollverordnung AS 1999

2. Metalldampf-Laser wie folgt:

(W, N) a. Kupfer(Cu)-Laser mit einer mittleren oder CW- A.4 OGB Ausgangsleistung grösser als 20 W, T: 1000 (W) b. Gold(Au)-Laser mit einer mittleren oder CW- A.4 frei Ausgangsleistung grösser als 5 W, T: 5000 (W) c. Natrium(Na)-Laser mit einer Ausgangsleistung A.4 frei grösser als 5 W, T: 5000 (W) d. Barium(Ba)-Laser mit einer mittleren oder CW- A.4 frei Ausgangsleistung grösser als 2 W, T: 5000 (W) 3. CO-Laser mit einer der folgenden Eigenschaften: A.4 frei a. Ausgangsenergie grösser als 2 J je Puls und Spit- T: 5000 zenleistung grösser als 5 kW oder b. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

5 kW,

(W) 4. CO2-Laser mit einer der folgenden Eigenschaften: A.4 frei a. CW-Ausgangsleistung grösser als 15 kW, T: 5000 b. gepulste Ausgangsstrahlung mit einer Pulsdauer grösser als 10 µs und einer

1. mittleren Ausgangsleistung grösser als 10 kW

oder

2. gepulsten Spitzenleistung grösser als 100 kW

oder c. gepulste Ausgangsstrahlung mit einer Pulsdauer kleiner/gleich 10 µs und einer

1. Pulsenergie grösser als 5 J je Puls oder

2. mittleren Ausgangsleistung grösser als 2,5 kW,

(W) 5. chemische Laser wie folgt: A.4 frei a. Wasserstoff-Fluorid(HF)-Laser, T: 5000 b. Deuteriumfluorid(DF)-Laser, c. Transfer-Laser wie folgt:

2. Deuteriumfluorid-Kohlendioxid (DF-CO2)-

Laser, (W) 6. Kryptonionen- oder Argonionen-Laser, mit einer der A.4 frei folgenden Eigenschaften: T: 5000 a. Ausgangsenergie grösser als 1,5 J je Puls und ge- pulste Spitzenleistung grösser als 50 W oder b. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als 50 W, (W) 7. andere Gas-Laser mit einer der folgenden Eigen- A.4 frei schaften: T: 5000 Anmerkung: Unternummer 6A005a7 erfasst keine Stickstofflaser. a. Ausgangswellenlänge kleiner/gleich 150 nm und

1. Ausgangsenergie grösser als 50 mJ je Puls und

gepulste Spitzenleistung grösser als 1 W oder

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

1 W,

Güterkontrollverordnung AS 1999

b. Ausgangswellenlänge grösser als 150 nm und klei- ner/gleich 800 nm und

1. Ausgangsenergie grösser als 1,5 J je Puls und

gepulste Spitzenleistung grösser als 30 W oder

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

30 W, c. Ausgangswellenlänge grösser als 800 nm und klei- ner/gleich 1400 nm und

1. Ausgangsenergie grösser als 0,25 J je Puls und

gepulste Spitzenleistung grösser als 10 W oder

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

10 W, d. Ausgangswellenlänge grösser als 1400 nm und mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als 1 W; (W) b. Halbleiter-Laser mit einer Wellenlänge kleiner als A.4 frei

950 nm oder grösser als 2000 nm, wie folgt: T: 5000

1. Einzelne Halbleiter-Laser, die im «single-transverse-

mode» arbeiten, mit einer mittleren oder CW- Ausgangsleistung grösser als 100 mW.

2. Einzelne Halbleiter-Laser, die im «multi-transverse-

mode» arbeiten, oder Arrays aus einzelnen Halbleiter- Lasern, mit einer der folgenden Eigenschaften: a. Ausgangsenergie grösser als 500µJ je Puls und ei- ner gepulsten Spitzenleistung grösser als 10 W oder b. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als 10 W. Technische Anmerkung: Halbleiter-Laser werden gewöhnlich als Laser-Dioden bezeich- net. Anmerkungen:

1. Unternummer 6A005b schliesst Halbleiter-Laser mit faser-

optischen Anschlussstücken (fibre optic pigtails) ein.

2. Die Erfassung von Halbleiter-Lasern, besonders konstruiert

für andere Einrichtungen, richtet sich nach dem Erfassungs- status der anderen Einrichtungen. c. Festkörper-Laser wie folgt:

1. abstimmbare Laser mit einer der folgenden Eigen-

schaften: Anmerkung: Unternummer 6A005c¹ schliesst Titan-Saphir (Ti:Al2O3)- Laser, Thulium-YAG (Tm:YAG)-Laser, Thulium-YSGG (Tm:YSSG)-Laser, Alexandrit (Cr:BeAl2O4)-Laser und Farbmitten (colour centre) Laser ein. (W) a. Ausgangswellenlänge kleiner als 600 nm und A.4 frei

1. Ausgangsenergie grösser als 50 mJ je Puls und T: 5000

gepulste Spitzenleistung grösser als 1 W oder

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

1 W,

Güterkontrollverordnung AS 1999

(W, N) b. Ausgangswellenlänge grösser/gleich 600 nm und A.4 OGB kleiner/gleich 1400 nm und T: 5000

1. Ausgangsenergie grösser als 1 J je Puls und ge-

pulste Spitzenleistung grösser als 20 W oder

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

20 W oder

(W) c. Ausgangswellenlänge grösser als 1400 nm und A.4 frei

1. Ausgangsenergie grösser als 50 mJ je Puls und T: 5000

gepulste Spitzenleistung grösser als 1 W oder

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

1 W,

2. nicht abstimmbare Laser wie folgt:

Anmerkung: Unternummer 6A005c² schliesst nach dem Prinzip der Atomtransition arbeitende Festkörperlaser ein. (W) a. Neodym-Glas-Laser wie folgt: A.4 frei

1. gütegeschaltete Laser mit einer der folgenden T: 5000

Eigenschaften: a. Ausgangsenergie je Impuls grösser als 20 J und kleiner/gleich 50 J und mittlere Aus- gangsleistung grösser als 10 W oder b. Ausgangsenergie je Impuls grösser als 50 J,

2. nicht gütegeschaltete Laser mit einer der folgen-

den Eigenschaften: a. Ausgangsenergie je Impuls grösser als 50 J und kleiner/gleich 100 J und mittlere Aus- gangsleistung grösser als 20 W oder b. Ausgangsenergie grösser als 100 J je Impuls, b. Neodym-dotierte (andere als Glas) Laser mit einer Ausgangswellenlänge grösser als 1000 nm und kleiner/gleich 1100 nm wie folgt: Anmerkung: Neodym-dotierte (andere als Glas) Laser, bei denen die Ausgangswellenlänge nicht zwischen 1000 nm und

1100 nm liegt: siehe Unternummer 6A005c2c.

(W) 1. pulserregte, modengekoppelte und gütegeschal- A.4 frei tete Laser mit einer Pulsdauer kleiner als 1 ns T: 5000 und einer der folgenden Eigenschaften: a. Spitzenleistung grösser als 5 GW, b. mittlere Ausgangsleistung grösser als 10 W oder c. Pulsenergie grösser als 0,1 J, (W, N) 2. pulserregte, gütegeschaltete Laser mit einer A.4 frei Pulsdauer grösser/gleich 1 ns und einer der fol- T: 5000 genden Eigenschaften: a. Ausgangsstrahlung im transversalen Singl- Mode-Betrieb (single transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

Güterkontrollverordnung AS 1999

1. Spitzenleistung grösser als 100 MW,

2. mittlere Ausgangsleistung grösser als 20 W

oder

3. Pulsenergie grösser als 2 J oder

b. Ausgangsstrahlung im transversalen Multi- Modebetrieb (multiple transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Spitzenleistung grösser als 400 MW,

2. mittlere Ausgangsleistung grösser als 2 kW

oder

3. Pulsenergie grösser als 2 J,

(W) 3. pulserregte, nicht gütegeschaltete Laser mit ei- A.4 frei ner der folgenden Eigenschaften: T: 5000 a. Ausgangsstrahlung im transversalen Single- Mode-Betrieb (single transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Spitzenleistung grösser als 500 kW oder

2. mittlere Ausgangsleistung grösser als

150 W oder

b. Ausgangsstrahlung im transversalen Multi- Mode-Betrieb (multiple transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Spitzenleistung grösser als 1 MW oder

2. mittlere Ausgangsleistung grösser als 2 kW,

(W) 4. kontinuierlich angeregte Laser mit einer der fol- A.4 frei genden Eigenschaften: T: 5000 a. Ausgangsstrahlung im transversalen Single- Mode-Betrieb (single transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Spitzenleistung grösser als 500 kW oder

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser

als 150 W oder b. Ausgangsstrahlung im transversalen Multi- Mode-Betrieb (multiple transverse mode) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Spitzenleistung grösser als 1 MW oder

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser

als 2 kW, c. andere nicht abstimmbare Laser mit einer der fol- genden Eigenschaften: (W) 1. Wellenlänge kleiner als 150 nm und mit einer A.4 frei der folgenden Eigenschaften: T: 5000 a. Ausgangsenergie grösser als 50 mJ je Puls und gepulste Spitzenleistung grösser als 1 W oder b. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als 1 W,

Güterkontrollverordnung AS 1999

2. Wellenlänge grösser/gleich 150 nm und klei-

ner/gleich 800 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften: (W) a. Ausgangsenergie grösser als 1,5 J je Puls und A.4 frei gepulste Spitzenleistung grösser als 30 W oder T: 5000 (W, N ) b. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als A.4 OGB 30 W, T: 5000 (W) 3. Wellenlänge grösser als 800 nm und klei- A.4 frei ner/gleich 1400 nm wie folgt: T: 5000 a. gütegeschaltete Laser mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Ausgangsenergie grösser als 0,5 J je Puls

und gepulste Spitzenleistung grösser als

50 W oder

2. mittlere Ausgangsleistung grösser als

a. 10 W für Laser im transversalen Single- Mode-Betrieb oder b. 30 W für Laser im transversalen Multi- Mode-Betrieb b. nicht gütegeschaltete Laser mit einer der fol- genden Eigenschaften:

1. Ausgangsenergie grösser als 2 J je Puls und

gepulste Spitzenleistung grösser als 50 W oder

2. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser

als 50 W oder (W) 4. Wellenlänge grösser als 1400 nm und mit einer A.4 frei der folgenden Eigenschaften: T: 5000 a. Ausgangsenergie grösser als 100 mJ je Puls und gepulste Spitzenleistung grösser als 1 W oder b. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als 1 W; (W) d. Farbstoff-(Dye-) und andere Flüssigkeits-Laser mit einer A.4 frei der folgenden Eigenschaften: T: 5000

1. Wellenlänge kleiner als 150 nm und mit einer der fol-

genden Eigenschaften: a. Ausgangsenergie grösser als 50 mJ je Puls und ge- pulste Spitzenleistung grösser als 1 W oder b. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als 1 W,

2. Wellenlänge grösser/gleich 150 nm und kleiner/gleich

800 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:

a. Ausgangsenergie grösser als 1,5 J je Puls und ge- pulste Spitzenleistung grösser als 20 W, b. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

20 W oder

Güterkontrollverordnung AS 1999

c. gepulster Oszillator im longitudinalen Single- Mode-Betrieb (single longitudinal mode) mit einer mittleren Ausgangsleistung grösser als 1 W und ei- ner Pulswiederholfrequenz grösser als 1 kHz, wenn die Pulsdauer kleiner als 100 ns ist,

3. Wellenlänge grösser als 800 nm und kleiner/gleich

1400 nm und mit einer der folgenden Eigenschaften:

a. Ausgangsenergie grösser als 0,5 J je Puls und ge- pulste Spitzenleistung grösser als 10 W oder b. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als

10 W oder

4. Wellenlänge grösser als 1400 nm und mit einer der

folgenden Eigenschaften: a. Ausgangsenergie grösser als 100 mJ je Puls und gepulste Spitzenleistung grösser als 1 W oder b. mittlere oder CW-Ausgangsleistung grösser als 1 W; (W) e. Bauteile wie folgt: A.4 frei

1. gekühlte Spiegel mit «aktiver Kühlung» oder mit T: 5000

Kühlung durch Wärmeübertragungsrohre (heat pipe), Technische Anmerkung: «Aktive Kühlung» ist ein Kühlverfahren für optische Bau- teile, bei dem strömende Medien im oberflächennahen Be- reich (allgemein weniger als 1 mm unter der optischen Ober- fläche) des optischen Bauteils verwendet werden, um Wär- me von der Optik abzuleiten.

2. optische Spiegel und vollkommen oder teilweise

lichtdurchlässige optische oder elektrooptische Bau- teile, besonders konstruiert für die Verwendung in Verbindung mit von Nummer 6A005 erfassten La- sern; (W) f. optische Ausrüstung wie folgt: A.4 frei Anmerkung: T: 5000 Optische Elemente mit gemeinsamer Blende (shared aperture optical elements), geeignet zum Einsatz in Verbindung mit Su- per-High Power Lasern (SHPL): Siehe Anhang 3, Unternum-

1. Ausrüstung zur Messung dynamischer Wellenfronten

(Phasenlage), die in der Lage ist, mindestens 50 Posi- tionen einer Wellenfront zu messen mit einer der fol- genden Eigenschaften: a. Bildwechselfrequenz grösser/gleich 100 Hz und Phasendiskriminierung von mindestens 5 % der Wellenlänge des Signals oder b. Bildwechselfrequenz grösser/gleich 1000 Hz und Phasendiskriminierung von mindestens 20 % der Wellenlänge des Signals,

Güterkontrollverordnung AS 1999

2. Ausrüstung zur Diagnose von Strahlführungs-

Winkelfehlern kleiner/gleich 10 µrad an Super-High Power Lasern (SHPL),

3. optische Ausrüstung und Bauteile, besonders ent-

wickelt für ein Super-High Power Laser-System mit Gruppenstrahlern (phased array SHPL-system) zur kohärenten Strahlzusammenführung, mit einer Ge- nauigkeit von Lambda/10 der ausgelegten Wellenlän- ge oder 0,1 µm, wobei der kleinere Wert zählt,

4. Projektionsteleskope, besonders konstruiert für die

Verwendung mit Super-High Power Lasern (SHPL). 6A006 Magnetometer, Magnetfeldgradientenmesser, intrinsi- (W) sche Magnetfeldgradientenmesser und Kompensations- systeme sowie besonders konstruierte Bestandteile hier- für wie folgt: Anmerkung: Nummer 6A006 erfasst keine Ausrüstung, besonders konstruiert für biomagnetische Messungen im Rahmen medizinischer Diag- nose. a. Magnetometer auf der Basis von supraleitenden, optisch A.4 frei gepumpten oder Kernpräzessions (Proton/Overhauser)- T: 5000 Verfahren mit einem Rauschpegel (Empfindlichkeit) kleiner (besser) als 0,05 nTrms/√ Hz; b. Induktionsspulen-Magnetometer mit einem Rauschpegel A.4 frei (Empfindlichkeit) kleiner (besser) als einer der folgen- T: 5000 den Werte:

1. 0,05 nTrms/√ Hz bei Frequenzen kleiner als 1 Hz,

2. 1 pTrms/√ Hz bei Frequenzen grösser/gleich 1 Hz und

kleiner/gleich 10 Hz oder

3. 0,1 pTrms/√ Hz bei Frequenzen grösser als 10 Hz;

c. Lichtwellenleiter-Magnetometer mit einem Rauschpegel A.4 frei (Empfindlichkeit) kleiner (besser) als 1 nTrms/√ Hz; T: 5000 d. Magnetfeldgradientenmesser mit mehreren Magneto- A.4 frei metern, die von Unternummer 6A006a, 6A006b oder T: 5000 6A006c erfasst werden; e. intrinsische Magnetfeldgradientenmesser auf Lichtwel- A.4 frei lenleiterbasis mit einem Rauschpegel (Empfindlichkeit) T: 5000 des Magnetfeldgradienten kleiner (besser) als 0,3 nT/m rms/√ Hz; f. intrinsische Magnetfeldgradientenmesser, die auf der A.4 frei Basis anderer als der Lichtwellenleitertechnik arbeiten, T: 5000 mit einem Rauschpegel (Empfindlichkeit) des Magnet- feldgradienten kleiner (besser) als 15 pT/m rms/√ Hz;

Güterkontrollverordnung AS 1999

g. Magnetfeld-Kompensationssysteme für Magnetfeld- A.4 OGB Sensoren, die für Betrieb auf mobilen Plattformen kon- T: 5000 struiert wurden; h. supraleitende elektromagnetische Sensoren, die Bauteile A.4 OGB aus supraleitenden Materialien enthalten, mit allen fol- T: 5000 genden Eigenschaften:

1. konstruiert zum Betrieb mindestens eines ihrer supra-

leitenden Bestandteile bei Temperaturen unterhalb der kritischen Temperatur (einschliesslich Josephson- Elementen und SQUIDs [super-conductive quantum interference devices]),

2. konstruiert zum Erkennen von Änderungen des elek-

tromagnetischen Felds bei Frequenzen kleiner/gleich

1 kHz und

3. mit einer der folgenden Eigenschaften:

a. mit Dünnfilm-SQUIDs, deren kleinste Strukturab- messung kleiner ist als 2 µm, und mit zugehörigen Ein- und Ausgangskopplungsschaltungen, b. konstruiert zum Betrieb mit einer Magnetfeldände- rungsgeschwindigkeit von mehr als 1 × 106 magnetischen Flussquanten pro Sekunde, c. konstruiert zum Betrieb ohne magnetische Ab- schirmung innerhalb des Erdmagnetfelds oder d. mit einem Temperaturkoeffizienten kleiner (weniger) als 0,1 magnetische Flussquanten/K. 6A007 Schwerkraftmesser (Gravimeter) und Schwerkraft- gradientenmesser (gravity gradiometers) wie folgt: Anmerkung: Siehe auch Nummer 6A107. (W) a. Schwerkraftmesser, konstruiert oder geändert für die A.4 frei Verwendung an Land mit einer statischen Genauigkeit T: 5000 kleiner (besser) als 10 µgal; Anmerkung: Unternummer 6A007a erfasst nicht Landgravimeter mit Quarz- element (Worden-Prinzip). (W, M) b. Schwerkraftmesser, konstruiert für mobile Plattformen, A.4 OGB mit allen folgenden Eigenschaften: T: 1000

1. statische Genauigkeit kleiner (besser) als 0,7 mgal

und

2. Betriebsgenauigkeit kleiner (besser) als 0,7 mgal bei

einer Zeit kleiner als 2 min bis zur Stabilisierung des Messwerts bei jeder Kombination von manuellen Kompensationsmassnahmen und dynamischen Ein- flüssen; (W, M) c. Schwerkraftgradientenmesser. A.4 OGB T: 1000

Güterkontrollverordnung AS 1999

6A008 Radarsysteme, -geräte und Baugruppen mit einer der A.4 OGB (W, M) folgenden Eigenschaften sowie besonders konstruierte T: 1000 Bestandteile hierfür: Anmerkung: Nummer 6A008 erfasst nicht: a. Sekundär-Überwachungsradarsysteme (SSR, Secondary Sur- veillance Radar), b. Fahrzeug-Radarsysteme zum Kollisionsschutz, c. Überwachungs- und Anzeigegeräte für die Flugsicherung mit einer Auflösung von maximal 12 Elementen pro mm, d. Meteorologische (Wetter-)Radarsysteme. Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Nummer 6A108. a. mit einer Betriebsfrequenz von 40 bis 230 GHz und einer mittleren Ausgangsleistung grösser als 100 mW, b. über mehr als ± 6,25% der «nominalen Betriebs- frequenz» abstimmbare Bandbreite, Technische Anmerkung: Die «nominale Betriebsfrequenz» entspricht der Hälfte der Summe der höchsten plus der niedrigsten spezifizierten Be- triebsfrequenz. c. Möglichkeit zum gleichzeitigen Betrieb auf mehr als zwei Trägerfrequenzen, d. Radar mit künstlicher Apertur (SAR, Synthetic-Aperture Radar), inverser künstlicher Apertur (ISAR, Inverse- Synthetic-Aperture Radar) oder als Seitensicht- Luftfahrzeug-Bordradarsystem (SLAR, Side Looking Airborne Radar), e. mit elektronisch phasengesteuerten Antennengruppen (phased array antennae), f. Möglichkeit zur autonomen Zielhöhenmessung, Anmerkung: Unternummer 6A008f erfasst nicht Präzisionsanflug- Radarsysteme (PAR, Precision Approach Radar) gemäss den ICAO-Normen. g. besonders entwickelt für Betrieb in Luftfahrzeugen (Montage in Ballons oder Flugzeugzellen) und mit Ver- arbeitung von Doppler-Signalen zur Bewegtzielerken- nung, h. Verarbeitung von Radarsignalen unter Anwendung einer der folgenden Verfahren:

1. gespreiztes Spektrum (Radar) oder

2. Frequenzsprung (Radar),

i. vorgesehen für Bodenbetrieb mit einem maximalen Er- fassungsbereich grösser als 185 km,

Güterkontrollverordnung AS 1999

Anmerkung: Unternummer 6A008i erfasst nicht: a. Radarsysteme zur Überwachung von Fischereigebieten, b. Bodenradarsysteme, besonders konstruiert für die Strecken- (enroute) Flugsicherung, mit allen folgenden Eigenschaften:

1. maximaler Erfassungsbereich kleiner/gleich 500 km,

2. so konfiguriert, dass die Radarzieldaten nur in einer

Richtung an eine oder mehrere zivile Flugsicherungs- zentralen übermittelt werden können,

3. keine Fernsteuerungsmöglichkeiten der Abtastgeschwin-

digkeit durch die Flugsicherungszentrale zur Luft- raumüberwachung von Streckenflügen und

4. fest installiert,

c. Wetterballon-Verfolgungsradare. j. Laser- oder Lichtradar (LIDAR, Light Detection And Ranging) mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. weltraumgeeignet oder

2. Verwendung von kohärenten Überlagerungsverfahren

(heterodyn oder homodyn) und einer Winkelauflö- sung kleiner (besser) als 20 µrad, Anmerkung: Unternummer 6A008j erfasst nicht Lichtradar (LIDAR), be- sonders entwickelt für die Landvermessung oder für meteo- rologische Beobachtung, einschliesslich Luftschadstoffmes- sung. k. mit Subsystemen für die Signaldatenverarbeitung, die Impulskompression anwenden, mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Impulskompressions-Verhältnis grösser als 150 oder

2. Impulsbreite kleiner als 200 ns oder

l. mit Subsystemen für die Datenverarbeitung mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. automatische Zielverfolgung, bei der während jeder

Antennenumdrehung die wahrscheinliche Zielposition vor dem Zeitpunkt des nächsten Zieldurchgangs der Antennenkeule geliefert wird, Anmerkung: Unternummer 6A008l¹ erfasst nicht die Kollisionswarn- möglichkeit in Flugsicherungssystemen, Marine- oder Hafenradar.

2. Berechnung der Zielgeschwindigkeit aus den Signalen

von Primärradarsystemen, die mit nichtperiodischer (variabler) Abtastung arbeiten,

3. Aufbereitung für automatische Mustererkennung

(Gewinnung von Merkmalen) und Vergleich mit in Datenbanken gespeicherten Zielmerkmalen (Signal- oder Bilddaten) zur Identifizierung oder Klassifizie- rung von Zielen oder

Güterkontrollverordnung AS 1999

4. Überlagerung und Korrelation oder Verknüpfung von

Zieldaten von zwei oder mehreren geografisch ver- teilten und miteinander verbundenen Radarsensoren zur Verbesserung der Unterscheidung von Zielen. Anmerkung: Unternummer 6A008l4 erfasst nicht Systeme, Geräte und Baugruppen, die für die Überwachung des Schiffsverkehrs verwendet werden. 6A102 Strahlungsfeste «Detektoren», die nicht von Nummer A.4 OGB (M) 6A002 erfasst werden, zum Schutz gegen atomare Deto- T: 1000 nationswirkungen (z. B. elektromagnetischer Impuls [EMP], Röntgenstrahlung, kombinierte Druck- und Wärmewirkung) und geeignet für Flugkörper, konstru- iert oder ausgelegt, um einer Gesamtstrahlungsdosis von grösser/gleich 5 × 105 Rad (Silizium) zu widerstehen. Technische Anmerkung: Im Sinne von Nummer 6A102 ist ein «Detektor» definiert als eine mechanische, elektrische, optische oder chemische Vorrichtung, die automatisch identifiziert, aufzeichnet oder ein Signal regis- triert, wie z. B. Änderungen von Umgebungstemperatur oder -druck, elektromagnetische Signale oder die Strahlung eines ra- dioaktiven Materials. 6A107 Schwerkraftmesser (Gravimeter) und Bestandteile für A.4 OGB (M) Schwerkraftmesser und für Schwerkraftgradientenmes- T: 1000 ser (gravity gradiometers) wie folgt: a. Schwerkraftmesser, die nicht von Unternummer 6A007b erfasst werden, konstruiert oder geändert für die Ver- wendung in Luftfahrzeugen oder auf See, mit einer stati- schen Genauigkeit oder Betriebsgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 0,7 mgal bei einer Zeit kleiner/gleich

2 min bis zur Stabilisierung des Messwerts;

b. ausschliesslich konstruierte Bestandteile für die von Unternummer 6A007b oder 6A107a erfassten Schwer- kraftmesser oder die von Unternummer 6A007c erfass- ten Schwerkraftgradientenmesser. 6A108 Radarsysteme und Bahnverfolgungssysteme, die nicht von Nummer 6A008 erfasst werden, wie folgt: (M) a. Radarsysteme und Laserradarsysteme, konstruiert oder A.4 OGB geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 er- T: 1000 fassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfass- ten Höhenforschungsraketen; (M) b. Präzisionsbahnverfolgungssysteme, geeignet für Flug- A.4 OGB körper, wie folgt: T: 1000

Güterkontrollverordnung AS 1999

1. Verfolgungssysteme mit einem Code-Umsetzer in

Verbindung mit Boden- oder Luftreferenzsystemen oder Navigationssatellitensystemen, zur Echtzeitmes- sung von Flugposition und Geschwindigkeit,

2. Vermessungsradare (range instrumentation radars)

einschliesslich zugehöriger optischer/Infrarot- Zielverfolgungsgeräte mit allen folgenden Eigen- schaften: a. Winkelauflösung kleiner (besser) als 3 mrad (0,5 mils), b. Reichweite grösser/gleich 30 km mit einer Entfer- nungsauflösung besser als 10 m rms und c. Geschwindigkeitsauflösung besser als 3 m/s. 6A202 Fotoelektronenvervielfacherröhren mit allen folgenden A.4 OGB (N) Eigenschaften: T: 1000 a. einer Fotokathodenfläche grösser als 20 cm² und b. einer Pulsanstiegszeit an der Anode kleiner als 1 ns. 6A203 Kameras und Bestandteile, die nicht von Nummer A.4 OGB (N) 6A003 erfasst werden, wie folgt: T: 1000 a. mechanische Drehspiegelkameras wie folgt und beson- ders konstruierte Bestandteile hierfür:

1. Bildkameras mit einer Aufnahmegeschwindigkeit

grösser als 225 000 Einzelbilder/s;

2. Streakkameras mit Aufzeichnungsgeschwindigkeiten

grösser als 0,5 mm/µs; Anmerkung: Im Sinne von Unternummer 6A203a schliessen besonders konstruierte Bestandteile solcher Kameras deren Elektronik- baugruppen zur Synchronisation und Rotationsbaugruppen, bestehend aus Antriebsturbinen, Spiegeln und Lagern, ein. b. elektronische Streakkameras, elektronische Bildkameras, Elektronenröhren und Vorrichtungen wie folgt:

1. elektronische Streakkameras mit einer Zeitauflösung

kleiner/gleich 50 ns;

2. Streak-Elektronenröhren für Kameras, die von Unter-

nummer 6A203b¹ erfasst werden,

3. elektronische Bildkameras (oder Bildkameras mit

elektronischem Verschluss) mit einer Bild- Belichtungszeit kleiner/gleich 50 ns,

4. Aufnahmeröhren und Halbleiter-Bildsensoren für die

Verwendung in Kameras, die von Unternummer 6A203b3 erfasst werden, wie folgt:

Güterkontrollverordnung AS 1999

a. Nahfokusbildverstärkerröhren mit kleiner Brenn- weite, die eine Fotokathode haben, die auf einem durchsichtigen leitfähigen Belag aufgebracht ist, zur Verkleinerung des Fotokathoden- Flächenwiderstands, b. Gate-SIT (silicon intensifier target)-Vidicon- Röhren, bei denen ein schnelles System das Steuern der Fotoelektronen von der Fotokathode ermög- licht, ehe sie auf die SIT-Platte auftreffen, c. elektrooptische Kerr- oder Pockels-Zellen- Verschlüsse, d. andere Bildröhren und Halbleiter-Bildsensoren, die eine Schnellbild-Abtastzeit kleiner als 50 ns haben und besonders konstruiert sind für Kameras, die von Unternummer 6A203b3 erfasst werden; c. strahlungsfeste TV-Kameras oder Linsen hierfür, beson- ders konstruiert oder ausgelegt als unempfindlich gegen Strahlungsbelastungen grösser als 50 × 103 Gy (Silizium) (5 × 106 Rad (Silizium)) ohne betriebsbe- dingten Qualitätsverlust. Technische Anmerkung: Der Ausdruck Gy (Silizium) bezieht sich auf die in Joules pro Kilogramm ausgedrückte Energie, die von einer ionisierender Strahlung ausgesetzten Probe von nicht abgeschirmtem Silizi- um absorbiert wird. 6A205 Laser, Laserverstärker und Oszillatoren, die nicht von A.4 OGB (N) Nummer 6A005 erfasst werden, wie folgt: T: 1000 a. Argonionen-Laser mit allen folgenden Eigenschaften:

1. einer Betriebswellenlänge grösser/gleich 400 nm und

kleiner/gleich 515 nm

2. einer mittleren Ausgangsleistung grösser als 40 W

und; b. abstimmbare, gepulste Farbstoff-(Dye-)Oszillatoren für Single-Mode-Betrieb mit allen folgenden Eigenschaften:

1. einer Wellenlänge grösser/gleich 300 nm und klei-

ner/gleich 800 nm,

2. einer mittleren Ausgangsleistung grösser als 1 W,

3. einer Pulsfrequenz grösser als 1 kHz und

4. einer Pulsdauer kleiner als 100 ns;

c. abstimmbare, gepulste Farbstoff-(Dye-)Laserverstärker und -Oszillatoren mit allen folgenden Eigenschaften:

1. einer Wellenlänge grösser/gleich 300 nm und klei-

ner/gleich 800 nm,

2. einer mittleren Ausgangsleistung grösser als 30 W,

3. einer Pulsfrequenz grösser als 1 kHz und

4. einer Pulsdauer kleiner als 100 ns;

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Anmerkung: Unternummer 6A205c erfasst nicht Single-Mode-Oszillatoren d. gepulste CO2-Laser mit allen folgenden Eigenschaften:

1. einer Betriebswellenlänge grösser/gleich 9000 nm und

kleiner/gleich 11 000 nm,

2. einer Pulsfrequenz grösser als 250 Hz,

3. einer mittleren Ausgangsleistung grösser als 500 W

und

4. einer Pulsdauer kleiner als 200 ns;

e. Para-Wasserstoff-Raman-Shifter, entwickelt für Aus- gangswellenlängen von 16 µm und eine Pulsfrequenz grösser als 250 Hz; f. pulserregte, gütegeschaltete neodymdotierte (andere als Glas) Laser mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Ausgangswellenlänge grösser als 1000 nm und klei-

ner/gleich 1100 nm,

2. Pulsdauer grösser/gleich 1 ns und

3. mittlere Leistung in Multi-Mode-Betrieb (multiple-

transverse mode) grösser als 50 W. 6A225 Interferometer zum Messen von Geschwindigkeiten A.4 OGB (N) grösser als 1 km/s in Zeitintervallen kleiner als 10 µs. T: 1000 Anmerkung: Nummer 6A225 schliesst Interferometer zum Messen von Ge- schwindigkeiten ein, wie z.B. VISAR's (Velocity interferometer systems for any reflector) und DLI's (Doppler Laser Interfero- meter). 6A226 Drucksensoren wie folgt: A.4 OGB (N) a. Manganin-Sensorelemente für Drücke grösser als T: 1000

10 GPa;

b. Quarz-Messwertaufnehmer für Drücke grösser als

10 GPa.

6B Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen 6B004 Optik A.4 frei (W) a. Ausrüstung zur Messung des absoluten Reflexionsgrads T: 5000 mit einer Genauigkeit von ± 0,1 % des tatsächlichen Re- flexionsgrads; b. Ausrüstung, mit Ausnahme von Ausrüstung zur opti- schen Vermessung des Oberflächenstreueffekts, mit ei- nem Messfenster grösser als 10 cm, besonders konstru- iert für die berührungslose Vermessung von nichtplana- ren Oberflächen mit einer Genauigkeit kleiner/gleich

2 nm bezogen auf das Referenzprofil.

Anmerkung: Unternummer 6B004b erfasst nicht Mikroskope.

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6B007 Gravimeter A.4 frei (W) Ausrüstung für die Herstellung, Justierung und Kali- T: 5000 brierung von Landgravimetern mit einer statischen Genauigkeit besser als 0,1 mgal. 6B008 Radar A.4 OGB (W) Impulsradarmesseinrichtungen zur Bestimmung des T: 1000 Rückstrahlquerschnitts mit einer Sendeimpulsbreite kleiner/gleich 100 ns und besonders konstruierte Be- standteile hierfür. Anmerkung: Siehe auch Nummer 6B108. 6B108 Messsysteme, die nicht von Nummer 6B008 erfasst wer- A.4 OGB (M) den, ausschliesslich konstruiert zur Bestimmung von T: 1000 Radarrückstrahlquerschnitten, geeignet für Flugkörper und Flugkörper-Subsysteme. 6C Werkstoffe und Materialien 6C002 Optische Sensormaterialien wie folgt: A.4 frei (W) a. Tellur (Te) mit einem Reinheitsgrad von 99,9995% oder T: 5000 grösser; b. Einkristalle aus CdZnTe mit einem Gewichtsanteil an Zink von weniger als 6%, oder Einkristalle aus CdTe oder HgCdTe jeden Reinheitsgrades einschliesslich hier- aus gefertigter epitaktischer Wafer. 6C004 Optische Materialien wie folgt: A.4 frei (W) a. Durch CVD-Verfahren mit Zinkselenid (ZnSe) oder T: 5000 Zinksulfid (ZnS) bedampfte monolithische Substrate mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Volumen grösser als 100 cm3 oder

2. Durchmesser grösser als 80 mm und mit einer Dicke

grösser/gleich 20 mm; b. birnenförmige Rohkristalle (boules) der folgenden elektrooptischen Materialien:

1. Kaliumtitanarsenat (KTA),

2. Silbergalliumselenid (AgGaSe2),

3. Thalliumarsenselenid (Tl3AsSe3, auch als TAS be-

zeichnet); c. Materialien für nichtlineare Optik mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Suszeptibilität dritter Ordnung (Chi 3) grösser/gleich

2. Ansprechzeit kleiner als 1 ms;

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d. monolithische Substrate aus abgeschiedenem Silicium- karbid oder Be/Be mit einem Durchmesser oder einer Hauptachsenlänge grösser als 300 mm; e. optisches Glas einschliesslich geschmolzenen Quarzes, Phosphatglas, Fluorphosphatglas und Schwermetall- fluoride (ZrF4 und HfF4) mit allen folgenden Eigen- schaften:

1. einer OH-Ionen-Konzentration kleiner als 5 ppm,

2. einem Reinheitsgrad integrierter metallischer Be-

standteile besser als 1 ppm und

3. hoher Homogenität (Varianz des Brechungsindex)

kleiner als 5 × 10–6; f. synthetische Diamanten mit einer Absorption kleiner als 10–5 cm–1 bei einer Wellenlänge grösser als 200 nm und kleiner/gleich 14 000 nm. 6C005 Laser A.4 frei (W) Synthetisches kristallines Grundmaterial für Laser in nicht T: 5000 einbaufertiger Form wie folgt: a. titandotierte Saphire; b. Alexandrit.

6D Datenverarbeitungsprogramme (Software) 6D001 Software, besonders entwickelt für die Entwicklung oder A.4 OGB (W, M) Herstellung der von Nummer 6A004, 6A005, 6A008 T: keine oder 6B008 erfassten Ausrüstung. 6D002 Software, besonders entwickelt für die Verwendung der A.4 OGB (W, M) von Unternummer 6A002b, Nummer 6A008 oder 6B008 T: keine erfassten Ausrüstung. 6D003 Software wie folgt: A.4 OGB (W) a. Akustik T: keine

1. Software, besonders entwickelt zur Formung akusti-

scher Keulen zur Echtzeitverarbeitung akustischer Daten für den passiven Empfang unter Verwendung von Schlepp-Hydrophonanordnungen,

2. Quellcode zur Echtzeitverarbeitung akustischer Daten

für den passiven Empfang unter Verwendung von Schlepp-Hydrophonanordnungen,

3. Software, besonders entwickelt zur Formung akusti-

scher Keulen für die Echtzeitverarbeitung akustischer Daten für den passiven Empfang unter Verwendung von Flachwasser-Messkabelsystemen (bottom or bay cable systems),

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4. Quellcode zur Echtzeitverarbeitung akustischer Daten

für den passiven Empfang unter Verwendung von Flachwasser-Messkabelsystemen (bottom or bay cable systems). b. Magnetometer A.4 frei

1. Software, besonders entwickelt für Magnetfeld- T: keine

Kompensationssysteme für Magnetfeld-Sensoren, entwickelt für den Betrieb auf mobilen Plattformen,

2. Software, besonders entwickelt für die Erkennung

magnetischer Anomalien auf mobilen Plattformen; c. Gravimeter A.4 frei Software, besonders entwickelt zur Korrektur von Be- T: keine wegungseinflüssen auf Schwerkraftmesser oder Schwer- kraftgradientenmesser; d. Radar A.4 frei

1. Software (Anwendungsprogramme) für Flugsiche- T: keine

rungszwecke, die auf Universalrechnern in Flugsiche- rungszentralen verwendet wird und über eine der fol- genden Funktionen verfügt: a. Möglichkeit zur gleichzeitigen Verarbeitung und Darstellung von mehr als 150 Systemzieldaten oder b. Möglichkeit zur Übernahme von Radarzieldaten von mehr als vier Primärradarsystemen,

2. Software für die Konstruktion oder Herstellung von

Antennenkuppeln (Radome), die a. besonders konstruiert sind zum Schutz der von Unternummer 6A008e erfassten Antennen mit elektronisch phasengesteuerten Antennengruppen und b. ein Antennen-Strahlungsdiagramm erzielen, bei dem der «mittlere Nebenkeulenpegel» mehr als

40 dB unter dem Spitzenwert des Hauptkeulen-

pegels liegt. Technische Anmerkung: Der «mittlere Nebenkeulenpegel» in Unternummer 6D003d2b wird über die gesamte Gruppe gemessen, wo- bei der Winkelbereich, der durch die Hauptkeule und die ersten beiden Nebenkeulen auf jeder Seite der Hauptkeule gebildet wird, ausgenommen ist. 6D102 Software, ausschliesslich entwickelt für die Verwendung A.4 OGB (M) der von Nummer 6A108 erfassten Waren. T: keine 6D103 Software für die Verarbeitung von Daten, die während A.4 OGB (M) des Fluges aufgezeichnet und durch von Unternummer T: keine 6A108b erfasste Systeme gewonnen wurden, zur nach- träglichen Bestimmung der Position eines Flugkörpers auf seiner Flugbahn.

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6E Technologie 6E001 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W, M) gie-Anmerkung für die Entwicklung von Ausrüstung, T: keine (N) Werkstoffen oder Software, die von Nummer 6A, 6B, 6C oder 6D erfasst werden. 6E002 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W, M) gie-Anmerkung für die Herstellung von Ausrüstung T: keine fasst werden. 6E003 Technologie wie folgt: A.4 frei (W) a. 1. Technologie für die optische Beschichtung und T: keine Oberflächenbehandlung, die erforderlich ist, um für optische Beschichtungen von Gegenständen mit ei- nem Durchmesser oder einer Hauptachsenlänge grösser/gleich 500 mm eine Gleichförmigkeit besser/gleich 99,5% und einen Gesamtverlust (durch Absorption und Streuung) kleiner als 5 × 10–3 zu erreichen, Anmerkung: Siehe auch Unternummer 2E003f.

2. Technologie für die Herstellung optischer Gegenstän-

de mit Verfahren zum Einpunkt-Diamantdrehen (SPDT, Single-Point Diamond Turning), mit denen auf nichtplanaren Oberflächen mit einer Fläche von mehr als 0,5 m² effektive Oberflächengenauigkeiten von besser als 10 nm rms erreicht werden; b. Technologie, die unverzichtbar ist für die Entwicklung, Herstellung oder Verwendung besonders entwickelter Diagnosegeräte oder Targets in Einrichtungen zum Testen von Super-High Power Lasern (SHPL) oder zum Testen oder Auswerten von durch SHPL-Strahlen be- strahlten Werkstoffen; c. Technologie, die unverzichtbar ist für die Entwicklung oder Herstellung von Luftspalt-Magnetometern (fluxgate magnetometers) oder Luftspalt-Magnetometer- Systemen mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Rauschpegel kleiner (besser) als 50 pTrms/√ Hz bei

Frequenzen kleiner als 1 Hz oder

2. Rauschpegel kleiner (besser) als 1 pTrms/√ Hz bei

Frequenzen grösser/gleich 1 Hz.

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6E101 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (M) gie-Anmerkung für die Verwendung von Ausrüstung T: keine oder Software, die von Nummer 6A002, Unternummer Anmerkung: Nummer 6E101 erfasst Technologie für Ausrüstung, die von Nummer 6A008 erfasst wird, nur sofern sie für Anwendungen in Luftfahrzeugen entwickelt wurde und in Flugkörpern verwendet werden kann. 6E201 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (N) gie-Anmerkung für die Verwendung von Ausrüstung, T: keine erfasst von Nummer 6A003, Unternummer 6A005a1c,

7 Luftfahrzeuge, Luftfahrtelektronik und

Navigation 7A Systeme, Ausrüstung und Bestandteile Anmerkungen:

1. Autopiloten für Unterwasserfahrzeuge: Siehe Kategorie 8. Ra-

dargeräte: Siehe Kategorie 6.

2. Trägheitsnavigationsgeräte für Schiffe oder Tauchfahrzeuge:

Siehe Anhang 3. 7A001 Beschleunigungsmesser, konstruiert für den Einsatz in A.4 OGB (W, M) Trägheitsnavigationssystemen oder Lenksystemen, mit T: 1000 einer der folgenden Eigenschaften und besonders kon- struierte Bestandteile hierfür: Anmerkung: Siehe auch Nummer 7A101. a. Nullpunkt-Stabilität (bias stability) kleiner (besser) als

130 µg* über ein Jahr, bezogen auf einen festen Kali-

brierwert, b. Stabilität des Skalierungsfaktors kleiner (besser) als

130 ppm über ein Jahr, bezogen auf einen festen Kalib-

rierwert oder c. spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungs- werten grösser als 100 g*. 7A002 Kreisel mit einer der folgenden Eigenschaften und be- A.4 OGB (W, M) sonders konstruierte Bestandteile hierfür: T: 1000 Anmerkung: Siehe auch Nummer 7A102.

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a. Stabilität der Driftrate, gemessen in einer 1 g*-Um- gebung über einen Zeitraum von drei Monaten bezogen auf einen festen Kalibrierwert, von:

1. kleiner (besser) als 0,1°/h, spezifiziert zum Betrieb bei

linearen Beschleunigungspegeln kleiner als 10 g* oder

2. kleiner (besser) als 0,5°/h, spezifiziert zum Betrieb bei

linearen Beschleunigungspegeln im Bereich von 10 g* bis 100 g* oder b. spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungs- werten grösser als 100 g*. 7A003 Trägheitsnavigationssysteme (kardanisch oder A.4 OGB (W, M) «strapdown») und Trägheitsgeräte, konstruiert für La- T: 1000 geregelung, Lenkung oder Steuerung von Luftfahrzeu- gen, Land- oder Raumfahrzeugen, mit einer der folgen- den Eigenschaften und besonders konstruierte Bestand- teile hierfür: Anmerkung: Siehe auch Nummer 7A103. a. Navigationsfehler (trägheitsfrei) kleiner/gleich 0,8 nauti- sche Meilen/h (CEP-Wert [Circular Error Probable] von

50 %) nach normaler Ausrichtung oder

Anmerkung: Die in Unternummer 7A003a genannten Parameter müssen unter einer der folgenden Umgebungsbedingungen einge- halten werden:

1. Zufallsverteilte Vibration (input random vibration) mit einer

Gesamtstärke von 7,7 g* rms in der ersten halben Stunde und einer Gesamttestzeit von 1,5 Stunden in allen drei Ach- sen mit folgenden Schwingungseigenschaften: a. Konstante spektrale Leistungsdichte (power spectral den- sity, PSD) von 0,04 g2/Hz im Frequenzbereich 15 Hz bis

1000 Hz und

b. Spektrale Leistungsdichte von 0,04 g2/Hz bei 1000 Hz auf 0,01 g2/Hz bei 2000 Hz abfallend oder

2. Roll- und Gierrate grösser/gleich 2,62 rad/s (150°/s) oder

3. Nationale Prüfbedingungen equivalent den in 1. und 2. be-

schriebenen Bedingungen. b. spezifiziert zum Betrieb bei linearen Beschleunigungs- werten grösser als 10 g*. Anmerkung: Nummer 7A003 erfasst keine Trägheitsnavigationssysteme, die für den Einsatz in zivilen Luftfahrzeugen von einer Zivilluftfahrtbe- hörde in einem Teilnehmerstaat zugelassen sind.

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7A004 Astro-Kreiselkompasse und andere Vorrichtungen, die A.4 OGB (W, M) Position oder Orientierung durch automatisches Verfol- T: 1000 gen von Himmelskörpern oder Satelliten bestimmen, mit einer Azimutgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 5 Bogen- sekunden. Anmerkung: Siehe auch Nummer 7A104. 7A005 Empfangseinrichtungen für weltweite Satelliten- A.4 OGB (W, M) Navigationssysteme (GPS oder GLONASS), mit einer T: 1000 der folgenden Eigenschaften, und besonders kon- struierte Bestandteile hierfür: Anmerkung: Siehe auch Nummer 7A105. a. Verwendung von Entschlüsselungsverfahren oder b. Verwendung einer null-steuernden (null-steerable) An- tenne. 7A006 Luftfahrzeughöhenmesser mit Betriebsfrequenzen A.4 OGB (W, M) ausserhalb des Frequenzbereichs von 4,2 bis 4,4 GHz T: 1000 und mit einer der folgenden Eigenschaften: Anmerkung: Siehe auch Nummer 7A106. a. Leistungsmanagement oder b. Anwendung von Phasensprungmodulation (PSK). 7A007 Funkpeilgeräte mit Betriebsfrequenzen über 30 MHz A.4 frei (W) und mit allen folgenden Eigenschaften und besonders T: 5000 konstruierte Bestandteile hierfür: a. Momentan-Bandbreite grösser/gleich 1 MHz, b. Parallele Verarbeitung von mehr als 100 Frequenzkanä- len und c. Verarbeitungsgeschwindigkeit von mehr als 1000 Funk- peilwerten pro Sekunde und pro Frequenzkanal. 7A099 Luftfahrzeuge, besonders konstruiert oder abgeändert A.4 OGB (W) für militärische Ausbildung, die über höchstens zwei T: 5000 Aufhängepunkte verfügen sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür. 7A101 Beschleunigungsmesser, die nicht von Nummer 7A001 A.4 OGB (M) erfasst werden, konstruiert für den Einsatz in Träg- T: 1000 heitsnavigationsystemen oder Lenksystemen jeder Art, mit einem Ansprechschwellwert kleiner/gleich 0,05 g* oder einem Linearitätsfehler innerhalb von 0,25% des vollen Messbereichs, und ausschliesslich konstruierte Bestandteile hierfür.

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Anmerkung: Nummer 7A101 erfasst nicht für Arbeiten an Bohrlöchern be- stimmte Beschleunigungsmesser, konstruiert als Sensoren zur Messung während des Bohrvorgangs. 7A102 Jede Art von Kreiseln, die nicht von Nummer 7A002 er- A.4 OGB (M) fasst werden, geeignet für Flugkörper mit einer Nenn- T: 1000 Stabilität der Driftrate kleiner (besser) als 0,5°/h (1 Sig- ma oder rms) in einer 1 g* Umgebung und ausschliess- lich konstruierte Bestandteile hierfür. 7A103 Navigationsausrüstung und -systeme, die nicht von A.4 OGB (M) Nummer 7A003 erfasst werden, wie folgt, sowie aus- T: 1000 schliesslich konstruierte Bestandteile hierfür: a. Trägheits- oder sonstige Geräte, die von Nummer gungsmesser oder Kreisel verwenden, und Systeme, in denen solche Geräte eingebaut sind; Anmerkung: Unternummer 7A103a erfasst keine Ausrüstung, die von Nummer 7A001 erfasste Beschleunigungsmesser enthält, sofern diese Beschleunigungsmesser für Arbeiten an Bohrlöchern be- stimmt und als MWD (Measurement While Drilling)-Sensoren zur Messung während des Bohrvorgangs besonders konstruiert sind. b. Integrierte Fluginstrumentensysteme, die Stabilisie- rungskreisel oder Autopiloten enthalten, konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 er- fassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfass- ten Höhenforschungsraketen. 7A104 Astro-Kreiselkompasse und andere Vorrichtungen, die A.4 OGB (M) nicht von Nummer 7A004 erfasst werden, die Position T: 1000 oder Orientierung durch automatisches Verfolgen von Himmelskörpern oder Satelliten bestimmen, sowie aus- schliesslich konstruierte Bestandteile hierfür. (M) tioning System) oder ähnliche Satellitenempfangsein- T: 1000 richtungen, die nicht von Nummer 7A005 erfasst wer- den, konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen, die Navigationsdaten unter allen folgenden Betriebsbedin- gungen ermitteln: a. bei Geschwindigkeiten über 515 m/s und b. in Höhen über 18 km.

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7A106 Höhenmesser, die nicht von Nummer 7A006 erfasst A.4 OGB (M) werden, die nach dem Radar- oder Laser-Radarprinzip T: 1000 arbeiten, konstruiert oder geändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen. 7A115 Passive Sensoren zur Ermittlung von Peilwinkeln zu A.4 OGB (M) spezifischen elektromagnetischen Quellen (Peilgeräte) T: 1000 oder Geländecharakteristiken, konstruiert oder geän- dert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Hö- henforschungsraketen. Anmerkung: Nummer 7A115 schliesst Sensoren für folgende Ausrüstung ein: a. Ausrüstung für die Darstellung von Geländekonturen, b. Bildsensorausrüstung, c. Interferometerausrüstung. 7A116 Flugsteuerungssysteme wie folgt, konstruiert oder ge- A.4 OGB (M) ändert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfass- T: 1000 ten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen: a. Hydraulische, mechanische, optronische oder elektrome- chanische Flugsteuerungssysteme einschliesslich «fly- by-wire»-Systemen; b. Ausrüstung zur Fluglageregelung. 7A117 Steuerungssysteme, geeignet für Flugkörper, mit einer A.4 OGB (M) erreichbaren Systemgenauigkeit kleiner/gleich 3,33% T: 1000 der Reichweite (z. B. ein CEP-Wert kleiner/gleich 10 km bei einer Reichweite von 300 km). 7B Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen 7B001 Prüf-, Kalibrier- oder Justiereinrichtungen, besonders A.4 OGB (W, M) konstruiert für die von Nummer 7A erfasste Ausrüs- T: 1000 tung. Anmerkung: Nummer 7B001 erfasst nicht Ausrüstung für Wartung und In- spektion der Instandhaltungsstufe I oder der Instandhaltungsstu- fe II. Technische Anmerkungen:

1. Instandhaltungsstufe I:

Der Ausfall einer Einheit eines Trägheitsnavigationssystems wird im Luftfahrzeug durch entsprechende Anzeigen an der Überwachungs- und Anzeigeeinheit oder durch Statusmeldun- gen vom entsprechenden Subsystem gemeldet. Anhand des Wartungshandbuchs kann die Ausfallursache bis auf die Ebene der defekten auswechselbaren Einheit (LRU) lokalisiert wer- den. Die defekte LRU wird dann vom Bedienpersonal ausge- wechselt.

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2. Instandhaltungsstufe II:

Die defekte LRU wird an die Reparaturwerkstatt (die des Her- stellers oder die der für die Durchführung der Instandhaltungs- stufe II zuständigen Stelle) geschickt. Dort wird die defekte LRU mit entsprechenden Hilfsmitteln geprüft, um die für den Ausfall verantwortliche wechselbare Baugruppe (SRA) zu lo- kalisieren. Die defekte SRA wird anschliessend durch eine funktionierende Einheit ersetzt. Die defekte SRA (oder auch die komplette LRU) wird dann zur Instandsetzung an den Herstel- ler eingesandt. Ergänzende Anmerkung: Wartung der Instandhaltungsstufe II schliesst nicht den Ausbau erfasster Beschleunigungsmesser oder Kreiselsensoren aus einer SRA ein. 7B002 Ausrüstung wie folgt, besonders konstruiert für die A.4 OGB (W, M) Charakterisierung von Spiegeln für Ringlaser-Kreisel: T: 1000 Anmerkung: Siehe auch Nummer 7B102. a. Streustrahlungsmesser mit einer Messgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 10 ppm; b. Profilmesser mit einer Messgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 0,5 nm. 7B003 Einrichtungen, besonders konstruiert für die Herstel- A.4 OGB (W, M) lung der von Nummer 7A erfassten Ausrüstung. T: 1000 Anmerkung: Nummer 7B003 schliesst folgende Ausrüstung ein: a. Prüfstände für Kreiselabstimmung, b. dynamische Auswuchtvorrichtungen für Kreisel, c. Kreisel-Einlaufprüfstände und -Motorprüfstände, d. Vorrichtungen zum Evakuieren und Füllen von Kreiseln, e. Zentrifugalvorrichtungen für Kreisellager, f. Einrichtungen für die Achsenjustierungen von Beschleuni- gungsmessern. 7B102 Reflektometer, ausschliesslich konstruiert zur Charak- A.4 OGB (M) terisierung von Spiegeln für Ringlaser-Kreisel, mit einer T: 1000 Messgenauigkeit kleiner (besser)/gleich 50 ppm. 7B103 Herstellungsanlagen, ausschliesslich konstruiert für die A.4 OGB (M) Herstellung der von Nummer 7A117 erfassten Steue- T: 1000 rungssysteme.

7C Werkstoffe und Materialien nicht belegt

7D Datenverarbeitungsprogramme (Software) 7D001 Software, besonders entwickelt oder geändert für die A.4 OGB (W, M) Entwicklung oder Herstellung der von Nummer 7A oder T: keine 7B erfassten Ausrüstung.

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7D002 Software (nur Quellcode) für die Verwendung aller A.4 OGB (W, M) Trägheitsnavigationssysteme, einschliesslich Trägheits- T: keine nicht erfasst werden, sowie für Fluglage- und Steuer- kursreferenzsysteme (AHRS-Systeme). Anmerkung: Nummer 7D002 erfasst nicht Quellcode für die Verwendung kar- danisch aufgehängter AHRS. Technische Anmerkung: AHRS unterscheidet sich im Allgemeinen von Trägheitsnavigati- onssystemen (INS) dadurch, dass AHRS die Fluglageinformatio- nen liefert, aber normalerweise nicht die bei INS üblichen Infor- mationen über Beschleunigung, Geschwindigkeit und Position. 7D003 Software wie folgt: (W) a. Software, besonders entwickelt oder geändert zur Ver- A.4 OGB besserung des Betriebsverhaltens oder zur Verringerung T: keine des Navigationsfehlers von Systemen auf die in Nummer b. Software (nur Quellcode) für hybride integrierte Syste- A.4 OGB me, die das Betriebsverhalten von Systemen verbessern T: keine oder deren Navigations-Genauigkeit auf den in Nummer 7A003 spezifizierten Wert erhöhen, indem kontinuier- lich Trägheitsnavigationsdaten mit einer Art der folgen- den Navigationsdaten kombiniert werden:

1. Geschwindigkeitsdaten von Doppler-Radarsystemen,

2. Referenzdaten von weltweiten Satelliten-

Navigationssystemen (GPS oder GLONASS) oder

3. Datenbanken mit Geländedaten;

c. Software (nur Quellcode) für integrierte Luftfahrt- A.4 OGB elektronik- oder Flugkontrollsysteme, die Sensordaten T: keine kombinieren und wissensbasierte Expertensysteme ver- wenden; d. Software (nur Quellcode) für die Entwicklung von: A.4 OGB

1. digitalen Flugsteuerungssystemen zur vollautomati- T: keine

schen Regelung eines Fluges,

2. integrierten Antriebs- und Flugregelsystemen,

3. Flugregelsystemen mit drahtgebundener («fly-by-

wire») oder lichtleitergebundener («fly-by-light») Steuerung,

4. fehlertoleranten oder selbstrekonfigurierenden aktiven

Flugsteuerungssystemen,

5. automatischen Luftfahrzeugpeilanlagen,

6. Luftwertesystemen auf der Basis statischer Oberflä-

chenwerte oder

7. nach dem Rasterverfahren arbeitenden «Head-up-

displays» oder dreidimensionalen Anzeigen;

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e. Software für den computergestützten Entwurf (CAD), A.4 frei besonders entwickelt für die Entwicklung von aktiven T: keine Flugsteuerungssystemen, mehrachsigen drahtgebunde- nen («fly-by-wire») oder lichtleitergebundenen («fly-by- light») Hubschraubersteuerungen oder Drehmomentaus- gleichs- oder Richtungssteuerungssystemen mit regelba- rer Zirkulation, deren Technologie von Unternummer 7D101 Software, ausschliesslich entwickelt für die Verwendung A.4 OGB rüstung. 7D102 Software für die Integration der von Nummer 7A003 A.4 OGB (M) oder 7A103 erfassten Ausrüstung T: keine (Integrationssoftware). 7D103 Software, ausschliesslich entwickelt für die Modelldar- A.4 OGB (M) stellung oder Simulation von Steuerungssystemen, die T: keine von Nummer 7A117 erfasst werden, oder für deren In- tegrationsplanung in von Nummer 9A004 erfasste Trä- gerraketen oder von Nummer 9A104 erfasste Höhenfor- schungsraketen. Anmerkung: Von Nummer 7D103 erfasste Software bleibt erfasst, wenn sie mit der von Nummer 4A102 erfassten Hardwareausrüstung kombiniert wird.

7E Technologie 7E001 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W, M) gie-Anmerkung für die Entwicklung von Ausrüstung T: keine oder Software, die von Nummer 7A, 7B oder 7D erfasst wird. 7E002 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W, M) gie-Anmerkung für die Herstellung von Ausrüstung, die T: keine 7E003 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W, M) gie-Anmerkung für die Reparatur, Überholung oder T: keine Wartung von Ausrüstung, die von den Nummern 7A001 Anmerkung: Nummer 7E003 erfasst nicht Wartungstechnologie, die in unmit- telbarem Zusammenhang mit der Kalibrierung, dem Entfernen oder dem Auswechseln beschädigter oder nicht mehr instandsetz- barer auswechselbarer Einheiten (LRU) und auswechselbarer Baugruppen (SRA) eines zivilen Luftfahrzeugs gemäss Definition in der Wartung der Instandhaltungsstufe I oder der Wartung der Instandhaltungsstufe II steht (siehe Technische Anmerkungen zu Nummer 7B001).

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7E004 Technologie wie folgt: a. Technologie für die Entwicklung oder Herstellung von: (W) 1. automatischen Luftfahrzeugpeilanlagen mit Betriebs- A.4 frei frequenzen grösser als 5 MHz, T: keine (W) 2. Luftwertesystemen, die ausschliesslich auf der Basis A.4 frei statischer Oberflächenwerte arbeiten, d. h., die kon- T: keine ventionelle Luftwertesensoren unnötig machen, (W) 3. nach dem Rasterverfahren arbeitenden «Head-up- A.4 frei displays» oder dreidimensionalen Anzeigen für Luft- T: keine fahrzeuge, (W, M) 4. Trägheitsnavigationssystemen oder Astro- A.4 OGB Kreiselkompassen, die von Nummer 7A001 oder T: keine 7A002 erfasste Beschleunigungsmesser oder Kreisel enthalten, (W) 5. elektrischen Stellmotoren (elektromechanische, A.4 frei elektrohydrostatische und in Stelleinheiten integrierte T: keine Stellmotoren), besonders konstruiert zur Hauptsteue- rung (primary flight control), (W) 6. optischen Sensor-Arrays für Flugsteuerungszwecke A.4 frei (flight control optical sensor array), besonders kon- T: keine struiert zur Realisierung von aktiven Flugsteuerungs- systemen; b. Technologie für die Entwicklung von aktiven Flugsteue- rungssystemen (einschliesslich «fly-by-wire» oder «fly- by-light») wie folgt: (W) 1. Konfigurationsentwurf für die Verknüpfung zwischen A.4 frei mehreren mikroelektronischen Datenverarbeitungs- T: keine elementen (Bordcomputern), um eine Echtzeitverar- beitung zur Durchführung der Flugregelung zu errei- chen, (W) 2. Kompensation der Flugregelung hinsichtlich Einbau- A.4 frei art der Sensoren und dynamischer Zellenbelastung, T: keine d. h. Kompensation von Schwingungen in der Umge- bung der Sensoren oder von Veränderungen der Lage der Sensoren zum Flugzeugschwerpunkt, (W) 3. elektronische Überwachung von Datenredundanz oder A.4 frei Systemredundanz für Fehlererkennung, Fehlerbewer- T: keine tung, Fehlerlokalisierung oder Neukonfiguration, Anmerkung: Unternummer 7E004b3 erfasst nicht die Technologie zur Entwicklung physikalischer (mechanischer, elektrischer, hydraulischer) Redundanz. (W) 4. Flugsteuerungen, die während des Fluges eine Neu- A.4 frei konfiguration der Widerstandsgrösse des Steuerge- T: keine fühls erlauben, um eine autonome Steuerung von Luftfahrzeugen in Echtzeit zu erreichen,

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(W, M) 5. Integration digitaler Flugregelungs-, Navigations- und A.4 OGB Antriebssteuerdaten in ein digitales Flugmanagement- T: keine system zur vollautomatischen Regelung eines Fluges. Anmerkung: Unternummer 7E004b5 erfasst nicht:

1. Technologie für die Entwicklung der Integration von di-

gitalen Flugsteuerungs-, Navigations- und Triebwerks- steuerungsdaten in ein digitales Flugmanagementsystem zur Flugwegoptimierung.

2. Technologie für die Entwicklung von Luftfahrzeug-

Fluginstrumentensystemen, die ausschliesslich für Navi- gation und Landeanflüge mit VOR, DME, ILS oder MLS integriert wurden. (W) 6. vollautomatische digitale Flugsteuerungssysteme oder A.4 frei mit mehreren Sensoren ausgerüstete vollautomatische T: keine Flugführungssysteme, die wissensgestützte Experten- systeme beinhalten; Anmerkung: Technologie für FADEC (full authority digital engine con- trol): Siehe Unternummer 9E003a9. (W) c. Technologie für die Entwicklung von Hubschrauber- A.4 frei systemen wie folgt: T: keine

1. mehrachsige «fly-by-wire»- oder «fly-by-light»-

Steuerungen für Hubschrauber, bei denen mindestens zwei der folgenden Funktionen in einem Steuerungs- element zusammengefasst sind: a. kollektive Steuerung, b. zyklische Steuerung, c. Giersteuerung,

2. Drehmomentausgleichs- oder Richtungssteuerungs-

systeme mit regelbarer Zirkulation,

3. Rotorblätter mit verstellbarer Blattprofilgeometrie,

die in Systemen mit individueller Blattansteuerung verwendet werden. 7E101 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (M) gie-Anmerkung für die Verwendung von Ausrüstung T: keine oder Software, erfasst von Nummer 7A001 bis 7A006, 7E102 Technologie zum Schutz flugelektronischer und elektri- A.4 OGB (M) scher Bauteile gegen elektromagnetische Impulse (EMP) T: keine und elektromagnetische Störungen (EMI) durch externe Quellen wie folgt: a. Entwurfstechnologie für Abschirmungsvorrichtungen; b. Entwurfstechnologie für die Auslegung von gehärteten elektrischen Schaltkreisen und gehärteten Bauteilen;

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c. Entwurfstechnologie für die Ermittlung von Härtungs- 7E104 Technologie für die Integration von Flugsteuerungs-, A.4 OGB (M) Lenk- und Antriebsdaten in ein Flugmanagement- T: keine system zur Flugbahnoptimierung.

8 Meeres- und Schiffstechnik

8A Systeme, Ausrüstung und Bestandteile 8A001 Tauchfahrzeuge und Überwasserfahrzeuge wie folgt: (W) Anmerkung: Wegen der Erfassung von Ausrüstung für Tauchfahrzeuge siehe Kategorie 5, Teil 2 – Informationssicherheit für verschlüsselte Nachrichtengeräte, Kategorie 6 für Sensoren, Kategorien 7 und 8 für Navigationsausrüstung, Nummer 8A für Unterwasseraus- rüstung. a. bemannte, gefesselte Tauchfahrzeuge, konstruiert für A.4 frei Betriebstauchtiefen grösser als 1000 m; T: 5000 b. bemannte, ungefesselte Tauchfahrzeuge mit einer der A.4 OGB folgenden Eigenschaften: T: 1000

1. konstruiert für «autonomen Betrieb» und mit allen

folgenden Eigenschaften: a. Hubkraft grösser/gleich 10% ihres Gewichts in Luft und b. Hubkraft grösser/gleich 15 kN,

2. konstruiert für den Betrieb in Wassertiefen grösser als

1000 m oder

3. mit allen folgenden Eigenschaften:

a. konstruiert für eine Besatzung grösser/gleich vier Personen, b. konstruiert für «autonomen Betrieb» grösser/gleich

10 Stunden,

c. «Reichweite» grösser/gleich 25 Nautische Meilen und d. Länge kleiner/gleich 21 m; Technische Anmerkungen:

1. Im Sinne von Unternummer 8A001b bedeutet «autonomer

Betrieb» vollständig untergetaucht, ohne Schnorchel, alle Systeme in Betrieb und mit der für die sichere dynamische Tiefensteuerung mittels Tiefenrudern geringstnötigen Ge- schwindigkeit, ohne Unterstützung durch ein Versorgungs- schiff oder eine Versorgungsbasis auf der Meeresoberfläche, dem Meeresboden oder an der Küste und mit einem An- triebssystem für den Unter- oder Überwassereinsatz.

2. Im Sinne von Unternummer 8A001b bedeutet «Reichweite»

die Hälfte der grössten Entfernung, die ein Tauchfahrzeug zurücklegen kann.

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c. unbemannte, gefesselte Tauchfahrzeuge, konstruiert für A.4 OGB den Einsatz in Tiefen grösser als 1000 m, mit einer der T: 5000 folgenden Eigenschaften:

1. konstruiert zur Bewegung mit eigenem Antrieb unter

Nutzung von Antriebsmotoren oder Strahlrudern (thrusters), die von Unternummer 8A002a² erfasst werden oder

2. mit einer Datenübertragung über Lichtwellenleiter;

d. unbemannte, ungefesselte Tauchfahrzeuge mit einer der A.4 OGB folgenden Eigenschaften: T: 1000

1. konstruiert zur Ermittlung des Kurses relativ zu einem

beliebigen geografischen Bezugspunkt ohne Echtzeit- unterstützung durch eine Bedienperson,

2. mit einer akustischen Daten- oder Steuerübertragung

oder

3. mit einem Lichtwellenleiter-Daten- oder Steuerungs-

übertragungskabel länger als 1000 m; e. Hochseebergungssysteme mit einer Hubkraft grösser als A.4 frei

5 MN zur Bergung von Objekten aus Tiefen grösser als T: 5000

250 m und mit einer der folgenden Ausrüstungen:

1. dynamische Positionierungssysteme, die es dem Fahr-

zeug ermöglichen, eine Position innerhalb von 20 m von einem Punkt zu halten, der vom Navigations- system vorgegeben wird oder

2. Systeme für die Meeresbodennavigation und für die

Integration von Navigationsdaten für Tiefen grösser als 1000 m mit einer Positionierungsgenauigkeit bis

10 m Abstand von einem vorgegebenen Punkt;

f. Oberflächeneffektfahrzeuge (vollständig mit Schürzen ausgerüstete Fahrzeuge) mit allen folgenden Eigen- schaften:

1. konzipierte Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, A.4 frei

grösser als 30 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen T: 5000 grösser/gleich 1,25 m (Seegang 3),

2. Luftkissendruck grösser als 3830 Pa und

3. Verdrängungsverhältnis des leeren zum vollbeladenen

Schiff kleiner als 0,7; g. Oberflächeneffektfahrzeuge (mit festen Seitenwänden) A.4 frei mit einer konzipierten Höchstgeschwindigkeit, voll be- T: 5000 laden, grösser als 40 Knoten bei signifikanten Wellen- höhen grösser/gleich 3,25 m (Seegang 5);

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h. Tragflügelboote mit automatisch gesteuerten aktiven A.4 frei Tragflügelsystemen mit einer konzipierten Höchstge- T: 5000 schwindigkeit, voll beladen, grösser/gleich 40 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen grösser/gleich 3,25 m (Seegang 5); i. «SWATH»-(Small Waterplane Area Twin-Hull)-Schiffe A.4 frei (Fahrzeuge mit kleiner Wasserlinienfläche) mit einer der T: 5000 folgenden Eigenschaften:

1. Verdrängung, voll beladen, grösser als 500 t mit einer

konzipierten Höchstgeschwindigkeit, voll beladen, grösser als 35 Knoten bei signifikanten Wellenhöhen grösser/gleich 3,25 m (Seegang 5) oder

2. Verdrängung, voll beladen, grösser als 1500 t mit ei-

ner konzipierten Höchstgeschwindigkeit, voll bela- den, grösser als 25 Knoten bei signifikanten Wellen- höhen grösser/gleich 4 m (Seegang 6). Technische Anmerkung: Ein «SWATH-Schiff» ist durch folgende Formel definiert: Wasserlinienfläche bei einem konzipierten Tiefgang kleiner als 2× (verdrängtes Volumen bei einem konzipierten Tief- gang)2/3. 8A002 Systeme und Ausrüstung wie folgt: (W) Anmerkung: Unterwasserkommunikationssysteme: Siehe Kategorie 5, Teil 1 – Telekommunikation. a. Systeme oder Ausrüstung, besonders konstruiert oder A.4 frei geändert für Tauchfahrzeuge, die für den Einsatz in T: 5000 Tiefen grösser als 1000 m konstruiert sind, wie folgt:

1. Druckgehäuse oder Druckkörper mit einem maxima-

len Innendurchmesser der Kammer grösser als 1,5 m,

2. Gleichstrom-Antriebsmotoren oder -Strahlruder,

3. Versorgungskabel und Steckverbinder hierfür, die mit

Lichtwellenleitern und Verstärkungselementen aus synthetischem Material ausgerüstet sind; b. Systeme, besonders konstruiert oder geändert zur auto- A.4 OGB matischen Bewegungssteuerung, für von Nummer T: 5000 8A001 erfasste Tauchfahrzeuge, die Navigationsdaten verwenden und über eine Rückkopplungs-Servo- steuerung verfügen, um

1. es dem Fahrzeug zu ermöglichen, sich innerhalb eines

Abstands von 10 m von einem vorher bestimmten Punkt in der Wassersäule zu bewegen,

2. die Position des Fahrzeugs innerhalb eines Abstands

von 10 m von einem vorher bestimmten Punkt in der Wassersäule zu halten oder

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3. die Position des Fahrzeugs innerhalb eines Abstands

von 10 m zu halten, während es einem Kabel auf oder unter dem Meeresboden folgt; c. Schiffskörper-Durchführungen oder -Steckverbinder für A.4 frei Lichtwellenleiter; T: 5000 d. Unterwasser-Beobachtungssysteme wie folgt: A.4 frei

1. Fernsehsysteme und Fernsehkameras wie folgt: T: 5000

a. Fernsehsysteme (die Kamera, Überwachungs- und Signalübertragungseinrichtungen enthalten) mit ei- ner «Grenzauflösung» von mehr als 800 Linien, gemessen in Luft, und besonders konstruiert oder geändert für ferngesteuerte Operationen mit einem Tauchfahrzeug, b. Unterwasser-Fernsehkameras mit einer «Grenzauflösung» von mehr als 1100 Linien, ge- messen in Luft, c. Restlichtverstärkende Fernsehkameras, besonders konstruiert oder geändert für den Unterwasserein- satz, mit allen folgenden Eigenschaften:

1. mit von Unternummer 6A002a2a erfassten Bild-

verstärkerröhren und

2. mit mehr als 150 000 aktiven Bildelementen pro

Halbleitersensoranordnung, Technische Anmerkung: «Grenzauflösung» bedeutet beim Fernsehen ein Mass für die horizontale Auflösung, die normalerweise ausgedrückt wird als die maximale Anzahl von Linien pro Bildhöhe, die auf einem Testbild unterschieden werden können nach IEEE- Standard 208/1960 oder einer vergleichbaren Norm.

2. Systeme, besonders konstruiert oder geändert für

ferngesteuerte Operationen mit einem Tauchfahrzeug, die Verfahren verwenden, welche die Rückstreuungs- effekte auf ein Minimum reduzieren, einschliesslich Beleuchtungseinrichtungen mit Entfernungsgattern (range-gated illuminators) oder Laser-Systemen; e. fotografische Stehbildkameras, besonders konstruiert A.4 frei oder geändert für den Unterwassereinsatz in Wassertie- T: 5000 fen grösser als 150 m, mit Filmbreiten grösser/gleich

35 mm und einer der folgenden Eigenschaften:

1. Markieren des Films mit Daten, die von einer Daten-

quelle ausserhalb der Kamera geliefert werden,

2. automatische Angleichung der Brennweite,

3. automatische Kompensationssteuerung, besonders

konstruiert für den Einsatz von Unterwasserkamera- gehäusen in Tiefen grösser als 1000 m;

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f. elektronische Abbildungssysteme, besonders konstruiert A.4 frei oder geändert für den Unterwassereinsatz, die mehr als T: 5000

50 belichtete Aufnahmen digital speichern können;

g. Beleuchtungssysteme wie folgt, besonders konstruiert A.4 frei oder geändert für den Unterwassereinsatz: T: 5000

1. Stroboskopleuchten mit einer Lichtausgangsenergie

grösser als 300 J pro Blitz und einer Blitzfolgege- schwindigkeit von mehr als 5 Blitzen pro Sekunde,

2. Argon-Bogenlampen-Systeme, besonders konstruiert

für den Einsatz in Wassertiefen grösser als 1000 m; h. Roboter, besonders konstruiert für den Unterwasserein- A.4 OGB satz, die durch einen anwendungsspezifischen, speicher- T: 5000 programmierbaren Rechner gesteuert werden, mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Einsatz von Systemen, die den Roboter mit Informa-

tionen von Sensoren steuern, welche die auf ein ex- ternes Objekt ausgeübte Kraft oder das auf ein solches Objekt ausgeübte Drehmoment, die Entfernung von einem externen Objekt oder den Tastsinn zwischen dem Roboter und einem externen Objekt messen, oder

2. fähig zur Ausübung einer Kraft grösser/gleich 250 N

oder eines Drehmoments grösser/gleich 250 Nm und mit Bauteilen versehen, die Legierungen auf Titanba- sis oder Verbundwerkstoffe aus faser- oder fadenför- migen Materialien enthalten; i. ferngesteuerte Gelenkmanipulatoren, besonders kon- A.4 frei struiert oder geändert für den Einsatz mit Tauchfahrzeu- T: 5000 gen, mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Einsatz von Systemen, die den Manipulator mit In-

formationen von Sensoren steuern, welche die auf ein externes Objekt ausgeübte Kraft oder das auf ein sol- ches Objekt ausgeübte Drehmoment oder den Tast- sinn zwischen dem Manipulator und einem externen Objekt messen oder

2. Steuerung durch proportionale Master-Slave-

Verfahren oder durch einen anwendungsspezifischen, speicherprogrammierbaren Rechner und mit grösser/gleich 5 Freiheitsgraden der Bewegung; Anmerkung: Bei der Bestimmung der Anzahl der Freiheitsgrade werden nur Funktionen mit Proportionalsteuerung gezählt, die Stel- lungsrückkoppelung oder einen anwendungsspezifischen, speicherprogrammierbaren Rechner verwenden.

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j. aussenluftunabhängige Energieversorgungsanlagen, be- A.4 OGB sonders konstruiert für Unterwassereinsatz, wie folgt: T: 5000

1. Brayton- oder Rankine-Prozess-Motoren als aussen-

luftunabhängige Energieversorgungsanlagen mit einer der folgenden Eigenschaften: a. Einsatz von chemischen Reinigungs- oder Absor- ber-Systemen, besonders konstruiert zur Beseiti- gung von Kohlendioxid, Kohlenmonoxid und Par- tikeln aus dem zurückgeführten Motorenabgas, b. Einsatz von Systemen, besonders konstruiert zur Verwendung von monoatomarem Gas, c. Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, beson- ders konstruiert zur Unterwasser- Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als

10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur

Schockdämpfung oder d. Einsatz von Systemen, besonders konstruiert

1. zur Verdichtung von Reaktionsstoffen oder zur

Reformierung von Brennstoff,

2. zum Speichern von Reaktionsstoffen und

3. zum Abführen (discharge) der Reaktionsstoffe

gegen einen Druck grösser/gleich 100 kPa,

2. Diesel-Motoren als aussenluftunabhängige Anlagen

mit allen folgenden Eigenschaften: a. Einsatz von chemischen Reinigungs- oder Absor- ber-Subsystemen, besonders konstruiert zur Besei- tigung von Kohlendioxid, Kohlenmonoxid und Partikeln aus dem umgelaufenen Motorenabgas, b. Einsatz von Systemen, besonders konstruiert zur Verwendung von monoatomarem Gas, c. Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, beson- ders konstruiert zur Unterwasser- Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als

10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur

Schockdämpfung und d. Einsatz von besonders konstruierten Abgassyste- men, die Verbrennungsprodukte nicht kontinuier- lich auslassen,

3. Brennstoffzellen zur aussenluftunabhängigen Ener-

gieerzeugung mit einer Leistung grösser als 2 kW mit einer der folgenden Eigenschaften: a. Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, beson- ders konstruiert zur Unterwasser- Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als

10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur

Schockdämpfung oder

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b. Einsatz von Systemen, besonders konstruiert

1. zur Verdichtung von Reaktionsstoffen oder zur

Reformierung von Brennstoff,

2. zum Speichern von Reaktionsstoffen und

3. zum Abführen (discharge) der Reaktionsstoffe

gegen einen Druck grösser/gleich 100 kPa,

4. Stirling-Prozess-Motoren als aussenluftunabhängige

Energieversorgungsanlagen mit allen folgenden Ei- genschaften: a. Einsatz von Einrichtungen oder Gehäusen, beson- ders konstruiert zur Unterwasser- Geräuschminderung von Frequenzen kleiner als

10 kHz, oder besonderem Befestigungszubehör zur

Schockdämpfung und b. Einsatz von besonders konstruierten Abgassyste- men zum Abführen (discharge) von Verbrennungs- produkten gegen einen Druck grösser/gleich

100 kPa;

k. flexible Schürzen, Abdichtungen und Schürzenfinger A.4 frei mit einer der folgenden Eigenschaften: T: 5000

1. konstruiert für Luftkissendrücke grösser/gleich

3830 Pa, für den Einsatz bei signifikanten Wellen-

höhen grösser/gleich 1,25 m (Seegang 3) und beson- ders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge (Fahrzeugvarianten, die voll mit Schürzen ausgerüstet sind), die von Unternummer 8A001f erfasst werden oder

2. konstruiert für Luftkissendrücke grösser/gleich

6224 Pa, für den Einsatz bei signifikanten Wellen-

höhen grösser/gleich 3,25 m (Seegang 5) und beson- ders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge (mit festen Seitenwänden), die von Unternummer 8A001g erfasst werden; l. Hubgebläse mit einer Leistung grösser als 400 kW, be- A.4 frei sonders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge, die T: 5000 von Unternummer 8A001f oder 8A001g erfasst werden; m. vollgetauchte, unterkavitierende oder superkavitierende A.4 frei Tragflügel, besonders konstruiert für Boote, die von T: 5000 Unternummer 8A001h erfasst werden; n. aktive Systeme, besonders konstruiert oder geändert für A.4 frei die automatische Steuerung der Stabilität von Fahrzeu- T: 5000 oder 8A001i erfasst werden;

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o. Propeller, Leistungsübertragungssysteme, Energieerzeu- A.4 frei gungssysteme und Geräuschminderungssysteme wie T: 5000 folgt:

1. Wasserschraubenpropeller oder Leistungsübertra-

gungssysteme wie folgt, besonders konstruiert für Oberflächeneffektfahrzeuge (sowohl mit Schürzen als auch mit festen Seitenwänden), Tragflügelboote oder SWATH-(Small Waterplane Area Twin-Hull)-Schiffe, 8A001i erfasst werden: a. superkavitierende, superbelüftete, teilgetauchte oder die Oberfläche durchstossende Propeller mit einer Leistung grösser als 7,5 MW, b. gegenläufige Propellersysteme mit einer Leistung grösser als 15 MW, c. Systeme mit Anwendung von Pre-Swirl- oder Post- Swirl-Techniken zur Glättung der Propelleranströ- mung, d. Hochleistungsuntersetzungsgetriebe in Leichtbauweise (K-Faktor grösser als 300), e. Leistungsübertragungs-Wellensysteme für Übertra- gungsleistungen von mehr als 1 MW, die Bestand- teile aus Verbundwerkstoff enthalten,

2. Wasserschraubenpropeller, Energieerzeugungssyste- A.4 frei

me oder -übertragungssysteme, konstruiert für den T: 5000 Einsatz auf Schiffen, wie folgt: a. Verstellpropeller und Nabenbaugruppen mit einer Leistung grösser als 30 MW, b. innenflüssigkeitsgekühlte elektrische Antriebsma- schinen mit einer Ausgangsleistung grösser als 2,5 MW, c. elektrische Antriebsmaschinen mit Supraleitung oder Permanentmagneten mit einer Leistung grösser als 0,1 MW, d. Leistungsübertragungs-Wellensysteme mit einer Übertragungsleistung grösser als 2 MW, die Be- standteile aus Verbundwerkstoff enthalten, e. belüftete oder basisbelüftete Propellersysteme mit einer Leistung grösser als 2,5 MW,

3. Geräuschminderungssysteme, konstruiert für den Ein- A.4 OGB

satz auf Schiffen grösser/gleich 1000 Tonnen Wasser- T: 1000 verdrängung, wie folgt: a. Geräuschminderungssysteme, die bei Frequenzen kleiner als 500 Hz dämpfend wirken und aus zusam- mengesetzten, schalldämpfenden Halterungen für die akustische Isolation von Dieselmotoren,

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Dieselgeneratorsets, Gasturbinen, Gasturbinen- Generatorsets, Antriebsmotoren oder Antriebsun- tersetzungsgetrieben bestehen, besonders konstru- iert für die Isolierung gegen Schall oder Vibration, mit einer Zwischenmasse grösser als 30% der Mas- se der Ausrüstung, die darauf montiert werden soll, b. aktive Geräuschminderungs- oder -tilgungs- Systeme oder Magnetlager, besonders konstruiert für Leistungübertragungssysteme, die elektronische Steuerungen enthalten, welche aktiv die Vibration der Ausrüstung durch die Erzeugung von Anti- Geräusch- oder Anti-Vibrationssignalen direkt an der Entstehungsstelle verringern können; p. Wasserstrahlantriebssysteme mit einer Leistung grösser A.4 OGB als 2,5 MW, die divergierende Düsen und strömungsbe- T: 5000 einflussende Leitschaufeln ausnutzen, um die Antriebs- wirkung zu verstärken oder die durch den Antrieb er- zeugten, unter Wasser ausgestrahlten Geräusche zu ver- mindern; q. Unabhängige Tauch- der Unterwasserschwimmgeräte A.4 frei mit geschlossener oder halbgeschlossener Atemlufter- T: 5000 neuerung.

8B Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen 8B001 Wasserumlauftanks (water tunnels) mit einem Hinter- A.4 frei (W) grundgeräuschpegel kleiner als 100 dB (bezogen auf T: 5000

1 Pa, 1 Hz) im Frequenzbereich von 0 bis 500 Hz, kon-

struiert für die Messung akustischer Felder, die durch die Wasserströmung um Modelle von Antriebssystemen erzeugt werden.

8C Werkstoffe und Materialien 8C001 «Syntaktischer Schaum», konstruiert für den Einsatz A.4 frei (W) unter Wasser, mit allen folgenden Eigenschaften: T: 5000 a. konstruiert für Wassertiefen grösser als 1000 m und b. mit einer Dichte kleiner als 561 kg/m3. Technische Anmerkung: «Syntaktischer Schaum» besteht aus Hohlkugeln aus Kunststoff oder Glas, die in eine Harzmatrix eingebettet sind.

8D Datenverarbeitungsprogramme (Software) 8D001 Software, besonders entwickelt oder geändert für die A.4 OGB (W) Entwicklung, Herstellung oder Verwendung der von T: keine Nummer 8A, 8B oder 8C erfassten Ausrüstung oder Werkstoffe.

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8D002 Spezifische Software, besonders entwickelt oder geän- A.4 OGB (W) dert für die Entwicklung, Herstellung, Reparatur, T: keine Überholung oder Wiederaufarbeitung (remachining) von Propellern, besonders konstruiert für die Geräusch- minderung unter Wasser. 8E Technologie 8E001 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W) gie-Anmerkung für die Entwicklung oder Herstellung T: keine von Ausrüstung oder Werkstoffen, die von Nummer 8A, 8E002 Technologie wie folgt: (W) a. Technologie für die Entwicklung, Herstellung, Repara- A.4 OGB tur, Überholung oder Wiederaufarbeitung (remachining) T: keine von Propellern, besonders konstruiert für die Geräusch- minderung unter Wasser; b. Technologie für die Überholung oder Wiederaufarbei- A.4 frei tung von Ausrüstung, die von Nummer 8A001, Unter- T: keine wird.

9 Antriebssysteme, Raumfahrzeuge

und zugehörige Ausrüstung 9A Systeme, Ausrüstung und Bestandteile Anmerkung: Gegen Neutronenstrahlung oder kurzzeitige ionisierende Strahlung konstruierte oder ausgelegte Antriebssysteme: Siehe Anhang 3. 9A001 Gasturbinenflugtriebwerke, die von Unternummer A.4 OGB (W, M) 9E003a erfasste Technologien enthalten, wie folgt: T: 5000 Anmerkung: Siehe auch Nummer 9A101. a. nicht zugelassen für die spezifischen Zivilluftfahrzeuge, für die sie bestimmt sind; b. zur zivilen Verwendung von keiner Zivilluftfahrtbehörde eines Teilnehmerstaates zugelassen; c. entwickelt für Reisegeschwindigkeiten grösser als Mach 1,2 für mehr als 30 Minuten.

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9A002 «Schiffsgasturbinen» mit einer ISO- A.4 frei (W) Standardnennleistung bei Dauerbetrieb grösser/gleich T: 5000

24 245 kW und einem spezifischen Kraftstoffverbrauch

kleiner als 0,219 kg/kWh in jedem Punkt des Leistungs- bereichs von 35% bis 100%, sowie besonders entwickel- te Baugruppen und Bestandteile hierfür. Anmerkung: Der Begriff «Schiffsgasturbinen» schliesst diejenigen Industrie- gasturbinen oder aus Flugtriebwerken abgeleiteten Gasturbinen ein, die für den Schiffsantrieb oder die Stromerzeugung an Bord angepasst wurden. 9A003 Besonders entwickelte Baugruppen und Bestandteile, A.4 frei (W) die von Unternummer 9E003a erfasste Technologien T: 5000 enthalten, für folgende Gasturbinenantriebssysteme: a. erfasst von Nummer 9A001; b. entwicklungs- oder fertigungsmässige Herkunft ist ent- weder ein Nicht-Teilnehmerstaat oder dem Hersteller unbekannt. 9A004 Trägerraketen (für Raumfahrzeuge) oder Raumfahr- A.4 OGB (W, M) zeuge. T: 5000 Anmerkung:

1. Nummer 9A004 erfasst nicht Nutzlasten.

2. Zum Erfassungsstatus von Erzeugnissen, die in den Nutzlasten

von Raumfahrzeugen enthalten sind: Siehe die zutreffenden Kategorien. Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Nummer 9A104. 9A005 Flüssigkeitsraketenantriebssysteme, die eines der von A.4 OGB (W, M) Nummer 9A006 erfassten Systeme oder Bestandteile T: 5000 enthalten. Anmerkung: Siehe auch Nummern 9A105 und 9A119. 9A006 Systeme und Bestandteile, besonders konstruiert für Flüssigkeitsraketenantriebssysteme, wie folgt: Anmerkung: Siehe auch Nummern 9A106 und 9A108. (W) a. Kryogenkühler, Leichtbau-Dewar-Gefässe, kryogene A.4 frei Wärmeleitrohre oder kryogene Systeme, besonders kon- T: 5000 struiert zur Verwendung in Trägerraketen, die Verluste an kryogener Flüssigkeit auf weniger als 30% pro Jahr beschränken können; (W) b. kryogene Behälter oder Tiefkühlsysteme mit geschlosse- A.4 frei nem Kreislauf, die Temperaturen kleiner/gleich 100 K T: 5000 (–173 °C) aufrechterhalten können, für Luftfahrzeuge mit Dauerfluggeschwindigkeiten grösser als Mach 3, Trägerraketen oder Raumfahrzeuge; (W) c. Lager- oder Umfüllsysteme für pastenförmigen Wasser- A.4 frei stoff (slush hydrogen); T: 5000

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(W, M) d. Hochdruckturbopumpen (über 17,5 MPa), Pumpenbe- A.4 OGB standteile oder zugehörige Gaserzeuger- oder Antriebs- T: 5000 systeme der Entspannungsturbine; (W, M) e. Hochdruckbrennkammern (über 10,6 MPa) und zugehö- A.4 OGB rige Düsen; T: 5000 (W) f. Treibstofflagersysteme, die mit dem Prinzip der kapilla- A.4 frei ren Einlagerung oder der Druckförderung mit elasti- T: 5000 schen Bälgen (positive expulsion) arbeiten; (W) g. Einspritzdüsen für flüssige Treibstoffe mit einer Aus- A.4 frei trittsöffnung kleiner als 0,381 mm im Durchmesser T: 5000 (bzw. mit einer Fläche kleiner als 1,14 × 10–3 cm² für nicht kreisförmige Austrittsöffnungen), besonders kon- struiert für Flüssigkeitsraketenantriebssysteme; (W) h. aus einem Stück gefertigte Brennkammern oder Aus- A.4 frei trittsdüsen aus kohlenstofffaserverstärktem Kohlenstoff T: 5000 mit einer Dichte grösser als 1,4 g/cm3 und einer Zug- festigkeit grösser als 48 MPa. 9A007 Feststoffraketenantriebssysteme mit einer der folgenden A.4 OGB (W, M) Eigenschaften: T: 1000 Anmerkung: Siehe auch Nummer 9A119. a. Gesamtimpuls grösser als 1,1 MNs, b. massenspezifischer Impuls grösser/gleich 2,4 kNs/ kg bei auf atmosphärische Bedingungen in Meereshöhe ent- spannter Düsenströmung für einen auf 7 MPa korrigier- ten Brennkammerdruck, c. Stufenmassenanteile grösser als 88% und Festtreib- stoffanteile grösser als 86%, d. mit einem der von Nummer 9A008 erfassten Bestand- teile oder e. Einsatz von Isolierungs- und Klebesystemen für Fest- treibstoffe, die eine direkt mit dem Motor verklebte Konstruktion verwenden, um eine «feste mechanische Verbindung» oder eine Sperrschicht gegen chemischen Austausch zwischen Festtreibstoff und Gehäuse- Isolationsmaterial zu gewährleisten. Technische Anmerkung: Eine «feste mechanische Verbindung» im Sinne von Unter- nummer 9A007e weist eine Haftfestigkeit von mindestens der Festigkeit des Treibstoffs auf. 9A008 Bestandteile wie folgt, besonders konstruiert für Fest- stoffraketenantriebssysteme: Anmerkung: Siehe auch Nummer 9A108.

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(W, M) a. Isolierungs- und Klebesysteme für Festtreibstoffe, die A.4 OGB Zwischenlager (liner) verwenden, um eine «feste mecha- T: 1000 nische Verbindung» oder eine Sperrschicht gegen che- mischen Austausch zwischen Festtreibstoff und Gehäu- se-Isolationsmaterial zu gewährleisten; Technische Anmerkung: Eine «feste mechanische Verbindung» im Sinne von Unter- nummer 9A008a weist eine Haftfestigkeit von mindestens der Festigkeit des Treibstoffs auf. (W, M) b. Motorgehäuse aus fasergewickeltem Verbundwerkstoff mit A.4 OGB einem Durchmesser grösser als 0,61 m oder einem T: 1000 «strukturellen Wirkungsgrad (PV/W)» grösser als 25 km; Technische Anmerkung: Der «strukturelle Wirkungsgrad (PV/W)» ist gleich dem Berstdruck (P) mal dem Behältervolumen (V) geteilt durch das Gesamtgewicht (W) des Druckbehälters. (W, M) c. Schubdüsen für den Schubbereich grösser als 45 kN A.4 OGB oder mit Düsenhalserosionsraten kleiner als 0,075 mm/s; T: 1000 (W, M) d. Schubvektorsteuersysteme mittels Schwenkdüsen oder A.4 OGB Sekundäreinspritzung, die für eines der folgenden geeig- T: 1000 net sind:

1. Bewegungen in alle Richtungen von mehr als ± 5°,

2. Winkelgeschwindigkeiten grösser/gleich 20°/s oder

3. Winkelbeschleunigungen grösser/gleich 40°/s 2.

9A009 Hybridraketenantriebssysteme mit: A.4 OGB (W, M) Anmerkung: Siehe auch Nummern 9A109 und 9A119. T: 1000 a. einem Gesamtimpuls grösser als 1,1 MNs oder b. einem Schub grösser als 220 kN bei Entspannung gegen Vakuum. 9A010 Besonders konstruierte Bestandteile, Systeme und A.4 OGB (W, M) Strukturbauteile für Trägerraketen, Trägerraketenan- T: 1000 triebssysteme oder Raumfahrzeuge wie folgt: Anmerkung: Siehe auch Nummern 1A002 und 9A110. a. Bestandteile und Strukturbauteile mit einem Gewicht grösser als 10 kg, besonders konstruiert für Trägerrake- ten, die aus von Nummer 1C007 oder 1C010 erfassten Verbundwerkstoffen mit Metall-Matrix, aus organischen Verbundwerkstoffen, aus Verbundwerkstoffen mit kera- mischer Matrix oder aus intermetallisch verstärkten Werkstoffen hergestellt sind; Anmerkung: Die Gewichtsbeschränkung ist nicht relevant für Bugspitzen.

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b. Bestandteile und Strukturbauteile, besonders konstruiert für von Nummer 9A005 bis 9A009 erfasste Trägerrake- tenantriebssysteme, die aus von Nummer 1C007 oder 1C010 erfassten Verbundwerkstoffen mit Metall-Matrix, aus organischen Verbundwerkstoffen, aus Verbundwerk- stoffen mit keramischer Matrix oder aus intermetallisch verstärkten Werkstoffen hergestellt sind; c. Strukturbestandteile und einzelne Systeme, besonders konstruiert zur aktiven Kontrolle des dynamischen Ver- haltens oder der Formänderungen von Raumfahr- zeugstrukturen; d. Gepulste Flüssigraketentriebwerke mit einem Verhältnis von Schub zu Gewicht grösser/gleich 1 kN/kg und einer Ansprechzeit (Zeit, die erforderlich ist, um 90% des Ge- samtschubs nach dem Start zu erreichen) kleiner als

30 ms.

9A011 Staustrahltriebwerke, Staustrahltriebwerke mit Über- A.4 OGB (W, M) schallverbrennung oder Triebwerke mit Kombinations- T: 1000 antrieb sowie besonders konstruierte Bestandteile hier- für. Anmerkung: Siehe auch Nummern 9A111 und 9A118. 9A101 Kleine, treibstoffeffiziente Turbojet- und Turbofan- A.4 OGB (M) Triebwerke (einschliesslich Turbo-Compound- T: 1000 Triebwerken) mit geringem Gewicht, die nicht von Nummer 9A001 erfasst werden, geeignet für Flugkör- per, wie folgt: a. Triebwerke mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Maximalschub grösser als 1000 N (erreicht in nicht

eingebautem Zustand), ausser zivil zugelassene Triebwerke mit einem Maximalschub von grösser als

8890 N (erreicht in nicht eingebautem Zustand), und

2. Spezifischer Treibstoffverbrauch kleiner/gleich

0,13 kg/N/h (Meereshöhe und Standardbedingungen) oder b. Triebwerke, konstruiert oder geändert für Flugkörper. 9A104 Höhenforschungsraketen (sounding rockets), geeignet A.4 OGB (M) für eine Reichweite von mindestens 300 km. T: 1000 Anmerkung: Siehe auch Nummer 9A004. 9A105 Flüssigkeitsraketentriebwerke wie folgt: A.4 OGB (M) Anmerkung: Siehe auch Nummer 9A119. T: 1000 a. Flüssigkeitsraketentriebwerke, die nicht von Nummer 9A005 erfasst werden, mit einem Gesamtimpuls grösser/gleich 1,1 MNs, geeignet für Flugkörper;

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b. Flüssigkeitsraketentriebwerke, die nicht von Nummer 9A005 oder Unternummer 9A105a erfasst werden, mit einem Gesamtimpuls grösser/gleich 0,841 MNs, geeig- net für vollständige Raketensysteme oder unbemannte Luftfahrzeuge mit einer Reichweite von mindestens

300 km.

9A106 Systeme oder Bestandteile, die nicht von Nummer A.4 OGB (M) 9A006 erfasst werden, geeignet für Flugkörper, wie T: 1000 folgt, ausschliesslich konstruiert für Flüssigkeits- raketenantriebssysteme: a. Auskleidungen für Brennkammern; b. Raketendüsen; c. Schubvektorsteuerungs-Subsysteme; Technische Anmerkung: Unternummer 9A106c schliesst Ausrüstung ein, die in folgen- den Verfahren zur Schubvektorsteuerung Verwendung findet:

1. flexible Düse,

2. Flüssig- oder Sekundärgaseinspritzung,

3. bewegliches Triebwerk oder bewegliche Düse,

4. Ablenkung des Abgasstroms (Strahlschaufeln oder Sonden)

oder

5. Verwendung von Schubklappen.

d. Regelungssysteme für Flüssig- oder Suspensionstreib- stoffe (einschliesslich Oxidatoren), konstruiert oder ge- ändert für den Betrieb in Vibrationsumgebungen von mehr als 10 g* rms zwischen 20 Hz und 2000 Hz sowie ausschliesslich konstruierte Bestandteile hierfür. Anmerkung: Unternummer 9A106d erfasst nur folgende Servoventile und Pumpen: a. Servoventile, konstruiert für einen Durchfluss grösser/gleich

24 l/min bei einem absoluten Druck grösser/gleich 7 MPa

und einer Stellzeit kleiner als 100 ms, b. Pumpen für Flüssigtreibstoff mit einer Drehzahl grösser/- gleich 8000 U/min oder einem Pumpendruck grösser/gleich

7 MPa.

9A107 Feststoffraketentriebwerke, die nicht von Nummer A.4 OGB (M) 9A007 erfasst werden, mit einem Gesamtimpuls T: 1000 grösser/gleich 0,841 MNs, geeignet für vollständige Ra- ketensysteme oder unbemannte Luftfahrzeuge mit einer Reichweite von mindestens 300 km. Anmerkung: Siehe auch Nummer 9A119. 9A108 Bestandteile, die nicht von Nummer 9A008 erfasst wer- A.4 OGB (M) den, geeignet für Flugkörper, wie folgt, ausschliesslich T: 1000 konstruiert für Feststoffraketenantriebssysteme:

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a. Raketenmotorgehäuse, deren Innenbeschichtung und Isolierung; b. Raketendüsen; c. Schubvektorsteuerungs-Subsysteme. Technische Anmerkung: Unternummer 9A108c schliesst Ausrüstung ein, die in folgen- den Verfahren zur Schubvektorsteuerung Verwendung findet:

1. flexible Düse,

2. Flüssig- oder Sekundärgaseinspritzung,

3. bewegliches Triebwerk oder bewegliche Düse,

4. Ablenkung des Abgasstroms (Strahlschaufeln oder Sonden)

oder

5. Verwendung von Schubklappen.

9A109 Hybridraketenmotoren, die nicht von Nummer 9A009 A.4 OGB (M) erfasst werden, geeignet für Flugkörper, sowie aus- T: 1000 schliesslich konstruierte Bestandteile hierfür. Anmerkung: Siehe auch Nummer 9A119. 9A110 Verbundwerkstoff-Strukturen, Laminate und Erzeugnis- A.4 OGB (M) se hieraus, die nicht von Nummer 9A010 erfasst werden, T: 1000 ausschliesslich konstruiert zur Verwendung in von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen, oder in Subsystemen, erfasst von Nummer 9A005, ser-Prepregs und metallbeschichtete Faser-Preforms hierfür, hergestellt aus organischer Matrix oder Me- tallmatrix unter Verwendung einer Faser- oder Faden- verstärkung mit einer spezifischen Zugfestigkeit grösser als 7,62 × 104 m und einem spezifischen Modul grösser als 3,18 × 106 m. Anmerkung: Nummer 9A110 erfasst nur harzimprägnierte Faser-Prepregs mit solchen Harzen, die nach dem Aushärten eine Glasübergangstem- peratur (Tg) von 418 K (145 °C) erreichen (bestimmt nach ASTM D 4065 oder vergleichbaren nationalen Standards). Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Nummern 1A002, 1C010 9A111 Pulsostrahltriebwerke, geeignet für Flugkörper, und A.4 OGB (M) ausschliesslich konstruierte Bestandteile hierfür. T: 1000 Anmerkung: Siehe auch Nummern 9A011 und 9A118. 9A115 Startausrüstung, konstruiert oder geändert für von A.4 OGB (M) Nummer 9A004 erfasste Trägerraketen oder von Num- T: 1000 mer 9A104 erfasste Höhenforschungsraketen, wie folgt: a. Geräte und Vorrichtungen für die Handhabung, Kon- trolle, Aktivierung oder den Start;

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b. Fahrzeuge für Transport, Handhabung, Kontrolle, Akti- vierung oder den Start. 9A116 Wiedereintrittsfahrzeuge, geeignet für Flugkörper, so- A.4 OGB (M) wie dafür konstruierte oder abgeänderte Ausrüstung T: 1000 wie folgt: a. Wiedereintrittsfahrzeuge; b. Hitzeschilde und Bestandteile hierfür, hergestellt aus Keramik oder wärmeableitendem Material; c. Kühlkörper und Bestandteile hierfür, hergestellt aus leichtem Material mit hoher Wärmekapazität; d. Elektronische Ausrüstung, ausschliesslich konstruiert für Wiedereintrittsfahrzeuge. 9A117 Stufungsmechanismen, Trennmechanismen und Stufen- A.4 OGB (M) verbindungen, geeignet für Flugkörper. T: 1000 9A118 Vorrichtungen zur Verbrennungsregelung für Trieb- A.4 OGB (M) werke, geeignet für von Nummer 9A011 oder 9A111 er- T: 1000 fasste Flugkörper. 9A119 Einzelne Raketenstufen, die nicht von Nummer 9A005, A.4 OGB den, geeignet für vollständige Raketensysteme oder un- bemannte Luftfahrzeuge mit einer Reichweite von min- destens 300 km.

9B Prüf-, Test- und Herstellungseinrichtungen 9B001 Besonders konstruierte Ausrüstung, Werkzeuge und (W) Vorrichtungen wie folgt für die Herstellung oder Ver- messung von Gasturbinenlaufschaufeln, -leitschaufeln oder gegossenen Deckbändern (tip shroud castings): a. Ausrüstung zum Giessen mit gerichteter Erstarrung oder A.4 frei mit monokristalliner Erstarrung; T: 5000 b. Keramikkerne oder -schalen; A.4 OGB T: 5000 c. Herstellungsausrüstung oder -werkzeuge für Keramik- A.4 frei kerne; T: 5000 d. Ausrüstung zum Herstellen von Wachsmodellen für Ke- A.4 frei ramikschalen. T: 5000 9B002 On-line (Echtzeit-)Überwachungssysteme, Instrumen- A.4 frei (W) tierung (einschl. Sensoren) oder Ausrüstung für die au- T: 5000 tomatische Datenerfassung und -verarbeitung, beson- ders konstruiert für die Entwicklung von Gasturbinen- triebwerken, -baugruppen oder -bestandteilen, die von Unternummer 9E003a erfasste Technologien enthalten.

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9B003 Besonders konstruierte Ausrüstung für die Herstellung A.4 frei (W) oder Prüfung von Gasturbinenbürstendichtungen, die T: 5000 für Schaufelspitzengeschwindigkeiten grösser als

335 m/s und für Betriebstemperaturen grösser als 773 K

(500 °C) ausgelegt sind, und besonders konstruierte Be- standteile oder besonders konstruiertes Zubehör hier- für. 9B004 Werkzeuge, Matrizen oder Vorrichtungen für das A.4 frei (W) Fügen im festen Zustand (solid state joining) von T: 5000 Gasturbinenbauteilen, die in Unternummer 9E003a3 oder 9E003a6 beschrieben werden, aus Superlegierun- gen, Titan oder intermetallischen Verbindungen. 9B005 On-line (Echtzeit-)-Überwachungssysteme, Instrumen- A.4 OGB (W, M) tierung (einschl. Sensoren) oder automatische Datener- T: 1000 fassungs- und -verarbeitungsgeräte, besonders konstru- iert für die Verwendung an einem der folgenden Wind- kanäle oder einer der folgenden Einrichtungen: Anmerkung: Siehe auch Nummer 9B105. a. Windkanäle für Geschwindigkeiten grösser/gleich Mach 1,2, ausgenommen, besonders für Unterrichts- zwecke konstruierte Kanäle mit einer «Abmessung des Messquerschnitts» (quer gemessen) kleiner als 250 mm, Technische Anmerkung: Unter «Abmessung des Messquerschnitts» werden in Unter- nummer 9B005a der Durchmesser des Kreises, die Seitenlänge des Quadrats oder die längste Seite des Rechtecks an der grössten Ausdehnung des Messquerschnitts verstanden. b. Einrichtungen zur Simulierung von Strömungsverhält- nissen bei Geschwindigkeiten grösser als Mach 5, ein- schliesslich Lichtbogenwindkanälen, Plasmalichtbogen- kanälen, Stosswellenrohren, Stosswellenkanälen, Gas- kanälen und Leichtgaskanonen, oder c. Windkanäle oder Einrichtungen, ausgenommen solche mit zweidimensionalen Querschnitten, mit denen Strö- mungsverhältnisse mit einer Reynoldszahl grösser als

25 × 106 simuliert werden können.

9B006 Besonders konstruierte akustische Schwingungs- A.4 OGB (W, M) prüfausrüstung, mit der Schalldruckpegel grösser/gleich T: 1000

160 dB (bezogen auf 20 µPa) mit einem Nennausgang

grösser/gleich 4 kW bei einer Prüfzellentemperatur grösser als 1273 K (1000 °C) erzeugt werden können, sowie besonders konstruierte Messwertgeber, Deh- nungsmessstreifen, Beschleunigungsmesser, Thermo- elemente oder Quarzheizelemente hierfür. Anmerkung: Siehe auch Nummer 9B106.

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9B007 Besonders konstruierte Ausrüstung zur Prüfung der In- A.4 frei (W) tegrität von Raketenmotoren mit Hilfe anderer zerstö- T: 5000 rungsfreier Prüfverfahren (ZfP) als planares Röntgen oder grundlegende physikalische oder chemische Analy- sen. 9B008 Besonders konstruierte Messwertgeber für die direkte A.4 frei (W) Messung der Wandreibung von Prüfströmungen mit ei- T: 5000 ner Staupunkttemperatur grösser als 833 K (560 °C). 9B009 Werkzeuge, besonders konstruiert für die Fertigung von A.4 frei (W) pulvermetallurgischen Turbinenrotorkomponenten, die T: 5000 bei einem Spannungsniveau grösser/gleich 60% der Zugfestigkeit und Metalltemperaturen grösser/gleich

873 K (600 °C) betrieben werden können.

9B105 Windkanäle für Strömungsgeschwindigkeiten grösser/- A.4 OGB (M) gleich Mach 0,9, geeignet für Flugkörper und deren T: 1000 Subsysteme. Anmerkung: Siehe auch Nummer 9B005. 9B106 Umweltprüfkammern und schalltote Räume wie folgt: A.4 OGB (M) a. Umweltprüfkammern für die Simulation folgender Flug- T: 1000 bedingungen:

1. Vibrationsumgebungen grösser/gleich 10 g* rms zwi-

schen 20 Hz und 2000 Hz und bei Übertragungskräf- ten grösser/gleich 5 kN und entweder

2. Höhe grösser/gleich 15 000 m oder

3. Temperaturbereich von mindestens 223 K (–50 °C)

bis 398 K (+125 °C); b. schalltote Räume für die Simulation folgender Flugbe- dingungen:

1. akustische Umgebungsbedingungen mit einem Ge-

samt-Schalldruckpegel grösser/gleich 140 dB (bezogen auf 20 µPa) oder mit einer Nennausgangs- leistung grösser/gleich 4 kW und entweder

2. Höhe grösser/gleich 15 000 m oder

3. Temperaturbereich von mindestens 223 K (–50 °C)

bis 398 K (+125 °C). 9B115 Ausschliesslich konstruierte Herstellungsausrüstung für A.4 OGB ten Systeme, Subsysteme oder Bestandteile.

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9B116 Ausschliesslich konstruierte Herstellungsanlagen für die A.4 OGB (M) von Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von T: 1000 steme, Subsysteme oder Bestandteile. 9B117 Prüfstände für den Test von Raketenmotoren oder von A.4 OGB (M) Feststoff- oder Flüssigkeitsraketen mit einer der folgen- T: 1000 den Eigenschaften: a. ausgelegt für einen Schub grösser als 90 kN oder b. gleichzeitige Messung der drei Schubkomponenten.

9C Werkstoffe und Materialien nicht belegt

9D Datenverarbeitungsprogramme (Software) 9D001 Software, besonders entwickelt oder geändert für die A.4 OGB (W, M) Entwicklung von Ausrüstung oder Technologie, die von T: keine 9D002 Software, besonders entwickelt oder geändert für die A.4 OGB (W, M) Herstellung von Ausrüstung, die von Nummer 9A oder T: keine 9B erfasst wird. 9D003 Software, besonders entwickelt oder geändert für die A.4 frei (W) Verwendung von volldigitalen Triebwerksregelungen T: keine (FADEC = Full Authority Digital Electronic Engine Control) für Antriebssysteme, die von Nummer 9A er- fasst werden, oder für Ausrüstung, die von Nummer 9B erfasst wird, wie folgt: a. Software in digitalen elektronischen Reglern für An- triebssysteme, Luft- und Raumfahrtprüfeinrichtungen oder Prüfeinrichtungen für luftatmende Flugtriebwerke; b. fehlertolerante Software, die in FADEC-Systemen für Antriebssysteme und zugehörige Prüfeinrichtungen ver- wendet wird. 9D004 Software wie folgt: (W) a. Software für zwei- oder dreidimensionale viskose Strö- A.4 OGB mung, die für die gezielte Modellierung der Triebwerk- T: keine strömung nötig und mit Windkanal- oder Flugprüfdaten validiert ist;

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(W, M) b. Software für die Prüfung von Gasturbinenflugtriebwer- A.4 OGB ken, -baugruppen oder -bestandteilen, die besonders T: keine entwickelt ist, Daten in Echtzeit zu erfassen, zu verar- beiten und zu analysieren mit während des Prüfvorgangs selbsttätiger Regelung einschliesslich dynamischer Ein- stellungen an Prüflingen oder Prüfbedingungen; (W) c. Software, besonders entwickelt für die Steuerung des A.4 OGB Vorgangs beim Giessen mit gerichteter Erstarrung und T: keine mit monokristalliner Erstarrung; (W) d. Software in der Form von Quellcode, Objektcode oder A.4 frei Maschinencode, die für die Verwendung aktiver Aus- T: keine gleichssysteme für die Spaltregelung von Laufschaufel- spitzen nötig ist. Anmerkung: Unternummer 9D004d erfasst nicht Software, die in nicht erfasster Ausrüstung integriert ist oder die für Wartungstätigkeiten im Zu- sammenhang mit der Kalibrierung, Instandsetzung oder Aktuali- sierung des aktiven Spaltregelungssystems nötig ist. 9D101 Software, ausschliesslich entwickelt für die Verwendung A.4 OGB (M) von Ausrüstung, erfasst von Nummer 9B105, 9B106, T: keine 9D103 Software, ausschliesslich entwickelt für die Modellbil- A.4 OGB (M) dung, Simulation oder Integrationsplanung der von T: keine Nummer 9A004 erfassten Trägerraketen oder von Nummer 9A104 erfassten Höhenforschungsraketen oder von Subsystemen, erfasst von Nummer 9A005, 9A007, Anmerkung: Die von Nummer 9D103 erfasste Software bleibt erfasst, auch wenn sie mit der von Nummer 4A102 erfassten Hardwareaus- rüstung kombiniert wird.

9E Technologie Anmerkung: Von Nummer 9E001 bis 9E003 erfasste Entwicklungs- oder Her- stellungs-Technologie für Gasturbinentriebwerke bleibt erfasst, wenn sie als Verwendungs-Technologie für Instandsetzung, Mo- dernisierung und Überholung verwendet wird. Von der Erfassung ausgenommen sind: technische Daten, Zeichnungen oder Doku- mentation für Wartungstätigkeiten, die unmittelbar mit der Kalib- rierung, dem Ausbau oder Austausch von beschädigten oder nicht betriebsfähigen, am Einsatzstützpunkt ersetzbaren Teilen (LRUs) verbunden sind, einschliesslich des Austausches ganzer Trieb- werke oder Triebwerkmodule.

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9E001 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W, M) gie-Anmerkung für die Entwicklung von Ausrüstung T: keine oder Software, die von Unternummer 9A001c, Nummer 9E002 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (W, M) gie-Anmerkung für die Herstellung von Ausrüstung, die T: keine oder 9B erfasst wird. Anmerkung: Technologie für die Instandsetzung von erfassten Strukturen, La- minaten oder Werkstoffen: Siehe Unternummer 1E002f. 9E003 Technologie wie folgt: (W) a. Technologie, die unverzichtbar ist für die Entwicklung oder Herstellung von einem der folgenden Gasturbinen- triebwerkbestandteile oder -systeme:

1. Gasturbinenlaufschaufeln, -leitschaufeln oder Deck- A.4 OGB

bänder (tip shrouds) aus gerichtet erstarrten (DS) T: keine oder Einkristall (SC)-Legierungen, die bei 1273 K (1000 °C) und einer Spannung von 200 MPa eine Zeitstandfestigkeit (in der kristallografischen Orien- tierung 001) von mehr als 400 Stunden aufweisen, wobei die mittleren Materialkennwerte zu Grunde gelegt werden,

2. Mehrfachdombrennkammern mit einer mittleren A.4 OGB

Brenneraustrittstemperatur grösser als 1813 K T: keine (1540 °C) oder Brennkammern mit thermisch entkop- pelten Flammrohren (combustion liner), nichtmetalli- schen Flammrohren oder nichtmetallischen Umman- telungen,

3. aus organischen Verbundwerkstoffen gefertigte Be- A.4 OGB

standteile für Betriebstemperaturen grösser als 588 K T: keine (315 °C), oder Bestandteile aus Verbundwerkstoffen mit Metall-Matrix, Werkstoffen mit Keramik-Matrix und intermetallischen oder intermetallisch verstärkten erfasst werden,

4. ungekühlte Turbinenlaufschaufeln, -leitschaufeln, A.4 OGB

Deckbänder (tip shrouds) oder andere Bestandteile, T: keine die für den Betrieb bei Gastemperaturen im Schau- felkanal grösser/gleich 1323 K (1050 °C) ausgelegt sind,

5. gekühlte Turbinenschaufeln, -leitschaufeln oder A.4 OGB

Deckbänder (tip shrouds), andere als die in Unter- T: keine nummer 9E003a¹ beschriebenen, die Gastemperatu- ren im Schaufelkanal grösser/gleich 1643 K (1370 °C) ausgesetzt sind,

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6. durch Fügen im festen Zustand (solid state joining) A.4 frei

verbundene Schaufelblatt/Scheiben-Kombinationen, T: keine

7. Gasturbinentriebwerksbestandteile, bei denen von A.4 frei

Unternummer 2E003b erfasste Diffusionsschweiss- T: keine Technologie verwendet wird,

8. schadenstolerante rotierende Bestandteile von Gas- A.4 OGB

turbinentriebwerken, bei denen von Unternummer T: keine 1C002b erfasste pulvermetallurgische Werkstoffe verwendet werden,

9. FADEC (Full Authority Digital Electronic Engine A.4 OGB

Control) für Gasturbinentriebwerke und Kombina- T: keine tionsantriebe sowie zugehörige Diagnosebauteile, Sensoren und besonders entwickelte Bestandteile,

10. Strömungskanäle mit veränderlicher Geometrie und A.4 frei

zugehörige Regelsysteme für T: keine a. Gasgeneratorturbinen, b. Fans oder Arbeitsturbinen, c. Schubdüsen, Anmerkung:

1. Strömungskanäle mit veränderlicher Geometrie und zu-

gehörige Regelsysteme in Unternummer 9E003a10 schliessen Eintrittsleitschaufeln, verstellbare Fans, ver- stellbare Leitkränze oder Abblasventile für Verdichter nicht ein.

2. Unternummer 9E003a10 erfasst nicht Entwicklungs- oder

Herstellungs-Technologie für Strömungskanäle mit ver- änderlicher Geometrie für Umkehrschub.

11. Laufschaufelspitzen-Spaltregelsysteme mit aktiver A.4 frei

Gehäuseausgleichs-Technologie, die auf Auslegungs- T: keine und Entwicklungsdaten beschränkt ist oder

12. hohle Fanlaufschaufeln grosser Profiltiefe ohne ge- A.4 frei

genseitige Abstützung der Schaufeln; T: keine b. Technologie, die unverzichtbar ist für die Entwicklung A.4 frei oder Herstellung von: T: keine

1. Flugmodellen für Windkanäle mit nicht störend auf

den Luftstrom wirkenden Sensoren, die Daten von den Sensoren zum Datenerfassungssystem übertragen können, oder

2. Propellerblättern und Propfanblättern aus Verbund-

werkstoffen, die mehr als 2000 kW bei Fluggeschwin- digkeiten grösser als Mach 0,55 aufnehmen können; c. Technologie, die unverzichtbar ist für die Entwicklung A.4 frei oder Herstellung von Bestandteilen für Gasturbinen- T: keine triebwerke unter Verwendung von Laser-, Wasser- strahl-, elektrochemischen oder funkenerosiven Bohr- verfahren zur Herstellung von Löchern mit einer der fol- genden Kombinationen von Eigenschaften:

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1. Mit allen folgenden Eigenschaften:

a. Tiefen grösser als das 4-fache ihres Durchmessers, b. Durchmesser kleiner als 0,76 mm und c. Bohrwinkel kleiner/gleich 25° oder

2. Mit allen folgenden Eigenschaften:

a. Tiefen grösser als das 5-fache ihres Durchmessers, b. Durchmesser kleiner als 0,4 mm und c. Bohrwinkel über 25°; Technische Anmerkung: Im Sinne von Unternummer 9E003c wird der Bohrwinkel von ei- ner Ebene aus gemessen, die tangential zur Schaufelblattoberflä- che an dem Punkt verläuft, an dem die Mittellinie der Bohrung in die Blattoberfläche eintritt. d. Technologie, die unverzichtbar ist für: A.4 frei

1. Entwicklung von Leistungsübertragungssystemen für T: keine

Hubschrauber oder Schwenkrotor- oder Kippflügel- Luftfahrzeuge oder

2. Herstellung von Leistungsübertragungssystemen für

Hubschrauber oder Schwenkrotor- oder Kippflügel- Luftfahrzeuge; e. 1. Technologie für die Entwicklung oder Herstellung A.4 frei von Dieselmotor-Antriebssystemen für Landfahrzeuge T: keine mit allen folgenden technischen Daten: b. Gesamtleistung grösser als 750 kW, basierend auf 80/1269/EEC, ISO 2534 oder gleichwertigen na- tionalen Normen und c. Leistungsdichte grösser als 700 kW/m3 «Boxvolumen», Technische Anmerkung: Das «Boxvolumen» wird als das Produkt aus drei wie folgt gemessenen, aufeinander senkrecht stehenden Ab- messungen definiert: Länge: die Länge der Kurbelwelle von der Motorstirn- seite bis zur Flanschfläche des Schwungrads, Breite: die grösste der folgenden Abmessungen: a. das Aussenmass zwischen den Ventildeckeln, b. das Mass zwischen den Aussenkanten der Zylinderköpfe oder c. der Durchmesser des Schwungradgehäuses, Höhe: die grössere der folgenden Abmessungen: a. das Mass zwischen der Kurbelwellen- Mittellinie und der Oberkante des Ventil- deckels (oder Zylinderkopfes) zuzüglich des doppelten Hubs oder b. der Durchmesser des Schwungradgehäuses.

2. Technologie, die unverzichtbar ist für die Herstellung

von besonders entwickelten Bestandteilen wie folgt für Hochleistungsdieselmotoren:

Güterkontrollverordnung AS 1999

a. Technologie, die unverzichtbar ist für die Herstellung von Motorensystemen, bei denen für alle folgenden Bauteile keramische Werkstoffe verwendet werden, die von Nummer 1C007 erfasst werden:

1. Zylinderlaufbuchsen,

2. Kolben,

3. Zylinderköpfe und

4. ein oder mehrere weitere Bauteile (einschl. Aus-

lassöffnungen, Turboladern, Ventilführungen, Ven- tilbaugruppen oder isolierter Kraftstoffeinspritzdü- sen), b. Technologie, die unverzichtbar ist für die Herstellung von Turboladersystemen mit Einstufenkompressoren mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Betrieb bei Druckverhältnissen von 4:1 oder höher,

2. Massendurchsatz im Bereich von 30 bis 130 kg/min

und

3. Veränderbarkeit des Strömungsquerschnitts inner-

halb des Kompressor- oder Turbinenbereichs, c. Technologie, die unverzichtbar ist für die Herstellung von Kraftstoffeinspritzsystemen, die eine besonders konstruierte Eignung zur Verwendung verschiedener Kraftstoffe (z. B. Diesel- oder Düsenkraftstoff) auf- weisen, die den Viskositätsbereich von Dieselkraft- stoff (2,5 cSt bei 310,8 K (37,8 °C)) bis zu Benzin (0,5 cSt bei 310,8 K (37,8 °C)) abdecken, mit allen folgenden Eigenschaften:

1. Einspritzmenge grösser als 230 mm3 pro Einsprit-

zung pro Zylinder und

2. Einsatz von besonders konstruierten elektronischen

Regeleinrichtungen zum automatischen Umschalten der Drehzahlreglercharakteristiken in Abhängigkeit von den Kraftstoffeigenschaften, um eine gleich- bleibende Drehmomentcharakteristik mit Hilfe ge- eigneter Sensoren zu erzielen,

3. Technologie, die unverzichtbar ist für die Entwick-

lung oder Herstellung von «Hochleistungsdieselmotoren» mit Fest-, Gasphasen- oder Flüssigfilmschmierung (auch in Kombination) der Zylinderwand für den Betrieb bei Temperaturen grösser als 723 K (450 °C), die an der Zylinderwand an der oberen Grenze des Wegs des obersten Kolben- ringes gemessen werden. Technische Anmerkung: «Hochleistungsdieselmotoren» sind Dieselmotoren mit ei- nem mittleren, spezifischen Effektivdruck grösser/gleich 1,8 MPa bei einer Drehzahl von 2300 min–1, sofern die Nenndrehzahl mindestens 2300 min–1 beträgt.

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9E101 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (M) gie-Anmerkung für die Entwicklung oder Herstellung T: keine 9E102 Technologie entsprechend der Allgemeinen Technolo- A.4 OGB (M) gie-Anmerkung für die Verwendung der von Nummer T: keine 9A004 erfassten Trägerraketen oder der von Nummer 9D103 erfassten Güter.

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Anhang 3 Liste der besonderen militärischen Güter Anmerkung: Von den in diesem Anhang aufgeführten Gütern fallen die folgenden unter den Geltungsbe- reich des Bundesgesetzes vom 13. Dezember 19963 über das Kriegsmaterial: a. Waffen, Waffensysteme, Munition sowie militärische Sprengmittel; b. Ausrüstungsgegenstände, die spezifisch für den Kampfeinsatz oder für die Gefechts- führung konzipiert oder abgeändert worden sind und die in der Regel nicht auch für zivile Zwecke verwendbar sind. Ebenfalls unter den Geltungsbereich des Kriegsmaterialgesetzes fallen nachfolgend aufge- führte Einzelteile und Baugruppen, auch teilweise bearbeitete, sofern erkennbar ist, dass diese Teile in derselben Ausführung nicht auch für zivile Zwecke verwendbar sind. In Zweifelsfällen erteilt das Staatssekretariat für Wirtschaft (seco) Auskunft.

Listen-Nr. Güterbezeichnung

– Allgemeine Technologie-Anmerkung (ATM) für besondere militärische Güter – Allgemeine Software-Anmerkung (ASA) ML 1 Feuerwaffen ML 2 Geschütze, Haubitzen, Kanonen, Mörser usw. ML 3 Munition für die in ML 1, 2 oder 12 erfassten Waffen ML 4 Bomben, Torpedos, Raketen, Flugkörper ML 5 Feuerleitsysteme ML 6 Fahrzeuge ML 7 Toxische Wirkstoffe, Reizstoffe, zugehörige Ausrüstung, Substanzen, Ma- terialien und Technologie ML 8 Spreng- und Treibstoffe für militärische Zwecke ML 9 Kriegsschiffe, Spezialausrüstung für die Marine ML 10 Bemannte und unbemannte Luftfahrzeuge, Bordausrüstung, Fallschirme, für militärische Zwecke ML 11 Elektronische Ausrüstung für militärische Zwecke, die nicht von anderen in Anhang 3 aufgeführten Nummern erfasst werden (z. B. Ausrüstung für elektronische Gegenmassnahmen [ECM] und Schutzmassnahmen [ECCM], Identifizierungs-, Authentisierungs- und Kennungsladegeräte sowie Schlüsselmanagement) ML 12 Waffensysteme mit hoher kinetischer Energie ML 13 Spezialpanzer- oder Schutzausrüstungen ML 14 Spezialisierte Ausrüstung für die militärische Ausbildung (Simulatoren, Drohnen, Waffenübungsgeräte, Zieldarstellungsausrüstung usw.) ML 15 Bildausrüstung (z. B. Infrarot-, Bildverstärkungs- und Wärmebildaus- rüstung) oder Ausrüstung für Gegenmassnahmen (ECM) und zum Schutz von Gegenmassnahmen (ECCM) für militärische Zwecke ML 16 Schmiedestücke, Gussstücke und andere unfertige Erzeugnisse

3 SR 514.51

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Listen-Nr. Güterbezeichnung

ML 17 Verschiedene Ausrüstungsgegenstände, Materialien und Bibliotheken ML 18 Ausrüstung und Technologie für die Herstellung der in Anhang 3 erfassten Gütern ML 19 Strahlenwaffensysteme (z. B. Lasersysteme) ML 20 Kryogenische und supraleitende Ausrüstung ML 21 Software ML 22 Technologie

1.0Allgemeine Technologie-Anmerkung (ATM) für besondere militäri- sche Güter (gültig im Zusammenhang mit den relevanten Listenpositionen im Anhang 3) Die Erfassung von Technologie, die für die Entwicklung, Herstellung oder Verwen- dung der vom Anhang 3 erfassten Güter unverzichtbar ist, erfolgt entsprechend den Vorgaben in den Listenpositionen. Technologie, die für die Entwicklung, Herstellung oder Verwendung von erfassten Gütern unverzichtbar ist, bleibt auch dann erfasst, wenn sie für nicht erfasste Güter einsetzbar ist. Nicht erfasst ist Technologie, die das unbedingt notwendige Minimum für Aufbau, Betrieb, Wartung und Reparatur derjenigen Güter darstellt, die nicht erfasst sind oder für die eine Ausfuhrgenehmigung erteilt wurde. Die Beschränkungen hinsichtlich der Ausfuhr von Technologie gelten nicht für all- gemein zugängliche Informationen, wissenschaftliche Grundlagenforschung oder für die für Patentanmeldungen erforderlichen Informationen.

2.0Allgemeine Software-Anmerkung (ASA) für besondere militärische Güter Es gilt die im Anhang 2 enthaltene Allgemeine Software Anmerkung (ASA)

Listen-Nr. Güterbezeichnung Erleichterungen (Regime)

Liste der besonderen militärischen Güter Anmerkung: Durch kursive Schrift gekennzeichnete Begriffe: Siehe Begriffsbe- stimmungen (Anhang 1). ML 1 Feuerwaffen und Zubehör wie folgt sowie besonders A.4 OGB konstruierte Bestandteile hierfür: T: keine a. eindeutig erkennbare Jagd- und Sportwaffen, die in der- selben Ausführung nicht auch Kampfwaffen sind; b. Einzellader und Vorderlader;

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c. Faustfeuerwaffen und Repetiergewehre für Randfeuer- munition; d. alte Waffen, für die keine verwendbare Munition mehr hergestellt wird oder im öffentlichen Handel erhältlich sind; Anmerkung: Unternummer ML 1d erfasst nicht folgende Waffen;

1. Musketen, Gewehre und Karabiner, die vor 1938 hergestellt

wurden;

2. Nachbildungen von Musketen, Gewehren und Karabinern,

deren Originale vor 1890 hergestellt wurden;

3. Revolver, Pistolen und Maschinenwaffen, die vor 1890 her-

gestellt wurden, und ihre Nachbildungen. Anmerkung: Unternummern ML 1a bis ML 1d erfassen nicht für Exeziermuni- tion besonders konstruierte Waffen, die keine von Nummer ML 3 erfasste Munition verschiessen können. ML 2 Bewaffnung oder Waffen, andere als von ML 1 erfasst, A.4 OGB mit einem Kaliber grösser als 12,7 mm, Werfer und Zu- T: keine behör wie folgt sowie besonders konstruierte Bestand- teile hierfür: a. Geschütze, Haubitzen, Kanonen, Mörser, Panzerab- wehrwaffen, Einrichtungen zum Abfeuern von Geschos- sen und Raketen, militärische Flammenwerfer, rück- stossfreie Waffen und Tarnvorrichtungen (signature re- duction devices) hierfür; Anmerkung: Unternummer ML 2a schliesst Injektoren, Messgeräte, Spei- chertanks und besonders konstruierte Bestandteile für den Ein- satz von flüssigen Treibladungen für einen der von Unternum- mer ML 2a erfassten Ausrüstungsgegenstände ein. b. militärische Nebel- und Gaswerfer, militärische pyro- technische Werfer oder Generatoren. Anmerkung: Unternummer ML 2b erfasst nicht Signalpistolen. c. Waffenzielgeräte, besonders konstruiert für die von Un- ternummer ML 2a erfassten Waffen. ML 3 Munition für die von Nummer ML 1, ML 2 oder ML 12 A.4 OGB erfassten Waffen sowie besonders konstruierte Bestand- T: keine teile hierfür: Anmerkungen:

1. Besonders konstruierte Bestandteile schliessen ein:

a. Metall- oder Kunststoffbestandteile, z. B. Ambosse in Zünd- hütchen, Geschossmäntel, Patronengurtglieder, Führungs- ringe und andere Munitionsbestandteile aus Metall; b. Sicherungseinrichtungen, Zünder, Sensoren und Anzündvor- richtungen; c. Stromquellen für die einmalige Abgabe einer hohen Leis- tung;

Güterkontrollverordnung AS 1999

d. abbrennbare Hülsen für Treibladungen; e. Submunition einschliesslich Bomblets, Minelets und end- phasengelenkter Geschosse.

2. Nummer ML 3 erfasst nicht Munition ohne Geschoss

(Manöver-, Signalmunition) und Exerziermunition mit geloch- ter Pulverkammer. ML 4 Bomben, Torpedos, Raketen, Flugkörper sowie zugehö- A.4 OGB rige Ausrüstung und Zubehör wie folgt, besonders kon- T: keine struiert für militärische Zwecke, und besonders kon- struierte Bestandteile hierfür: a. Bomben, Torpedos, Granaten, Rauch- und Nebelbüch- sen, Raketen, Minen, Flugkörper, Wasserbomben, Sprengkörper-Ladungen, -Vorrichtungen und Zubehör, militärische Pyrotechnika, Leuchtpatronen und Darstel- lungsmunition (d. h. Ausrüstung, welche die Eigen- schaften einer der von Unternummer ML 4a erfassten Waren simuliert); Anmerkung: Unternummer ML 4a schliesst ein:

1. Rauch- und Nebelgranaten, Feuerbomben, Brandbomben

und Sprengkörper;

2. Antriebsdüsen für Flugkörper und Bugspitzen für Wieder-

eintrittskörper. b. Ausrüstung, besonders konstruiert für das Handhaben, Überwachen, Scharfmachen, Stromversorgen bei einma- liger Abgabe einer hohen Leistung, Abfeuern, Legen, Räumen, Ausstossen, Täuschen, Stören, Zünden oder Orten der von Unternummer ML 4a erfassten Waren. Anmerkung: Unternummer ML 4b schliesst ein:

1. fahrbare Gasverflüssigungsanlagen mit einer Produktionska-

pazität von mindestens 1000 kg Flüssiggas pro Tag;

2. schwimmfähige elektrisch leitende Kabel zum Räumen

magnetischer Minen. ML 5 Feuerleiteinrichtungen, zugehörige Überwachungs- und A.4 OGB Alarmierungsausrüstung sowie verwandte Systeme und T: keine Ausrüstung für Gegenmassnahmen wie folgt, besonders konstruiert für militärische Zwecke, sowie besonders konstruierte Bestandteile und besonders konstruiertes Zubehör hierfür: a. Waffenzielgeräte, Bombenzielrechner, Rohrwaffenricht- geräte und Waffensteuersysteme; b. Zielerfassungs-, Zielzuordnungs-, Zielentfernungsmess-, Zielüberwachungs- oder Zielverfolgungssysteme, Or- tungs-, Datenverknüpfungs(data fusion)-, Erkennungs- oder Identifizierungs-Vorrichtungen und Ausrüstung zur Sensorintegration (sensor integration equipment);

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c. Ausrüstung für Gegenmassnahmen gegen die von den Unternummern ML 5a und ML 5b erfasste Ausrüstung. d. Prüf- oder Justierausrüstung, besonders konstruiert für die Instandsetzung oder Wartung der von Unternummer ML 6 Landfahrzeuge und Bestandteile hierfür, besonders konstruiert oder geändert für militärische Zwecke. Technische Anmerkung: «Landfahrzeuge» im Sinne der Nummer ML 6 schliessen auch Anhänger ein. Anmerkungen:

1. Nummer ML 6 schliesst ein:

a. Panzer und andere militärische bewaffnete Fahrzeuge und militärische Fahrzeuge, ausgestattet mit Lafetten oder Aus- rüstung zum Minenlegen oder zum Starten der von Nummer ML 4 erfassten Waffen; b. gepanzerte Fahrzeuge; c. amphibische und tiefwatfähige Fahrzeuge; d. Bergungsfahrzeuge und Fahrzeuge zum Befördern und Schleppen von Munition oder Waffensystemen und zugehö- rige Ladesysteme.

2. Die Änderung eines Landfahrzeuges für militärische Zwecke

bedeutet eine bauliche, elektrische oder mechanische Ände- rung, die ein oder mehrere besonders konstruierte militärische Bestandteile betrifft. Solche Bestandteile schliessen ein: a. Luftreifendecken in beschussfester oder bei abgelassener Luftfahrtauglicher Spezialbauart; b. Reifendruck-Regelvorrichtungen, die aus dem Inneren des fahrenden Fahrzeugs bedient werden können; c. Panzerschutz von wichtigen Teilen (z. B. Kraftstofftanks oder Fahrzeugkabinen); d. besondere Verstärkungen für die Aufnahme von Waffen; e. Mehrfarben-Tarnlackierung des Fahrzeuges.

3. Nummer ML 6 erfasst keine zivilen Sonderschutzlimousinen

und Werttransporter mit Schutzpanzerung.

4. Nummer ML 6 erfasst nicht die folgenden militärischen Be-

standteile: a. Beleuchtungseinrichtungen einschliesslich Tarnbeleuchtung, b. Gewehr- bzw. Waffenhalterungen, c. Tarnnetzhalterungen, d. NATO-Kupplungen, e. Dachluken, rund, mit schwenk- oder klappbarem Deckel. ML 7 Chemische oder biologische Agenzien, Reizstoffe, radio- A.4 OGB aktive Stoffe, zugehörige Ausrüstung, Bestandteile, Ma- T: keine terialien und Technologie wie folgt: Anmerkung: Die CAS-Nummern sind nur beispielhaft. Sie umfassen nicht alle Chemikalien und Mischungen, die von Nummer ML 7 erfasst werden.

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a. Biologische Agenzien und radioaktive Stoffe für den Kriegsgebrauch (zur Aussergefechtsetzung von Men- schen oder Tieren, zur Funktionsbeeinträchtigung von Geräten oder zur Vernichtung von Ernten oder der Um- welt) und chemische Kampfstoffe; Anmerkung: Die Ausfuhr der Güter unter ML 7a für den Kriegsgebrauch ist gemäss Art. 7 des Bundesgesetzes vom 13. Dezember 19964 über das Kriegsmaterial verboten. b. Komponenten für Binärkampfstoffe und Schlüsselvor- produkte wie folgt:

1. Alkyl(Me, Et, n-Pr oder i-Pr)-phosphon-

säuredifluoride, wie: DF: Methylphosphonsäure- difluorid (CAS-Nr. 676-99-3);

2. O-Alkyl(H oder ≤ C10 einschliesslich Cycloalkyl)-O-

2-Dial-kyl(Me, Et, n-Pr oder i- Pr)aminoethylalkyl(Me, Et, n-Pr oder i- Pr)phosphonite und entsprechende alkylierte und protonierte Salze, wie: QL: O-Ethyl-O-2- diisopropylaminoethylmethylphosphonit (CAS-Nr. 57856-11-8);

3. Chlor-Sarin: O-Isopropylmethyl-phosphonochlorid

(CAS-Nr. 1445-76-7);

4. Chlor-Soman: O-Pinakolylmethyl-phosphonochlorid

(CAS-Nr. 7040-57-5); c. Tränengase und andere Reizstoffe zur Bekämpfung von Un- ruhen einschliesslich:

1. CA: Brombenzylcyanid (CAS-Nr. 5798-79-8);

2. CS: o-Chlorbenzylidenmalonsäuredinitril

(CAS-Nr. 2698-41-1);

3. CN: ω-Chloracetophenon (CAS-Nr. 532-27-4);

4. CR: Dibenz(b,f)-1,4-oxazepin

(CAS-Nr. 257-07-8); d. Ausrüstung, besonders konstruiert oder modifiziert zum Ausbringen der von Unternummer ML 7a erfassten Stoffe oder Agenzien und besonders konstruierte Be- standteile hierfür; Anmerkung: Die Ausfuhr der Güter unter ML 7d für den Kriegsgebrauch ist gemäss Artikel 7 des Bundesgesetzes vom 13. Dezember 19965 über das Kriegsmaterial verboten. e. Ausrüstung, besonders konstruiert zur Abwehr der von Unternummer ML 7a erfassten Materialien und beson- ders konstruierte Bestandteile hierfür;

4 SR 514.51 5 SR 514.51)

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Anmerkung: Unternummer ML 7e schliesst Schutzkleidung ein. Ergänzende Anmerkung: Zivilschutzmasken und Schutzausrüstung: Siehe Anhang 2, Nummer 1A004 f. Ausrüstung, besonders konstruiert zur Feststellung oder Identifizierung der von Unternummer ML 7a erfassten Materialien und besonders konstruierte Bestandteile hierfür; Anmerkung: Unternummer ML 7f erfasst nicht Strahlendosimeter für den persönlichen Gebrauch. Ergänzende Anmerkung: Zivilschutzmasken und Schutzausrüstung: Siehe Anhang 2, Nummer 1A004. g. Biopolymere, besonders entwickelt oder aufgebaut für die Feststellung oder Identifizierung der von Unter- nummer ML 7a erfassten chemischen Kampfstoffe und spezifische Zellkulturen zu ihrer Herstellung; h. Biokatalysatoren für die Dekontamination und den Ab- bau chemischer Kampfstoffe und biologische Systeme hierfür, wie folgt:

1. Biokatalysatoren, besonders entwickelt für die De-

kontamination und den Abbau der von Unternummer ML 7a erfassten chemischen Kampfstoffe, die durch gezielte Laborauslese oder genetische Manipulation biologischer Systeme erzeugt werden;

2. biologische Systeme wie folgt: Expressions-Vektoren,

Viren oder Zellkulturen, die eine spezifische geneti- sche Information zur Herstellung der von Unternum- mer ML 7h¹ erfassten Biokatalysatoren enthalten; i. Technologie wie folgt:

1. Technologie für die Entwicklung, Herstellung oder

Verwendung der von Unternummer ML 7a bis ML 7f erfassten toxischen Wirkstoffe, zugehörigen Ausrü- stung oder Bestandteile;

2. Technologie für die Entwicklung, Herstellung oder

Verwendung der von Unternummer ML 7g erfassten Biopolymere oder spezifischen Zellkulturen;

3. Technologie, ausschliesslich bestimmt für die Inkor-

poration der von Unternummer ML 7h¹ erfassten Biokatalysatoren in militärische Trägersubstanzen oder militärische Materialien. Anmerkung:

1. Unternummer ML 7a schliesst die folgenden chemischen

Kampfstoffe ein:

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a. Nervenkampfstoffe:

1. O-Alkyl(≤ C10 einschliesslich Cycloalkyl)alkyl-(Me, Et,

n-Pr oder i-Pr)-phosphonofluoride, wie: Sarin: O-Isopropylmethylphosphonofluorid (CAS-Nr. 107-44-8); und Soman: O-Pinakolylmethylphosphonofluorid (CAS-Nr. 96-64-0);

2. O-Alkyl(≤ C10 einschliesslich Cycloalkyl)N,N-

dialkyl(Me, Et, n-Pr oder i-Pr)-phosphoramido-cyanide, wie: Tabun: O-Ethyl-N,N-dimethylphosphoramidocyanid (CAS-Nr. 77-81-6);

3. O-Alkyl(H oder ≤ C10 einschliesslich Cycloalkyl)-S-2-

dialkyl(Me, Et, n-Pr oder i-Pr)phosphonothiolate sowie entsprechende alkylierte und protonierte Salze, wie: VX: O-Ethyl-S-2-diisopropylaminoethyl-methyl- phosphonothiolat (CAS-Nr. 50782-69-9); b. Hautkampfstoffe:

1. Schwefelloste, wie:

2-Chlorethylchlormethylsulfid (CAS-Nr. 2625-76-5); Bis(2-chlorethyl)-sulfid (CAS-Nr. 505-60-2); Bis(2-chlorethylthio)-methan (CAS-Nr. 63869-13-6); 1,2-Bis-(2-chlorethylthio)-ethan (CAS-Nr. 3563-36-8); Bis-1,3-(2-chlorethylthio)-n-propan (CAS-Nr. 63905-10-2); Bis-1,4-(2-chlorethylthio)-n-butan (CAS-Nr. 142868-93-7); Bis-1,5-(2-chlorethylthio)-n-pentan (CAS-Nr. 142868-94-8); Bis-(2-chlorethylthiomethyl)-ether CAS-Nr. 63918-90-1); Bis-(2-chlorethylthioethyl)-ether (CAS-Nr. 63918-89-8);

2. Lewisite, wie:

2-Chlorvinyldichlorarsin (CAS-Nr. 541-25-3), Bis(2-chlorvinyl)-chlorarsin (CAS-Nr. 40334-69-8); Tris(2-chlorvinyl)-arsin (CAS-Nr. 40334-70-1);

3. Stickstoffloste, wie:

HN¹: N-Ethyl-bis(2-chlorethyl)-amin (CAS-Nr. 538-07-8); HN²: N-Methyl-bis(2-chlorethyl)-amin (CAS-Nr. 51-75-2); HN3: Tris-(2-chlorethyl)-amin (CAS-Nr. 555-77-1); c. Psychokampfstoffe, wie: BZ: 3-Chinuclidinylbenzilat (CAS-Nr. 6581-06-2); d. Entlaubungsmittel, wie:

1. Butyl-(2-Chlor-4-Fluorphenoxy-)acetat (LNF);

2. 2,4,5-trichlorphenoxyessigsäure gemischt mit 2,4-

dichlorphenoxyessigsäure (Agent Orange);

2. Unternummer ML 7e schliesst Luftreinigungsanlagen ein, be-

sonders konstruiert oder hergerichtet zum Filtern von radioakti- ven, biologischen und chemischen Stoffen;

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3. Unternummern ML 7a und ML 7c erfassen nicht:

a. Chlorcyan; b. Cyanwasserstoffsäure; c. Chlor; d. Carbonylchlorid (Phosgen); e. Perchlorameisensäuremethylester (Diphosgen); f. Bromessigsäureethylester; g. Xylylbromide; h. Benzylbromid; i. Benzyljodid; j. Bromaceton; k. Bromcyan; l. Brommethylethylketon; m. Chloraceton; n. Jodessigsäureethylester; o. Jodaceton; p. Chlorpikrin; zifische Technologie, Zellkulturen und biologische Systeme. Technologie, Zellkulturen und biologische Systeme für zivile Zwecke, z. B. für Landwirtschaft, Pharmazie, Medizin, Tier- heilkunde, Umwelt und Nahrungsmittelindustrie, werden nicht erfasst.

5. Unternummer ML 7c erfasst nicht einzeln abgepackte Tränen-

gase oder andere Reizstoffe für persönliche Selbstverteidi- gungszwecke.

6. Unternummern ML 7d, ML 7e und ML 7f erfassen Ausrüstung,

besonders konstruiert oder modifiziert für militärische Zwecke (d. h. die Ausrüstung erfüllt Mil-Standard).

7. Siehe auch Anhang 2, Nummer 1A004

8. Ausgangsstoffe für die Herstellung toxischer Wirkstoffe: Siehe

Anhang 2, Nummer 1C350.

9. Zugehörige biologische Wirkstoffe: Siehe Anhang 2, Nummern

1C351 bis 1C354. Die dort genannten biologischen Wirkstoffe werden nur dann von Unternummer ML 7a erfasst, wenn diese dem Begriff «für den Kriegsgebrauch» entsprechen. ML 8 Militärische Explosivstoffe und Brennstoffe, einschliess- A.4 OGB lich Treibstoffe, und zugehörige Stoffe wie folgt: T : keine a. Stoffe wie folgt und Mischungen daraus:

1. kugelförmiges Aluminiumpulver

(CAS-Nr. 7429-90-5) mit einer Partikelgrösse klei- ner/gleich 60 µm, hergestellt aus Material mit einem Aluminiumgehalt von mindestens 99%;

2. metallische Brennstoffe in Partikelform (kugelförmig,

staubförmig, flockenförmig oder gemahlen), herge- stellt aus Material, das zu mindestens 99% aus einem der folgenden Materialien besteht: a. Metalle und Mischungen daraus:

1. Beryllium (CAS-Nr. 7440-41-7) mit einer Parti-

kelgrösse kleiner als 60 µm;

2. Eisenpulver (CAS-Nr. 7439-89-6) mit einer Par-

tikelgrösse kleiner/gleich 3 µm, hergestellt durch Reduktion von Eisenoxid mit Wasserstoff;

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b. Mischungen, die einen der folgenden Stoffe ent- halten:

1. Zirkonium (CAS-Nr. 7440-67-7), Magnesium

(CAS-Nr. 7439-95-4) und Legierungen dieser Metalle mit Partikelgrössen kleiner als 60 µm;

2. Bor (CAS-Nr. 7440-42-8) oder Borcarbid

(CAS-Nr. 12069-32-8) mit einer Reinheit grösser/gleich 85 % und einer Partikelgrösse kleiner als 60 µm;

3. Perchlorate, Chlorate und Chromate, die mit Metall-

pulver oder anderen energiereichen Brennstoffen ge- mischt sind;

4. Nitroguanidin (NQ) (CAS-Nr. 556-88-7);

5. Verbindungen, die aus Fluor und einem oder mehre-

ren der folgenden Elemente zusammengesetzt sind: sonstige Halogene, Sauerstoff, Stickstoff;

6. Carborane, Decaboran (CAS-Nr. 17702-41-9), Penta-

boran und Derivate daraus;

7. Oktogen (Cyclotetramethylentetranitramin [HMX])

(CAS-Nr. 2691-41-0);

8. Hexanitrostilben (HNS)

(CAS-Nr. 20062-22-0);

9. Diaminotrinitrobenzol (DATB)

(CAS-Nr. 1630-08-6);

10. Triaminotrinitrobenzol (TATB)

(CAS-Nr. 3058-38-6);

11. Triaminoguanidinnitrat (TAGN)

(CAS-Nr. 4000-16-2);

12. Titansubhydrid mit der stöchiometrischen Zusammen-

setzung TiH 0,65–1,68;

13. Dinitroglycoluril (DNGU, DINGU) (CAS-Nr. 55510-

04-8), Tetranitroglycoluril (TNGU, SORGUYL) (CAS-Nr. 55510-03-7);

14. Tetranitrobenzotriazolobenzotriazol (TACOT) (CAS-

Nr. 25243-36-1);

15. Diaminohexanitrodiphenyl (DIPAM) (CAS-Nr.

17215-44-0);

16. Picrylaminodinitropyridin (PYX)

(CAS-Nr. 38082-89-2),

17. 3-Nitro-1,2,4,-triazol-5-on (NTO oder ONTA) (CAS-

Nr. 932-64-9);

18. Hydrazin (CAS-Nr. 302-01-2) mit einer Mindestkon-

zentration von 70 %, Hydrazinnitrat (CAS-Nr. 37836- 27-4), Hydrazinperchlorat (CAS-Nr. 27978-54-7), un- symmetrisches Dimethylhydrazin (CAS-Nr. 57-14-7), Monomethylhydrazin (CAS-Nr. 60-34-4) und sym- metrisches Dimethylhydrazin (CAS-Nr. 540-73-8);

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19. Ammoniumperchlorat (CAS-Nr. 7790-98-9);

20. Cyclotrimethylenetrinitramin (RDX) (CAS 121–82–

4); Cyclonit; T4; Hexahydro-1,3,5-trinitro-1,3,5- triazin; 1,3,5-trinitro-1,3,5-triaza-cyclohexan (Hexogen);

21. Hydroxylammoniumnitrat (HAN) (CAS-Nr. 13465-

08-2), Hydroxylammoniumperchlorat (HAP) (CAS-Nr. 15588-62-2);

22. 2-(5-Cyanotetrazolato) pentaaminkobalt(III)perchlorat

(CP) (CAS-Nr. 70247-32-4);

23. Cis-bis (5-nitrotetrazolato) tetraaminko-

balt(III)perchlorat (BNCP);

24. 7-Amino-4,6-dinitrobenzofurazan-1-oxid (ADNBF)

(CAS-Nr. 97096-78-1), Amino-dinitrobenzo-furoxan;

25. 5,7-Diamino-4,6-dinitrobenzofurazan-1-oxid (CL-14)

(CAS-Nr. 117907-74-1) oder Diamino-dinitrobenzo- furozan;

26. 2,4,6-Trinitro-2,4,6-triaza-cyclo-hexanon (K-6 oder

Keto-RDX) (CAS-Nr. 115029-35-1);

27. 2,4,6,8-Tetranitro-2,4,6,8-tetraaza-bicyclo-3,3,0-

octanon-3 (CAS-Nr. 130256-72-3) (Tetranitrosemigly-couril, K55 oder keto-bicyclisches HMX);

28. 1,1,3-Trinitroazetidin (TNAZ)

(CAS-Nr. 97645-24-4);

29. 1,4,5,8-Tetranitro-1,4,5,8-tetraazadecalin (TNAD)

(CAS-Nr. 135877-16-6);

30. Hexanitrohexaazaisowurtzitan (CAS-Nr. 135285-90-4)

(CL-20 oder HNIW) und dessen Clathrate;

31. Polynitrocubane mit mehr als vier Nitrogruppen;

32. Ammoniumdinitramid (ADN oder SR12)

(CAS-Nr. 140456-78-6);

33. Trinitrophenylmethylnitramin (Tetryl)

(CAS-Nr. 479-45-8); b. Explosivstoffe und Treibstoffe, welche die folgenden Leistungsparameter erfüllen:

1. Explosivstoffe mit einer Detonationsgeschwindigkeit

grösser als 8700 m/s oder einem Detonationsdruck grösser als 34 GPa (340 kbar);

2. andere in Nummer ML 8 nicht genannte organische

Explosivstoffe, die einen Detonationsdruck grösser/- gleich 25 GPa (250 kbar) ergeben und bei Tempera- turen grösser/gleich 250 °C (523 K) für die Dauer von

5 min oder länger stabil bleiben;

Güterkontrollverordnung AS 1999

3. andere in Nummer ML 8 nicht aufgeführte Feststoff-

treibmittel der UN-Klasse 1.1 mit einem theoretisch erreichbaren spezifischen Impuls (bei Standardbedin- gungen) von mehr als 250 s bei metallfreien oder mehr als 270 s bei aluminiumhaltigen Mischungen;

4. andere Feststofftreibmittel der UN-Klasse 1.3 mit ei-

nem theoretisch erreichbaren spezifischen Impuls von mehr als 230 s bei halogenfreien, 250 s bei metallfrei- en und 266 s bei metallhaltigen Mischungen;

5. andere in Nummer ML 8 nicht aufgeführte Schiess-

pulver mit einer Kraftkonstante grösser als

6. andere in Nummer ML 8 nicht aufgeführte Explosiv-

stoffe, Treibstoffe oder pyrotechnische Stoffe, die eine stabile gleichförmige Abbrandgeschwindigkeit von (294 K) aufweisen; oder

7. elastomermodifizierte gegossene zweibasige Treib-

mittel (EMCDB), die bei –40 °C (233 K) eine Deh- nungsfähigkeit von mehr als 5 % bei grösster Bean- spruchung aufweisen; c. militärische Pyrotechnika; d. andere Stoffe wie folgt:

1. Luftfahrzeug-Treibstoffe, besonders konstruiert für

militärische Zwecke;

2. militärische Materialien, die für die Verwendung in

Flammenwerfern oder Brandbomben besonders ent- wickelte Verdicker für Kohlenwasserstoff-Brennstoffe enthalten, wie Metallstearate oder Palmitate (Oktal)

3. flüssige Oxidationsmittel, die aus inhibierter rauchen-

der Salpetersäure (IRFNA) oder Sauerstoffdifluorid bestehen oder diese Stoffe enthalten; e. Additive und Vorprodukte wie folgt:

1. Azidomethylmethyloxetan (AMMO) und -Polymere;

2. basisches Kupfersalicylat (CAS-Nr. 62320-94-9);

Bleisalicylat (CAS-Nr. 15748-73-9);

3. Bis-(2,2-dinitropropyl)formal (CAS-Nr. 5917-61-3)

oder Bis-(2,2-dinitropropyl)acetal (CAS-Nr. 5108-69-0);

4. Bis(2-fluoro-2,2-dinitroethyl)formal (FEFO)

(CAS-Nr. 17003-79-1);

5. Bis-(2-hydroxyethyl)glycolamid (BHEGA)

(CAS-Nr. 17409-41-5);

6. Bis(2-methylaziridinyl)-methylaminophosphinoxid

(Methyl BAPO) (CAS-Nr. 85068-72-0);

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7. Bis(azidomethyl)oxethan und dessen Polymere

(CAS-Nr. 17607-20-4);

8. Bis(chlormethyl)oxethan (BCMO)

(CAS-Nr. 142173-26-0);

9. Butadiennitriloxid (BNO);

10. Butantrioltrinitrat (BTTN) (CAS-Nr. 6659-60-5);

11. Catocen (CAS-Nr. 37206-42-1)(2,2-Bis-

ethylferrocenylpropan); Ferrocencarbonsäuren, N-Butylferrocen (CAS-Nr. 319904-29-7), Butacen (CAS-Nr. 125856-62-4) und andere verwandte polymere Ferrocenderivate;

12. Dinitroazetidin-t-butylsalz;

13. energetisch wirksame Monomere, energetisch wirksame

Plastifiziermittel und energetisch wirksame Polymere, die Nitro-, Azido-, Nitrat-, Nitraza- oder Difluoraminogrup- pen enthalten;

14. FPF-1: Poly-2,2,3,3,4,4-Hexafluoropentan-1,5-diol-

formal;

15. FPF-3: Poly-2,4,4,5,5,6,6-heptafluoro-2-trifluoromethyl-

3-oxaheptan-1,7-diol-formal;

16. Glycidylazidpolymer (GAP) (CAS-Nr. 143178-24-9) und

dessen Derivate;

17. Hexabenzylhexaazaisowurtzitan (HBIW)

(CAS-Nr. 124782-15-6);

18. hydroxylterminiertes Polybutadien (HTPB) mit einer

Hydroxylfunktionalität grösser/gleich 2,2 und klei- ner/gleich 2,4, einem Hydroxylwert kleiner als 0,77 meq/g und einer Viskosität bei 30 °C (303 K) klei- ner als 47 Poise (CAS-Nr. 69102-90-5);

19. superfeines Eisenoxid (Fe2O3 Hämatit) mit einer spezifi-

schen Oberfläche grösser als 250 m2/g und einer durch- schnittlichen Partikelgrösse kleiner/gleich 0,003 µm (CAS-Nr. 1309-37-1);

20. Blei-Beta-Resorcylat (CAS-Nr. 20936-32-7);

21. Bleistannat (CAS-Nr. 12036-31-6) , Bleimaleat

(CAS-Nr. 19136-34-6), Bleicitrat (CAS-Nr. 14450-60-3);

22. Blei-Kupfer-Chelate von Beta-Resorcylat und/oder

Salicylat (CAS-Nr. 68411-07-4);

23. Nitratomethylmethyloxethan oder Poly-(3-

nitratomethyl-3-methyloxethan) (Poly-NIMMO, NMMO) (CAS-Nr. 84051-81-0);

24. 3-Nitraza-1,5-pentan-diisocyanat

(CAS-Nr. 7406-61-9);

25. N-Methyl-p-Nitroanilin (CAS-Nr. 100-15-2);

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26. metallorganische Kupplungsreagentien, insbesondere

Titan-IV-Verbindungen: a. 2,2-[Bis-2-propenolat-methyl-butanolattris(dioctyl) phosphat-O] (LICA 12) (CAS-Nr. 103850-22-2); b. [(2-Propenolat-1)methyl-N-propenolatomethyl] butanolat-1-tris(dioctyl)-pyrophosphat (KR3538); c. [(2-Propenolat-1)methyl-N-propenolatomethyl] buta- nolat-1-tris(dioctyl)phosphat;

27. Polycyanodifluoraminoethylenoxid (PCDE);

28. polyfunktionelle Aziridinamide mit Isophthal-, Trimesin-,

Butylenimintrimesamidisocyanur-(BITA) oder Trime- thyladipin-Grundstrukturen und 2-Methyl- oder 2-Ethylsubstituenten am Aziridinring;

29. Polyglycidylnitrat oder Poly(Nitratomethyloxiran), (Poly-

GLYN, PGN) (CAS-Nr. 27814-48-8);

30. Polynitroorthocarbonate;

31. Propylenimid, 2-Methylaziridin (CAS-Nr. 75-55-8);

32. Tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitan (TAIW);

33. Tetraethylenpentaaminacrylnitril (TEPAN) (CAS-

Nr. 68412-45-3), cyanethyliertes Polyamin und seine Salze;

34. Tetraethylenpentaaminacrylnitrilglycidol (TEPANOL)

(CAS-Nr. 68412-46-4), cyanethylierte Polyamin- Addukte mit Glycidol und seinen Salzen;

35. Triphenylwismut (TPB) (CAS-Nr. 603-33-8);

36. Tris-1-(2-methyl)aziridinylphosphinoxid (MAPO)

(CAS-Nr. 57-39-6), Bis(2-methylaziridinyl)-2-(2- hydroxypropanoxy)-propylamino-phosphinoxid (BOBBA 8) und andere MAPO-Derivate;

37. 1,2,3-Tris [(1,2-bis-difluoramino)ethoxy]propan

(TVOPA) (CAS-Nr. 53159-39-0);

38. 1,3,5-Trichlorbenzol (CAS-Nr. 108-70-3);

39. 1,2,4-Butantriol (1,2,4-Trihydroxybutan);

40. 1,3,5,7 Tetraacetyl-1-3,5,7-tetraazacyclooktan (TAT)

(CAS-Nr. 41378-98-7);

41. 1,4,5,8-Tetraazadekalin (CAS-Nr. 5409-42-7);

42. niedermolekulares (Molekulargewichte kleiner als

10 000) Polyepichlorhydrin mit funktionellen Alkohol-

gruppen und Polyepichlorhydrindiol. Anmerkungen:

1. Explosiv- und Treibstoffe für militärische Zwecke, welche die

in den Unternummern ML 8a¹ und ML 8a² aufgeführten Me- talle und Legierungen enthalten, werden auch dann erfasst, wenn die Metalle und Legierungen in Aluminium, Magnesium, Zirkonium oder Beryllium eingekapselt sind. Siehe auch An- hang 2, Nummer 1C011.

2. Nummer ML 8 erfasst nicht Bor und Borcarbid, das mit Bor-10

angereichert ist (Bor-10-Gehalt grösser als 20 Gewichtsprozent des Gesamt-Borgehalts).

Güterkontrollverordnung AS 1999

3. Luftfahrzeug-Treibstoffe, die von Unternummer ML 8d1 erfasst

werden, sind Fertigprodukte und nicht deren Einzelkomponen- ten.

4. Nummer ML 8 erfasst nicht Perforatoren, besonders konstruiert

für die Erdölexploration.

5. Nummer ML 8 erfasst die nachstehend aufgeführten Stoffe nur

dann, wenn sie als Verbindungen oder Mischungen mit militä- rischen Explosivstoffen oder Metallpulvern vorliegen, d. h., sie werden nicht erfasst, wenn sie in reiner Form oder als Mi- schungen untereinander vorliegen: a. Ammoniumpikrat; b. Schwarzpulver; c. Hexanitrodiphenylamin; d. Difluoramin (HNF²; e. Nitrostärke; f. Kaliumnitrat; g. Tetranitronaphthalin; h. Trinitroanisol; i. Trinitronaphthalin; j. Trinitroxylol; k. rauchende Salpetersäure, nicht inhibiert und nicht angerei- chert; l. Acetylen; m. Propan; n. flüssiger Sauerstoff; o. Wasserstoffperoxid in Konzentrationen von weniger als

85 Prozent;

p. Mischmetall; q. N-Pyrrolidinon, 1-Methyl-2-pyrrolidinon; r. Dioctylmaleat; s. Ethylhexylacrylat; t. Triethylaluminium (TEA), Trimethylaluminium (TMA) und sonstige pyrophore Metallalkyle der Elemente Lithium, Natrium, Magnesium, Zink und Bor sowie Metallaryle der- selben Elemente; u. Nitrozellulose; v. Nitroglycerin (Glycerinnitrat); w. 2,4,6-Trinitrotoluol (TNT); x. Ethylendiamindinitrat (EDDN); y. Pentaerythrittetranitrat (PETN); aa. Bleiazid, normales und basisches Bleistyphnat und sonstige Anzünder oder Anzündermischungen, die Azide oder kom- plexe Azide enthalten; bb. Triethylenglykoldinitrat (TEGDN); cc. 2,4,6-Trinitroresorcin (Styphninsäure); dd. Diethyldiphenylharnstoff, Dimethyldiphenylharnstoff, Methylethyldiphenylharnstoff (Centralite); ee. N,N-Diphenylharnstoff (unsymmetrischer Diphenylharn- stoff); ff. Methyl-N,N-Diphenylharnstoff (unsymmetrischer Methyl- diphenylharnstoff); gg. Ethyl-N,N-Diphenylharnstoff (unsymmetrischer Ethyl- diphenylharnstoff); hh. 2-Nitrodiphenylamin (2-NDPA); ii. 4-Nitrodiphenylamin (4-NDPA); jj. 2,2-Dinitropropanol; kk. Chlortrifluorid.

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ML 9 Kriegsschiffe, Marine-Spezialausrüstung und Zubehör A.4 OGB wie folgt sowie Bestandteile hierfür, besonders kon- T: keine struiert für militärische Zwecke: a. Kampfschiffe oder Schiffe, besonders konstruiert oder besonders geändert für Angriffs- oder Verteidigungs- handlungen (über oder unter Wasser), auch wenn für nichtmilitärische Zwecke umgebaut, und ungeachtet ihres derzeitigen Reparaturzustands oder ihrer Betriebs- fähigkeit oder ob sie Waffeneinsatzsysteme oder Panze- rungen enthalten, sowie Schiffskörper oder Teile von Schiffskörpern für solche Schiffe; b. Motoren wie folgt:

1. Dieselmotoren, besonders konstruiert für U-Boote,

mit allen folgenden Eigenschaften: a. Leistung grösser/gleich 1,12 MW und

2. Elektromotoren, besonders konstruiert für U-Boote,

mit allen folgenden Eigenschaften: a. Leistung grösser als 0,75 MW; b. schnell umsteuerbar; c. flüssigkeitsgekühlt; und d. vollständig gekapselt;

3. nichtmagnetische Dieselmotoren mit einer Leistung

grösser/gleich 37,3 kW und mit einem nichtmagneti- schen Anteil von mehr als 75 % des Gesamtgewichts; c. Unterwasserortungsgeräte, besonders konstruiert für mi- litärische Zwecke, und Steuereinrichtungen hierfür; d. U-Boot- und Torpedonetze; e. Lenk- und Navigationsausrüstung, besonders konstruiert für militärische Zwecke; f. Schiffskörperdurchführungen und -steckverbinder, be- sonders konstruiert für militärische Zwecke, die das Zu- sammenwirken mit Ausrüstung ausserhalb eines Schiffes ermöglichen; Anmerkungen:

1. Unternummer ML9f schliesst Steckverbinder für Schiffe in

Einzelleiter-, Mehrfachleiter-, Koaxial- und Hohlleiteraus- führung sowie Schiffskörperdurchführungen ein, die jeweils unbeeinflusst bleiben von (eventuellem) Leckwasser von aussen und die geforderten Merkmale in Meerestiefen von mehr als 100 m beibehalten, sowie faseroptische Steckver- binder und optische Schiffskörperdurchführungen, beson- ders konstruiert für den Durchgang von Laserstrahlen, unab- hängig von der Wassertiefe.

2. Die Unternummer ML 9f umfasst nicht übliche Schiffskör-

perdurchführungen für Antriebswellen und Ruderschäfte.

Güterkontrollverordnung AS 1999

g. geräuscharme Lager, besonders konstruiert für militäri- sche Zwecke, mit aerodynamischer/aerostatischer Schmierung oder magnetischer Aufhängung, aktiv kon- trollierter Signatur- oder Schwingungsunterdrückung, und Ausrüstung, die solche Lager enthält. ML 10 Luftfahrzeuge, unbemannte Luftfahrzeuge, Triebwerke, A.4 OGB Luftfahrzeug-Ausrüstung, Zusatzausrüstung und T: keine Bestandteile, besonders konstruiert oder geändert für militärische Zwecke, wie folgt: a. Kampfflugzeuge und -hubschrauber und besonders kon- struierte Bestandteile hierfür; b. andere Luftfahrzeuge, besonders konstruiert oder geän- dert für militärische Zwecke, einschliesslich militäri- scher Aufklärung, militärischen Angriffs, militärischer Ausbildung, Beförderung und Luftlandung von Truppen oder militärischer Ausrüstung, logistische Unterstützung sowie besonders konstruierte Bestandteile hierfür; Anmerkung: Siehe auch Anhang 2, Nummer 7A099. c. Triebwerke, besonders konstruiert oder geändert für mi- litärische Zwecke, und besonders konstruierte Bestand- teile hierfür; d. unbemannte Luftfahrzeuge und zugehörige Ausrüstung, besonders konstruiert oder geändert für militärische Zwecke, wie folgt, sowie besonders konstruierte Be- standteile hierfür:

1. unbemannte Luftfahrzeuge einschliesslich fernge-

lenkter Flugkörper (remotely piloted air vehicles – RPVs –) und autonome programmierbare Fahrzeuge,

2. zugehörige Startgeräte und unterstützende Bodenge-

räte,

3. zugehörige Ausrüstung für die Steuerung;

e. Bordausrüstung einschliesslich der Einrichtungen für Luftbetankung, besonders konstruiert für die Verwen- dung in den von Unternummer ML 10a oder ML 10b erfassten Luftfahrzeugen oder in den von Unternummer ML 10c erfassten Triebwerken, und besonders konstru- ierte Bestandteile hierfür; f. Tankwagen und Ausrüstung zum Druckbetanken, be- sonders konstruierte Ausrüstung zur Erleichterung von Operationen in begrenzten Abschnitten und Boden- geräten, besonders entwickelt für die von Unternummer ML 10a oder ML 10b erfassten Luftfahrzeuge oder für die von Unternummer ML 10c erfassten Triebwerke;

Güterkontrollverordnung AS 1999

g. nach dem Überdruckprinzip arbeitende Atemgeräte und Überdruckanzüge für einzelne Körperteile zur Verwen- dung in Luftfahrzeugen, Anti-g-Anzüge, militärische Sturzhelme und Schutzmasken, Geräte zum Umwandeln von flüssigem in gasförmigen Sauerstoff für Luftfahr- zeuge oder Flugkörper, katapult- und patronenbetätigte Einrichtungen zum Notausstieg der Besatzung aus Luft- fahrzeugen; h. Fallschirme für Kampftruppen oder zum Absetzen von Lasten oder Bremsschirme für Luftfahrzeuge wie folgt:

1. Fallschirme für

a. Punktziel-Absprung von Einzelkämpfern; b. Absprung von Fallschirmjägern;

2. Lastenfallschirme;

3. Para-Gleiter, Bremsschirme, Steuerschirme zur Stabi-

lisierung und Steuerung der Fluglage fallender Körper (z. B. Rettungskapseln, Schleudersitze, Bomben);

4. Steuerschirme für die Verwendung in Schleudersitz-

systemen zur Steuerung des Entfaltungs- und Fül- lungsablaufs von Notfallschirmen;

5. Bergungsfallschirme für Lenkflugkörper, Drohnen

und Raumfahrzeuge;

6. Landeanflugbremsschirme und Landebremsschirme;

7. andere militärische Fallschirme;

i. automatische Lenksysteme für Fallschirmlasten, für mi- litärische Zwecke besonders konstruierte oder besonders geänderte Geräte für das gesteuerte Entfalten bei Ab- sprüngen aus beliebiger Höhe einschliesslich Sauerstoff- geräten. Anmerkungen:

1. Unternummer ML 10b erfasst nicht Luftfahrzeuge, oder Vari-

anten dieser Luftfahrzeuge, besonders konstruiert für militäri- sche Zwecke, die: a. nicht für eine militärische Verwendung konfiguriert sind (mit höchstens zwei Aufhängevorrichtungen) und die nicht mit technischen Ausrüstungen oder Zusatzeinrichtungen versehen sind, die für militärische Zwecke besonders kon- struiert oder geändert sind; und b. von einer Zivilluftfahrtbehörde eines Teilnehmerstaates für die zivile Verwendung zugelassen sind.

2. Unternummer ML 10c erfasst nicht:

a. Triebwerke, konstruiert oder geändert für militärische Zwecke, die von einer Zivilluftfahrtbehörde eines Teilnehmerstaates für die Verwendung in zivilen Luftfahrzeugen zugelassen sind, sowie deren besonders konstruierte Bestandteile, b. Kolbentriebwerke oder deren besonders konstruierte Be- standteile.

Güterkontrollverordnung AS 1999

3. Die Erfassung in Unternummern ML 10b und ML 10c von be-

sonders konstruierten Bestandteilen und zugehöriger Ausrüs- tung für nichtmilitärische Luftfahrzeuge oder Triebwerke, die für militärische Zwecke geändert sind, erstreckt sich nur auf solche militärischen Bestandteile und zugehörige militärische Ausrüstung, die für die Änderung für militärische Zwecke nötig sind. ML 11 Elektronische Ausrüstung, soweit nicht anderweitig von A.4 OGB Anhang 3 erfasst, besonders konstruiert für militärische T: keine Zwecke, und besonders konstruierte Bestandteile hier- für. Anmerkung: Nummer ML 11 schliesst folgende Ausrüstung ein: a. Ausrüstung für elektronische Gegenmassnahmen (ECM) und elektronische Schutzmassnahmen (ECCM), einschliesslich elektronischer Ausrüstung zum Stören und Gegenstören, d. h. Geräte, konstruiert, um in Radar- oder Funkgeräten Störsignale oder verfälschende Signale zu erzeugen oder auf andere Weise den Empfang, den Betrieb oder die Wirksamkeit gegnerischer Empfänger einschliesslich der Geräte für Gegenmassnahmen zu stören; b. schnell abstimmbare Röhren (frequency agile tubes); c. elektronische Systeme oder Ausrüstung, konstruiert entweder für die Überwachung und Beobachtung des elektromagneti- schen Spektrums für Zwecke des militärischen Nachrichtenwe- sens bzw. der militärischen Sicherheit oder um derartigen Überwachungs- und Beobachtungsmassnahmen entgegenzu- wirken; d. Ausrüstung für Unterwassergegenmassnahmen einschliesslich akustischer und magnetischer Störung und Täuschung, die in Sonarempfängern Störsignale oder verfälschende Signale er- zeugen; e. Geräte zum Schutz der Datenverarbeitung, Datensicherungsge- räte und Geräte zur Sicherung der Datenübertragung und Zei- chengabe, die Verschlüsselungsverfahren verwenden, f. Identifizierungs-, Authentisierungs- und Kennungsladegeräte (keyloader) sowie Schlüssel-Management, -Generierungs- und -Verteilungsausrüstung. ML 12 Waffensysteme mit hoher kinetischer Energie (high ve- A.4 OGB locity kinetic energy weapon systems) und zugehörige T: keine Ausrüstung wie folgt sowie besonders konstruierte Be- standteile hierfür: a. Waffensysteme mit hoher kinetischer Energie (kinetic energy weapon systems), besonders konstruiert für die Vernichtung oder Abwehr (Unterbrechung des Einsat- zes) eines gegnerischen Objekts; b. besonders konstruierte Mess- und Auswertungsvorrich- tungen sowie Versuchsmodelle einschliesslich Diagno-

seinstrumentierungen und Diagnoseobjekten für die dy- namische Prüfung von Geschossen und Systemen mit hoher kinetischer Energie.

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Anmerkungen:

1. Nummer ML 12 schliesst folgende Ausrüstung ein, sofern sie

besonders konstruiert ist für Waffensysteme mit hoher kineti- scher Energie: a. Startantriebssysteme, die Massen grösser als 0,1 g auf Ge- schwindigkeiten über 1,6 km/s in den Betriebsarten Einzel- feuer oder Schnellfeuer beschleunigen können; b. Ausrüstung für die Erzeugung von Primärenergie, Elektro- schutz (electric armour), Energiespeicherung, Kontrolle des Wärmehaushalts und Klimatisierung, Schaltvorrichtungen und Ausrüstung für die Handhabung von Treibstoffen, elek- trische Schnittstellen zwischen Stromversorgung, Geschütz und anderen elektrischen Richtfunktionen des Turms; c. Zielerfassungs-, Zielverfolgungs-, Feuerleitsysteme und Sy- steme zur Wirkungsermittlung; d. Zielsuch-, Zielansteuerungssysteme und Systeme zur Um- lenkung des Vortriebs (seitliche Beschleunigung) für Ge- schosse.

2. Nummer ML 12 erfasst Systeme, die eine der folgenden An-

triebsarten verwenden: a. elektromagnetisch; b. elektrothermisch; c. Plasmaantrieb; d. Leichtgasantrieb; oder e. chemisch (sofern in Kombination mit den zu a bis d aufge- führten Antriebsarten verwendet).

3. Nummer ML 12 erfasst nicht die Technologie für die magneti-

sche Induktion zum Dauerantrieb ziviler Transporteinrichtun- gen.

4. Waffen, die Unterkalibermunition verwenden oder allein mit

chemischem Antrieb arbeiten, und Munition hierfür: Siehe Nummern ML 1, ML 2, ML 3 und ML 4. ML 13 Spezialpanzer- oder Schutzausrüstung und Konstruk- A.4 OGB tionen sowie Bestandteile wie folgt: T: keine a. Panzerplatten wie folgt:

1. hergestellt, um einen militärischen Standard oder eine

militärische Spezifikation zu erfüllen; oder

2. geeignet für militärische Zwecke;

b. Konstruktionen aus metallischen und nichtmetallischen Werkstoffen oder Kombinationen hieraus, besonders konstruiert, um militärische Systeme beschussfest zu machen; c. militärische Helme; d. Körperpanzer (z. B. Panzerwesten, Panzeranzüge), die gemäss militärischen Standards bzw. Spezifikationen oder hierzu gleichwertigen Leistungsanforderungen her- gestellt sind, und besonders konstruierte Bestandteile hierfür. Anmerkungen:

1. Unternummer ML 13b schliesst Werkstoffe ein, besonders kon-

struiert zur Bildung einer explosionsreaktiven Panzerung oder zum Bau militärischer Unterstände (shelters);

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2. Unternummer ML 13c erfasst nicht herkömmliche Stahlhelme,

die weder mit Zusatzgeräten ausgerüstet noch für die Ausrüs- tung mit Zusatzgeräten geändert oder konstruiert sind;

3. Unternummer ML 13d erfasst nicht einzelne Körperschutz-

westen und Zubehör hierfür, wenn diese von ihren Benutzern zu deren eigenem persönlichen Schutz mitgeführt werden. Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Anhang 2, Nummer 1A005. ML 14 Spezialisierte Ausrüstung für die militärische Ausbil- A.4 OGB dung oder für die Simulation militärischer Szenarien T: keine sowie besonders konstruierte Bestandteile und beson- ders konstruiertes Zubehör hierfür. Technische Anmerkung: Der Begriff spezialisierte Ausrüstung für die militärische Aus- bildung schliesst militärische Ausführungen von folgender Aus- rüstung ein: Angriffssimulatoren; Einsatzflug-Übungsgeräte; Radar-Zielübungsgeräte; Radar-Zielgeneratoren; Feuerleit-Übungsgeräte; Übungsgeräte für die U-Boot-Bekämpfung; Flugsimulatoren, einschliesslich der für das Training von Piloten oder Astronauten ausgelegten Zentrifugen; Radartrainer; Instrumentenflug-Übungsgeräte; Navigations-Übungsgeräte; Übungsgeräte für den Flugkörperstart; Zieldarstellungsgeräte; Drohnen; Waffen-Übungsgeräte; Geräte für Übungen mit unbemannten Luftfahrzeugen; bewegliche Übungsgeräte. Anmerkung: Nummer ML 14 schliesst Systeme zur Bilderzeugung (image ge- nerating) oder zum Dialog mit der Umgebung für Simulatoren ein, sofern sie für militärische Zwecke besonders konstruiert oder be- sonders geändert sind. ML 15 Bildausrüstung oder Ausrüstung für Gegenmassnah- A.4 OGB men, besonders konstruiert für militärische Zwecke, wie T: keine folgt, sowie besonders konstruierte Bestandteile und be- sonders konstruiertes Zubehör hierfür: a. Aufzeichnungsgeräte und Bildverarbeitungsausrüstung; b. Kameras, fotografische Ausrüstung und Filmverarbei- tungsausrüstung; c. Bildverstärkerausrüstung; d. Infrarot- oder Wärmebild-Ausrüstung; e. Kartenbildradar-Sensorausrüstung; f. Ausrüstung für Gegenmassnahmen (ECM) und zum Schutz vor Gegenmassnahmen (ECCM) für die von den Unternummern ML 15a bis ML 15e erfasste Ausrüstung.

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Anmerkung: Unternummer ML 15f schliesst Ausrüstung ein, konstruiert zur Beeinträchtigung des Betriebs oder der Wirksamkeit militäri- scher Bildsysteme oder zur Reduzierung solcher Beeinträchti- gungen auf ein Minimum. Anmerkungen:

1. Der Begriff «besonders konstruierte Bestandteile» schliesst fol-

gende Einrichtungen ein, sofern sie für militärische Zwecke be- sonders konstruiert sind: a. IR-Bildwandlerröhren; b. Bildverstärkerröhren (andere als solche der ersten Genera- tion); c. Mikrokanalplatten; d. Restlichtfernsehkameraröhren; e. Detektorgruppen (einschliesslich elektronischer Kopplungs- oder Ausgabesysteme); f. pyroelektrische Fernsehkameraröhren; g. Kühler für Bildsysteme; h. photochrome oder elektrooptische elektrisch ausgelöste Ver- schlüsse mit einer Verschlussgeschwindigkeit kleiner als

100 µs, ausgenommen Verschlüsse, die ein wesentlicher Teil

einer Hochgeschwindigkeitskamera sind, i. faseroptische Bildinverter; j. Verbindungshalbleiter-Fotokathoden.

2. Nummer ML 15 erfasst nicht Bildverstärkerröhren der ersten

Generation oder Ausrüstung, besonders konstruiert für den Ein- satz von Bildverstärkerröhren der ersten Generation. Ergänzende Anmerkung: Zur Erfassung von Waffenzielgeräten mit Bildverstärkerröhren der ersten Generation: Siehe Unternummern ML 1d, ML 2c und Ergänzende Anmerkung: Siehe auch Anhang 2, Unternummern 6A002a² und 6A002b. ML 16 Schmiedestücke, Gussstücke und andere unfertige Er- A.4 OGB zeugnisse, deren Verwendung in einer erfassten Ware T: keine anhand von Materialzusammensetzung, Geometrie oder Funktion bestimmt werden kann und die für eine der von Nummern ML 1, ML 2, ML 3, ML 4, ML 6, ML 9, ML 10, ML 12 oder ML 19 erfassten Waren besonders konstruiert sind. ML 17 Verschiedene Ausrüstungsgegenstände, Materialien und A.4 OGB Bibliotheken wie folgt sowie besonders konstruierte Be- T: keine standteile hierfür: a. unabhängige Tauch- und Unterwasserschwimmgeräte wie folgt:

1. Atemgeräte mit geschlossener und halbgeschlossener

Atemlufterneuerung, besonders konstruiert für militä- rische Zwecke (z. B. besondere amagnetische Kon- struktion);

2. besonders konstruierte Bestandteile zur Umrüstung

von Geräten mit offenem Kreislauf in solche für mili- tärische Zwecke;

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3. Gegenstände, ausschliesslich konstruiert für die mili-

tärische Verwendung mit von Unternummer ML 17a erfassten Geräten; b. Bauausrüstung, besonders konstruiert für militärische Zwecke; c. Halterungen (fittings), Beschichtungen und Behandlun- gen für die Unterdrückung von Signaturen, besonders konstruiert für militärische Zwecke; d. Ausrüstung für technische Betreuung, besonders kons- truiert für den Einsatz in einer Kampfzone; e. Roboter, Robotersteuerungen und Roboter- Endeffektoren mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. besonders konstruiert für militärische Zwecke;

2. ausgestattet mit Mitteln zum Schutz der Hydrau-

likleitungen gegen Beschädigungen von aussen durch umherfliegende Munitionssplitter (z. B. selbstdich- tende Leitungen) und konstruiert für die Verwendung von Hydraulikflüssigkeiten mit einem Flammpunkt über 839 K (566 °C) oder

3. besonders konstruiert oder ausgelegt für einen Einsatz

in einer EMP-Umgebung (EMP = elektromagneti- scher Puls); f. Bibliotheken (parametrische technische Datenbanken), besonders entwickelt für militärische Zwecke in Verbin- dung mit Ausrüstung, die von Anhang 3 erfasst wird; g. Nukleare Energieerzeugungs- oder Antriebsausrüstung, einschliesslich Kernreaktoren, besonders konstruiert für militärische Zwecke, sowie besonders für militärische Zwecke konstruierte oder geänderte Bestandteile; h. Ausrüstung und Material, beschichtet oder behandelt für die Unterdrückung von Signaturen, besonders konstru- iert für militärische Zwecke, soweit nicht anderweitig von Anhang 3 erfasst; Anmerkung: Unternummer ML 17h erfasst nicht einzelne Erzeugnisse aus vorgenanntem Material einschliesslich Bekleidung, wenn diese von ihren Benutzern zu deren eigenem persönlichem Gebrauch mitgeführt werden. i. Simulatoren, besonders konstruiert für militärische Kernreaktoren; j. mobile Reparaturwerkstätten, besonders konstruiert zur Wartung militärischer Ausrüstung; k. mobile Stromerzeugeraggregate, besonders konstruiert für militärische Zwecke;

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l. Container, besonders konstruiert für militärische Zwecke. Technische Anmerkung: «Besonders konstruiert für militärische Zwecke» im Sinne von Unternummer ML 17l ist die Ausstattung mit einer der folgen- den militärspezifischen Eigenschaften: a. Schutz gegen EMP (EMP = elektromagnetischer Puls), b. ABC-Schutz, c. Beschichtung zur Signaturunterdrückung (Infrarot oder Ra- dar) oder d. ballistischer Schutz. Technische Anmerkung: «Bibliothek» (parametrische technische Datenbank) im Sinne von Nummer ML 17 ist eine Sammlung technischer Informationen militärischer Natur, deren Ausnutzung die Leistungsfähigkeit mi- litärischer Ausrüstung oder Systeme erhöhen kann. ML 18 Ausrüstung und Technologie für die Herstellung der in A.4 OGB Anhang 3 genannten Waren wie folgt: T: keine a. besonders konstruierte oder besonders geänderte Aus- rüstung für die Herstellung der von Anhang 3 erfassten Waren und besonders konstruierte Bestandteile hierfür; b. besonders konstruierte Umweltprüfeinrichtungen für die Zulassungs- und Eignungsprüfung der von Anhang 3 erfassten Waren und besonders konstruierte Ausrüstung hierfür; c. spezifische Technologie für die Herstellung der von An- hang 3 erfassten Waren, auch wenn die Ausrüstung, bei der diese Technologie angewendet wird, nicht erfasst wird; d. spezifische Technologie für Konstruktion, Bestandteil- montage, Betrieb, Wartung und Instandsetzung vollstän- diger Herstellungsanlagen, auch wenn die Bestandteile selbst nicht erfasst werden. Anmerkungen:

1. Unternummern ML 18a und ML 18b schliessen folgende Aus-

rüstung ein: a. kontinuierlich arbeitende Nitrieranlagen; b. Prüfzentrifugen mit einer der folgenden Eigenschaften:

1. Antrieb durch einen oder mehrere Motoren mit einer Ge-

samtnennleistung grösser als 298 kW;

2. Nutzlast grösser/gleich 113 kg; oder

3. Ausübung einer Zentrifugalbeschleunigung von mindes-

tens 8 g auf eine Nutzlast grösser/gleich 91 kg (g = Erd- beschleunigung [9,81 m/sec2]); c. Trockenpressen; d. Schneckenstrangpressen, besonders konstruiert oder geän- dert für militärische Treibstoffe; e. Schneidmaschinen zum Ablängen stranggepresster Treib- stoffe;

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f. Dragierkessel (Taumelmischer) mit Durchmessern grösser/gleich 1,85 m und einem Produktionsvermögen grö- sser als 227 kg; g. Stetigmischer für Festtreibstoffe; h. Strahlmühlen (fluid energy mills) zum Zerkleinern oder Mahlen der Bestandteile von militärischen Treibstoffen; i. Ausrüstung zur Erzeugung von Kugelform mit einheitlicher Partikelgrösse bei den in Unternummer ML 8a¹ aufgeführ- ten Metallpulvern; j. Konvektionsströmungskonverter (convection current con- verters) für die Konversion der in Unternummer ML 8a6 aufgeführten Stoffe.

2. a. Der Begriff «in Anhang 3 genannte Waren» schliesst ein:

1. Waren, die nicht erfasst sind, weil sie geringere als die

spezifizierten Konzentrationen haben, wie folgt: a. Hydrazin (siehe Unternummer ML 8a18); b. militärische Explosivstoffe (siehe Nummer ML 8).

2. supraleitende Werkstoffe, die gemäss Anhang 2, Num-

mer 1C005 von der Erfassung ausgenommen sind, su- praleitende Elektromagnete, die gemäss Anhang 2, Un- ternummer 3A001e3 von der Erfassung ausgenommen sind, supraleitende elektrische Ausrüstung, die gemäss Unternummer ML 20b von der Erfassung ausgenommen ist;

3. metallische Treibstoffe und Oxidationsmittel, die in la-

minarer Form aus der Dampfphase abgeschieden sind (siehe Unternummer ML 8a²; b. Der Begriff «in Anhang 3 genannte Waren» schliesst nicht ein:

1. Signalpistolen (siehe Unternummer ML 2b);

2. Stoffe, die gemäss Anmerkung 3 zu Nummer ML 7 von

der Erfassung ausgenommen sind;

3. Strahlendosimeter für den persönlichen Gebrauch und

Arbeitsschutzmasken gegen bestimmte Gefahren im ge- werblichen Bereich (siehe Unternummer ML 7f);

4. Acetylen, Propan, flüssigen Sauerstoff, Difluoramin

(HNF², rauchende Salpetersäure und Kaliumnitratpulver (siehe Anmerkung 5 zu Nummer ML 8);

5. Flugtriebwerke, die gemäss Nummer ML 10 von der Er-

fassung ausgenommen sind;

6. herkömmliche Stahlhelme, die weder mit Zusatzgeräten

ausgerüstet noch für die Ausrüstung mit Zusatzgeräten geändert oder konstruiert sind (siehe Anmerkung 2 zu Nummer ML 13);

7. Ausrüstung, die mit nicht erfassten industriellen Maschi-

nen versehen ist, wie nicht anderweitig genannte Be- schichtungseinrichtungen und Geräte zum Giessen von Kunststoffen;

8. Musketen, Gewehre und Karabiner, die vor 1938 herge-

stellt wurden, Nachbildungen von Musketen, Gewehren und Karabinern, deren Originale vor 1890 hergestellt wurden, Revolver, Pistolen und Maschinenwaffen, die vor 1890 hergestellt wurden, und ihre Nachbildungen (hierdurch wird nicht die Ausfuhr von Technologie oder Herstellungsausrüstung für übliche Schusswaffen freige- stellt, auch wenn sie zur Herstellung von Nachbildungen von antiken Schusswaffen eingesetzt wird).

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3. Unternummer ML 18d erfasst keine Technologie für zivile

Zwecke, z. B. für Landwirtschaft, Pharmazie, Medizin, Tier- heilkunde, Umwelt und Nahrungsmittelindustrie (siehe Anmer- kung 5 zu Nummer ML 7). ML 19 Strahlenwaffen-Systeme, zugehörige Ausrüstung, Aus- A.4 OGB rüstung für Gegenmassnahmen oder Versuchsmodelle T: keine wie folgt und besonders konstruierte Bestandteile hier- für: a. Laser-Systeme, besonders konstruiert für die Vernich- tung oder Abwehr (Unterbrechung des Einsatzes) eines gegnerischen Objekts; b. Teilchenstrahl-Systeme, geeignet für die Vernichtung oder Abwehr (Unterbrechung des Einsatzes) eines geg- nerischen Objekts; c. energiereiche Hochfrequenzsysteme, geeignet für die Vernichtung oder Abwehr (Unterbrechung des Einsat- zes) eines gegnerischen Objekts; d. Ausrüstung, besonders konstruiert für die Entdeckung, Identifizierung oder Abwehr der von Unternummern e. physische Versuchsmodelle und zugehörige Dokumen- tation für die von Nummer ML 19 erfassten Systeme, Ausrüstung und Bestandteile. f. Dauerstrich- oder gepulste Laser-Systeme, besonders konstruiert, um eine dauerhafte Erblindung bei einer Be- obachtung ohne vergrössernde Optik zu verursachen, d.h. bei einer Beobachtung mit unbewaffnetem Auge oder mit korrigierender Sehhilfe. Anmerkungen:

1. Von Nummer ML 19 erfasste Strahlenwaffen schliessen Syste-

me ein, deren Leistungsfähigkeit bestimmt wird durch den kontrollierten Einsatz von a. Lasern mit einer Dauerstrich- oder Impulsenergie, die eine mit herkömmlicher Munition vergleichbare Vernichtungs- wirkung erreichen; b. Teilchenbeschleunigern, die einen geladenen oder ungelade- nen Strahl mit Vernichtungswirkung aussenden; c. Hochfrequenzsendern mit hoher Impulsenergie oder hoher Durchschnittsenergie, die ein ausreichend starkes Feld er- zeugen, um elektronische Schaltungen in einem entfernt lie- genden Ziel ausser Betrieb zu setzen.

2. Nummer ML 19 schliesst folgende Ausrüstung ein, sofern sie

besonders konstruiert ist für Strahlenwaffensysteme: a. Geräte für die Erzeugung von Primärenergie, Energiespei- cher, Schaltvorrichtungen, Geräte für die Energiekonditio- nierung und Geräte für die Handhabung von Treibstoffen; b. Zielerfassungs- und Zielverfolgungssysteme; c. Systeme für die Auswertung der Schadenswirkung, Zerstö- rung oder Einsatzunterbrechung;

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d. Geräte für die Strahllenkung, -ausbreitung und -ausrichtung; e. Geräte für die rasche Strahlschwenkung zur schnellen Be- kämpfung von Mehrfachzielen; f. anpassungsfähige Optiken oder Phasenkonjugatoren (phase conjugators); g. Strominjektoren für negative Wasserstoffionenstrahlen; h. weltraumgeeignete Beschleuniger-Bestandteile (accelerator components); i. negative Ionenstrahl-Ausweitungs-Ausrüstung (negative ion beam funnelling equipment); j. Ausrüstung zur Steuerung und Schwenkung eines energie- reichen Ionenstrahls; k. weltraumgeeignete Folien zur Neutralisierung von negativen Wasserstoffisotopenstrahlen. ML 20 Kryogenische (Tieftemperatur-) und supraleitende Aus- A.4 OGB rüstung wie folgt sowie besonders konstruierte Bestand- T: keine teile und besonders konstruiertes Zubehör hierfür: a. Ausrüstung, besonders konstruiert oder ausgelegt für den Einbau in ein militärisches Land-, See-, Luft- oder Raumfahrzeug, und fähig, während der Fahrt eine Tem- peratur kleiner als 103 K (–170 °C) zu erzeugen oder aufrechtzuerhalten; Anmerkung: Unternummer ML 20a schliesst mobile Systeme ein, die Zube- hör und Bestandteile enthalten oder verwenden, die aus nicht- metallischen oder nicht elektrisch leitenden Werkstoffen, z. B. aus Kunststoffen oder epoxidharzimprägnierten Werkstoffen, hergestellt sind. b. supraleitende elektrische Ausrüstung (rotierende Ma- schinen und Transformatoren), besonders konstruiert oder besonders ausgelegt für den Einbau in ein militäri- sches Land-, See-, Luft- oder Raumfahrzeug und be- triebsfähig während der Fahrt. Anmerkung: Unternummer ML 20b erfasst nicht hybride, homopolare Gleichstromgeneratoren mit einem einpoligen, normal ausge- legten Metallanker, der in einem Magnetfeld rotiert, das mit Hilfe supraleitender Wicklungen erzeugt wird, vorausgesetzt, dass diese Wicklungen die einzige supraleitende Baugruppe im Generator sind. ML 21 Software wie folgt: A.4 OGB a. Software, besonders entwickelt oder geändert für die T: keine Entwicklung, Herstellung oder Verwendung von Aus- rüstung oder Werkstoffen, die von Anhang 3 erfasst werden; b. Software wie folgt:

1. Software, besonders entwickelt für:

a. Modellierung, Simulation oder Auswertung militä- rischer Waffensysteme;

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b. Entwicklung, Überwachung, Wartung oder Umrü- stung (updating) von in militärischen Waffen- systemen integrierter Software; c. Modellierung oder Simulation militärischer Opera- tionsszenarien, sofern nicht von Nummer ML 14 erfasst; d. Anwendungen im Rahmen von Führungs-, Infor- mations- und Aufklärungssystemen (C3I);

2. Software für die Ermittlung der Wirkung herkömmli-

cher, atomarer, chemischer oder biologischer Kampf- mittel. ML 22 Technologie, die nicht von Nummer ML 7 oder ML 18 A.4 OGB erfasst wird, entsprechend der Allgemeinen Technolo- T: keine gie-Anmerkung für militärische Güter für die Entwick- lung, Herstellung oder Verwendung von Gütern, die von Anhang 3 erfasst werden. Anmerkung: Nummer ML 22 erfasst nicht Technologie-Information, deren Weitergabe im Rahmen von Angebotsverfahren unbedingt erfor- derlich ist.

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Anhang 4 Liste der Länder nach Artikel 8 und 13:

Argentinien Australien Belgien Dänemark Deutschland Finnland Frankreich Griechenland Grossbritannien Irland Italien Japan Kanada Luxemburg Neuseeland Niederlande Norwegen Österreich Polen Portugal Schweden Spanien Tschechische Republik Ungarn Vereinigte Staaten von Amerika

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Verzeichnis der verwendeten Abkürzungen Abkürzungen, für die eine Definition vorliegt: siehe Begriffsbestimmungen

ABEC Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Wälzlagerher- steller (Annular Bearing Engineers Committee) ABEC Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Wälzlagerher- steller (Annular Bearing Engineers Committee) AGMA Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Getriebeherstel- ler (American Gear Manufacturers’ Association) AHRS Lage- und Kurs-Referenzsystem (attitude and heading reference systems) ALU Arithmetisch-Logische Einheit (arithmetic logic unit) ATC Luftverkehrskontrolle (air traffic control) AVLIS Isotopentrennung nach dem atomaren Laserverfahren (Atomic Vapour Laser Isotope Separation) C3I Führung, Information und Aufklärung (command, communica- tions, control & intelligence) CAD Rechnerunterstützter Entwurf (computer-aided-design) CAS Chemical Abstracts Service CDU Bedienungs- und Anzeigeeinheit (control and display unit) CEP CEP-Wert (circular error probable) CNTD Thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung (controlled nucleation thermal deposition) CRISLA Laserangeregtes chemisches Verfahren (Chemical Reaction by Isotope Selective Laser Activation) CVD Chemische Beschichtung aus der Gasphase (chemical vapour deposition) CW Chemische Kampfführung (chemical warfare) CW (für Laser) Dauerstrich (continuous wave) DEW Waffensysteme mit gerichteter Energie (directed energy weapon systems) DME Entfernungsmesseinrichtung (distance measuring equipment) DS Gerichtete Erstarrung (directionally solidified) EB-PVD Physikalische Beschichtung aus der Gasphase durch thermisches Verdampfen (electron beam physical vapour deposition) EBU European Broadcasting Union ECM Elektrochemische Abtragung (electro-chemical machining) ECR Elektronenzyklotonresonanz (electron cyclotron resonance) EDM Funkenerosionsmaschinen (electrical discharge machines) EEPROMS Elektrisch programmierbarer und löschbarer Festwertspeicher (electrically erasable programmable read only memory) EIA Verband der Elektronikindustrie (Electronic Industries Association) EMC Elektromagnetische Verträglichkeit (electromagnetic compatibility) FFT Schnelle Fouriertransformation (Fast Fourier Transform) GLONASS Globales Satellitennavigationssystem (global navigation satellite system)

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GPS Globales Positionierungssystem (global positioning system) HBT Hetero-Bipolartransistor (hetero-bipolar transistors) HDDR Digitale Aufzeichnung hoher Dichte (high density digital recor- ding) HEMT Transistor auf der Basis hoher Elektronenbeweglichkeit (high electron mobility transistors) ICAO Internationale zivile Luftfahrtorganisation (International Civil Aviation Organisation) IEC Internationale Elektrotechnische Kommission IEEE Institute of Electrical and Electronic Engineers IFOV Momentaner Bildfeldwinkel (instantaneous-field-of-view) ILS Instrumentenlandesystem (instrument landing system) IRIG Ausschuss zur Normung von Aufzeichnungsmethoden (inter-range instrumentation group) ISAR Radar mit inverser künstlicher Apertur (inverse synthetic aperture radar) ISO Internationale Organisation für Standardisierung (International Or- ganization for Standardization) ITU Internationale Fernmeldeunion (International Telecommunication Union) JIS Japanischer Industriestandard (Japanese Industrial Standard) JT Joule-Thomson (Joule-Thomson) LIDAR Laser- oder Lichtradar (light detection and ranging) LRU Auswechselbare Einheit (line replaceable unit) MAC Datensicherungscode (message authentication code) Mach Verhältnis der Geschwindigkeit eines Objektes zu der von Schall [nach Ernst Mach] (ratio of speed of an object to speed of sound [after Ernst Mach]) MLIS Isotopentrennung nach dem molekularen Laserverfahren (Molecular Laser Isotope Separation) MLS Mikrowellenlandesystem (microwave landing systems) MOCVD CVD-Verfahren auf der Basis metallorganischer Verbindungen (metal organic chemical vapour deposition) MRI Magnetresonanzbilderzeugung (magnetic resonance imaging) MTBF Mittlere ausfallfreie Zeit (mean-time-between-failures) Mtops Millionen theoretischer Operationen pro Sekunde (million theore- tical operations per second) MTTF Mittlere Zeit bis zum beobachteten Fehler (mean-time-to-failure) NBC ABC (Nuclear, Biological and Chemical) NDT Zerstörungsfreier Test (non-destructive test) PAR Präzisionsanflugradar (precision approach radar) PIN Persönliche Identifikationsnummer (personal identification num- ber) ppm Entspricht 1 x 10-6 (parts per million) PSD Spektrale Leistungsdichte (power spectral density) QAM Quadratur-Amplituden-Modulation (quadrature-amplitude- modulation) RF Hochfrequenz (radio frequency)

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RPV Ferngesteuerte Flugobjekte (remotely piloted air vehicles) SACMA Qualitätsnorm des Verbandes der amerikanischen Hersteller von modernen Verbundwerkstoffen (Suppliers of Advanced Composite Materials Association) SAR Radar mit künstlicher Apertur (synthetic aperture radar) SC Einkristall [monokristallin] (single crystal) SLAR Seitensicht-Luftfahrzeug-Bordradarsystem (sidelooking airborne radar) SMPTE Society of Motion Picture & Television Engineers SRA Auswechselbare Baugruppe (shop replaceable assembly) SRAM Statischer Schreib-Lese-Speicher (static random access memory) SRM Ausschuss zur Normung von Materialprüfmethoden (SACMA Re- commended Methods) SSB Einseitenband (single sideband) SSR Sekundärüberwachungsradar (secondary surveillance radar) TCSEC Amerikanische Beurteilungsnorm für die Informationssicherheit von Rechnersystemen (trusted computer system evaluation criteria) TIR Gesamtmessuhrausschlag (total indicated reading) UTS Zugfestigkeit (ultimate tensile strength) VOR UKW-Drehfunkfeuer (very high frequency omni-directional range) YAG Yttrium-Aluminium-Granat (yttrium/aluminum garnet)

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Stichwortverzeichnis Das Stichwortverzeichnis soll eine praktische Hilfe für den Benutzer sein, gehört aber nicht zum Text der Ausfuhrliste und hat keine rechtliche Verbindlichkeit. Et- waige Unvollständigkeiten des Stichwortverzeichnisses können die unterlassene Be- antragung einer erforderlichen Ausfuhrgenehmigung unter keinen Umständen recht- fertigen. Zeichenerklärung: DEF = Fundstelle ist in den Begriffsbestimmungen Anmerkung: Vorschläge oder Anmerkungen zum Stichwortverzeichnis senden Sie bitte an Staatssekretariat für Wirtschaft (seco) Industrieprodukte Effingerstrasse 1

3003 Bern

Stichwort Index

1,1,3-Trinitroazetidin (TNAZ) ML 8a 1,2-Bis-(2-chlorethylthio)-ethan ML 7 1,2,3-Tris [(1,2-bis-difluoramino)ethoxy]propan (TVOPA) ML 8e 1,2,4-Butantriol ML 8e 1,2,4-Trihydroxybutan ML 8e 1,3,5-Trichlorbenzol ML 8e 1,3,5,7-Tetraacetyl-1–3,5,7-tetraazacyclooktan (TAT) ML 8e 1,4,5,8-Tetraazadekalin ML 8e 1,4,5,8-Tetranitro-1,4,5,8-tetraazadecalin (TNAD) ML 8a [(2-Propenolat-1)methyl-N-propenolatomethyl] butanolat- ML 8e 1-tris(dioctyl)phosphat [(2-Propenolat-1)methyl-N-propenolatomethyl] butanolat- ML 8e 1-tris(dioctyl)-pyrophosphat (KR3538) 2-(5-Cyanotetrazolato) pentaaminkobalt(III)perchlorat (CP) ML 8a 2-Chlorethanol 1C350 2-Chlorethylchlormethylsulfid ML 7 2-Chlorvinyldichlorarsin ML 7 2-Methylaziridin ML 8e 2-Nitrodiphenylamin 1C111c 2,2-[Bis-2-propenolat-methyl-butanolattris(dioctyl)-phos- ML 8e phat-O] (LICA 12) 2,2-Bis-ethylferrocenylpropan ML 8e 2,4,5-trichlorphenoxyessigsäure gemischt mit 2,4-dichlor- ML 7 phenoxyessigsäure 2,4,6,8-Tetranitro-2,4,6,8-tetraaza-bicyclo-3,3,0-octanon-3 ML 8a 2,4,6-Trinitro-2,4,6-triaza-cyclo-hexanon (K-6 oder Keto- ML 8a RDX) 3-Chinuclidinol 1C350 3-Chinuclidinylbenzilat ML 7 3-Chinuclidon 1C350 3-Hydroxy-I-methylpiperidin 1C350 3-Nitraza-1,5-pentan-diisocyanat ML 8e 3-Nitro-1,2,4,-triazol-5-on (NTO oder ONTA) ML 8a 5,7-Diamino-4,6-dinitrobenzofurazan-1-oxid (CL-14) ML 8a 7-Amino-4,6-dinitrobenzofurazan-1-oxid (ADNBF) ML 8a Abbildungssysteme, elektronische 8A002f Abfülleinrichtungen, fernbedienbare 2B350f

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Stichwort Index

Abgassysteme 8A002j Absolut-Drehwinkelgeber 3A001f Absorber-Systeme 8A002j Absorptionskolonnen 2B350e Absorptionsmittel f. elektromagn. Wellen 1C001, 1C101 Abstimmbare Laser 6A005c Abstrahlungsunterdrückung 5A002a Abtastkameras 6A003b Abtastkamerasysteme 6A003b Adaptive Steuerung 2D002b, DEF Adaptive Steuerung, Software für 2D002b Additive ML 8e, DEF Additive für Treibstoffe 1C111c Aerosolprüfkammern 2B352g Affenpockenvirus 1C351a Afrikanisches Schweinepest-Virus 1C352a Agent Orange ML 7 AHRS-Systeme, Software für 7D002 Akustik 6A001 Akustik, Software für 6D003a Akustik-Wandler 6A001a Akustikprojektoren 6A001a Akustiksysteme 6A001a Akustikwellenvorrichtungen 3A001c Alexandrit 6C005b Algorithmen, symmetrische, asymmetrische Anmerkung zu Kat. 5, Teil 2, Alkylphenylether 1C006b Alkyl(Me, Et, n-Pr oder i-Pr)-phosphonsäuredio-fluoride ML 7b Allgemeine Elektronik 3 Alphastrahler 1C236 Aluminid-Beschichtung, Technologie 2E003f Aluminide 1C002a Aluminiumoxidfasern 1C010c Amalgamelektrolysezellen 1B233b Amalgampumpen 1B233b Amino-dinitrobenzo-furoxan ML 8a Ammoniak-Synthese 1B227 Ammoniumhydrogendifluorid 1C350 Ammoniumperchlorat ML 8a Analogmagnetbandgeräte 3A002a

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Stichwort Index

Angereichertes Uran DEF Angriffssimulatoren ML 14 Anhängefahrzeuge ML 6 Anhänger, amphibische ML 6 Anisotropes Trockenätzen, Ausrüstung für 3B001c Anlagenteile für chem. Herstellungseinrichtungen 2B350 Anordnungen, fotovoltaische 6A002a Anorganische Auflageschichten, Ausrüstg. 2B005 Antennenkuppeln, Software zur Konstruktion von 6D003d Anti-g-Anzüge ML 10g Antiidiotypische Antikörper DEF Antimonhydride 3C004 Antimonverbindungen, organische 3C003b Antriebe 9 Antriebe, Software für 9D Antriebe, Technologie für 9E Antriebsausrüstung, Herstellungsausrüstung 9B115 Antriebsdaten, Technologie für Integration 7E104 Antriebsdüsen für Flugkörper ML 4a Antriebsmaschinen, elektrische 8A002o Antriebssysteme 9A Anwenderzugängliche Programmierbarkeit 6A001a, DEF Apparate für Chemieanlagen 2B350 Aramid 1C210a Arbeitsschutzmasken ML 18 Arc-Verdampfen, Technologie 2E003f Arrays 6A002a Arsenhydride 3C004 Arsentrichlorid 1C350 Arsenverbindungen, organische 3C003b Artillerietransporter ML 6 Atemlufterneuerung, Unterwasserschwimmgeräte mit 8A002q ATM (Asynchronous Transfer Mode)-Verfahren 5B001b Atomfrequenznormale 3A002g Aufklärungssoftware, militärische ML 21b Auflageschichten, Technologie 2E003f Aufnahmeröhren 6A203b Aujeszky-Virus 1C352a Ausgangsmaterialien, keramische 1C007 Ausgangsmaterialien, Technologie für 1E002c Ausgangsstoffe ML 7, 1C350

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Stichwort Index

Ausgangsstoffe für toxische Wirkstoffe ML 7, 1C350 Ausrüstung für biologische Stoffe 2B352 Ausrüstung für militärische Ausbildung ML 14 Ausrüstung für militärische Zwecke ML 17 Ausrüstung für toxische Gase 2B351 Aussenluftunabhängige Energieanlagen 8A002j Austrittsdüsen für Raketenantriebssysteme 9A006h Auswertungsvorrichtungen, militärische ML 12b Auswuchtmaschinen, rotierende Mehrebenen 2B229, 2D201 Auswuchtvorrichtungen für Kreisel 7B003b Authentisierung 5A002a Authentisierungsgeräte ML 11 Autoklaven, Technologie 1E103 Autokollimatoren 2B006b Automatische Vorwahl und Auswahl der Frequenzen 5A001b² Automatische Zielverfolgung 6A008l, DEF Autopiloten 7A103b Aviäre Influenza Virus 1C352a Azidomethylmethyloxetan (AMMO) und -Polymere ML 8e Aziridinamide, polyfunktionelle ML 8e Bacillus anthracis 1C351c Bandbreite 5A001b3 Bandbreitenfilter 3A002c Bandpassfilter 3A001b Bandsperrfilter 3A001b Bankautomaten, Kryptoeinrichtungen für 5A002 Bankgeräte, Kryptoeinrichtungen für 5A002 Bartonella quintana 1C351b Barverkauf Anmerkung zu Kat. 5, Teil 2 Batterien 3A001e Bauausrüstung für militärische Zwecke ML 17b Beleuchtungseinrichtungen 8A002d Beleuchtungssysteme, Unterwassereinsatz 8A002g Benzilsäure 1C350 Bergungsfahrzeuge ML 6 Bergungsfallschirme ML 10h Bergungssysteme, Hochsee 8A001e Berylliumverbindungen 1C230 Beschichtung mittels Elektronenstrahl (PVD) 2B005c Beschichtungsausrüstung (VD) 1B101c Beschichtungseinrichtungen ML 18

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Stichwort Index

Beschleuniger-Bestandteile, weltraumgeeignet ML 19 Beschleunigungsmesser, Achsenjustierung 7B003f Betriebssystem-Software in Quellcode 4D003a Betriebssysteme zur Echtzeitverarbeitung 4D003d Bewaffnung ML 2 Bewegungsmelder 6A002c Bewegungssteuerung für Tauchfahrzeuge 8A002b Bibliotheken ML 17, ML 17f Bildausrüstung 6A002c Bildausrüstung für militärische Zwecke ML 15 Bilderzeugung für militärische Zwecke ML 14 Bildinverter ML 15 Bildkameras, mechanische 6A203a Bildröhren 6A203b Bildsensorausrüstung 7A115 Bildsensoren 6A203b Bildsensoren, monospektrale 6A002b Bildsensoren, multispektrale 6A002b Bildverarbeitung 4A003, DEF Bildverarbeitung, Geräte für 4A003 Bildverarbeitungsausrüstung ML 15a Bildverstärkerausrüstung ML 15c Bildwandlung, Ausrüstung zur 6A002c Bildwandlung, direkte 6A002c Binärkampfstoffe ML 7b Biokatalysatoren ML 7h, DEF Biokatalysatoren, Technologie für ML 7i Biologische Sicherheitsbereiche 2B352a Biologische Stoffe, Ausrüstung für 2B352 Biologische Systeme ML 7, ML 7h Biopolymere ML 7g, DEF Biopolymere, Technologie für ML 7i Bioreaktoren 2B352b Bis-1,3-(2-chlorethylthio)-n-propan ML 7 Bis-1,4-(2-chlorethylthio)-n-butan ML 7 Bis-1,5-(2-chlorethylthio)-n-pentan ML 7 Bis(2-chlorethyl)-sulfid ML 7 Bis(2-chlorethylthio)-methan ML 7 Bis-(2-chlorethylthiomethyl)-ether ML 7 Bis-(2-chlorethylthioethyl)-ether ML 7 Bis(2-chlorvinyl)-chlorarsin ML 7 Bis(2-fluoro-2,2-dinitroethyl)formal (FEFO) ML 8e Bis-(2-hydroxyethyl)glycolamid (BHEGA) ML 8e Bis(2-methylaziridinyl)-2-(2-hydroxypropanoxy)-propyl- ML 8e aminophosphinoxid (BOBBA 8) Bis(2-methylaziridinyl)-methylaminophosphin-oxid ML 8e (Methyl BAPO)

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Stichwort Index

Bis-(2,2-dinitropropyl)acetal ML 8e Bis-(2,2-dinitropropyl)formal ML 8e Bis(azidomethyl)oxethan und dessen Polymere ML 8e Bis(chlormethyl)oxethan (BCMO) ML 8e Bismaleimide 1C008a Bleiglas, Strahlenschutzfenster 1A227 Bleicitrat ML 8e Bleilanthanzirkoniumtitanat 6A002a Bleimaleat ML 8e Bleisalicylat ML 8e Bleiselenid 6A002a Bleistannat ML 8e Bleisulfid 6A002a Bluetongue-Virus 1C352a Bodenfahrzeuge für den Start von Flugkörpern 9A115 Bogenentladungs-Beschichtung, Ausrüstung 2B005f Bomben ML 4, ML 4a Bombenzielrechner ML 5a Bomblets ML 3 Bordausrüstung ML 10e Bordwaffen-Steuersysteme ML 5a Borfasern 1C010c Boules 6C004b Brayton-Motor 8A002j Bremsschirme ML 10h Brennkammern für Raketenantriebssysteme 9A006h Brennkammern, Auskleidungen für 9A106a Brennstoffblasen 1A001a Brennstoffe, militärisch ML 8, ML 8a Brennstoffzellen 8A002j Bridge 5A001b Brombenzylcyanid ML 7c Brucella abortus 1C351c Brucella melitensis 1C351c Brucella suis 1C351c Brückenzünderdraht 3A232a Burkholderia mallei 1C351c Burkholderia pseudomallei 1C351c Butadiennitriloxid (BNO) ML 8e Butantrioltrinitrat (BTTN) ML 8e CAD-Software zur Fertigung von Halbleiterbauelementen 3D003 Calzium 1C227

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Stichwort Index

Calziumfluorid 2A225a Calziummetazirkonat 2A225a Carborane ML 8a Carboxyl-terminiertes Polybutadien 1C111b Catocen ML 8e CEP-Wert, Circular Error Probability 7A003a, 7A117, DEF Cersulfid 2A225a Chargenmischer 1B115 Chemieanlagen, Teile für 2B350 Chemikalien 1C350 Chemische Beschichtung (CVD), Ausrüstung 1B001d, 1B101d, 2B005a, Chemische Beschichtung (CVD), Technologie 2E001, 2E002, 2E003f Chemische Herstellungseinrichtungen 2B350 Chemische Kampfführung, Ausgangsstoffe für die 1C350 Chemische Kampfstoffe,Verbrennungseinrichtungen 2B350j Chemische Laser 6A005a Chemostate 2B352b Chiffriergeräte (s.a. Kryptotechnik) 5A002 Chikungunya-Virus 1C351a Chlamydia psittaci 1C351c Chlortrifluorid 1C238 Chlor-Sarin ML 7b Chlor-Soman ML 7b Chlorate, mit Metallpulver gemischt ML 8a Chromate, mit Metallpulver gemischt ML 8a (BNCP) Clostridium botulinum 1C351c Clostridium-botulinum-Toxine 1C351d Clostridium-perfringens-Toxine 1C351d CNTD (thermische Zersetzung mit geregelter Keimbildung) 2B005a Cochliobolus miyabeanus 1C354b CoCrAlY-Schichten, Technologie 2E003f Code-Wandler (Transcoder) 5A001b Colletotrichum coffeanum var. virulans 1C354b Colour centre-Laser 6A005c Common channel signalling DEF Compiler 4D003a Conotoxin 1C351d Container für Chemieanlagen 2B350c Container für militärische Zwecke ML 17l Copolymere, piezoelektrische 1A001b Coprozessoren 3A001a

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Stichwort Index

Coxiella burnetii 1C351b CTP, Berechnung 4 CTP, Composite Theoretical Performance 3A001a, 4, 4A003b, 4A003c, DEF CVD-Beschichten, Technologie 2E003f Cyanwasserstoff ML7 Cyclotetramethylentetranitramin (HMX) ML 8a Cyclotrimethylentrinitramin (RDX) ML 8a Dämpfungsflüssigkeiten 1C006c Darstellungsmunition ML 4a Daten-Verarbeitungsausrüstung, Akustik 6A001a Datenbanken für militärische Zwecke ML 17f Datenbus 3A001a Datengerät DEF Datenkompressionstechniken 5A002a Datensicherungsgeräte ML 11 Datenverarbeitung, Radar 6A008l Decarboran ML 8a Deckbänder 9B001 Dengue-Fiebervirus 1C351a Destillationskolonnen 2B350e Destillationskolonnen, Füllstoffe- 1A226 Destillationskolonnen, Tieftemperatur- 1B228 Detektorelemente 6A002a Detektoren 6A102 Detektoren, pyroelektrische 6A002a Detektorgruppen ML 15 Dewar-Gefässe 9A006a Diagnose 6A006 Diagnoseausrüstung für Optik 6A005f Diamanten, synthetische 6C004f Diamino-dinitrobenzo-furozan ML 8a Diaminohexanitrodiphenyl (DIPAM) ML 8a Diaminotrinitrobenzol (DATB) ML 8a Dibenz(b,f)-1,4-oxazepin ML 7c Dibromtetrafluorethan 1C006c Dichtungen, Gasturbinenbürsten- 9B003 Dieselmotor-Antriebssysteme, Technologie 9E003e Dieselmotoren für U-Boote ML 9b Dieselmotoren, nichtmagnetische ML 9b Diethylaminoethanol 1C350 Diethylenglykoldinitrat 1C111c Diethylphosphit 1C350

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Stichwort Index

Differentialanalysatoren 4A101 Diffusionsschweissen, Ausrüstung für 1B003 Digitale Funkempfänger 5A001b Digitale Signatur 5A002a Diisopropylamin 1C350 Dimethylamin 1C350 Dimethylaminhydrochlorid 1C350 Dimethylhydrazin, symmetrisches ML 8a Dimethylhydrazin, unsymmetrisches ML 8a Dimethylphosphit 1C350 Dinitroazetidin-t-butylsalz ML 8e Dinitroglycoluril (DNGU, DINGU) ML 8a Diskretes Bauelement DEF Distickstoffpentoxid 1C111a Distickstofftetroxid 1C111a Distickstofftrioxid 1C111a Doppelleiter, supraleitende 1C005 Dragierkessel ML 18 Drehmomentcharakteristik 9E003e Drehspiegelkameras 6A203a Drehzahlreglercharakteristiken 9E003e Dreidimensionale (3-D) Vektorrate 4A003d, DEF Drohnen ML 10h, ML 14 Druckbetanken, Ausrüstung zum ML 10f Druckgehäuse 8A002a Druckkörper 8A002a Druckmessgeräte 2B230 Durchlaufmischer 1B115 Düsen f. pyrolyt. erzeugte Materialien 1B116 Düsen für Hochdruckbrennkammern 9A006e Dynamisch adaptive Leitweglenkung 5B001b, 5E001b, DEF Dynamisch adaptive Leitweglenkung, Software für 5D001c Dynamisch adaptive Leitweglenkung, Technologie für 5E001b Dynamische Signalanalysatoren 3A002c, DEF Eastern Equine Enzephalitis-Virus 1C351a Ebola-Virus 1C351a Echolotsyteme, Fächer- 6A001a Echtzeit-Bandbreite 3A002c, DEF Echtzeit-Betriebssysteme 4D003d

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Stichwort Index

Echtzeit-Überwachungssysteme 9B002 Echtzeit-Überwachungssysteme, Windkanäle 9B005 Effektives Gramm 1C012a, DEF Eigenleitfähige Polymere 1C001 Einbruch-Alarmanlagen 6A002c Einkristallaufschaufeln, Technologie für 9E003a Einmaliges Kopieren (one-time copying) 5A002a Einsatzflug-Übungsgeräte ML 14 Einschrumpfvorrichtungen 2B228a Einspritzdüsen für Raketenantriebssysteme 9A006g Einzelschritt-Packbeschichtung, Technol. 2E003f Eisenoxid, superfeines (Fe2O3 Hämatit) ML 8e Eisenpulver ML 8a Elektrolysezellen, Lithiumamalgam 1B233b Elektrolytische Zellen für Fluorerzeug. 1B225 Elektromagnetische Verträglichkeit (EMV) 5A002a Elektromotoren für U-Boote ML 9b Elektronenbeschleuniger 3A201c Elektronenröhren 6A203b Elektronenspektrometer 3B002d Elektronenstoss-Massenspektrometer 3A233d Elektronenstrahlsysteme 3B002d Elektronik, allgemeine 3 Elektronik, allgemeine, Software für 3D Elektronik, allgemeine, Technologie für 3E Elektronikkühlflüssigkeit 1C006d Elektronisch phasengesteuerte Antennengruppen 5A001d, 6A008e, 6D003d, DEF Elektronische Ausrüstung, militärische ML 11 Elektronische Bauelemente, Software für 3D001, 3D002 Elektronische Rechner 4A001 Elektronische Rechner, Baugruppen für 4A001 Elektronische Rechner, verwandte Geräte 4A001 Elektronische Schaltungen 3A001a EMI, Technologie für 7E102 EMP, Technologie für 7E102 Empfangssysteme, Akustik 6A001a Endgeräte-Schnittstellen 4A003f, DEF Energieerzeugung 8A002j Energieerzeugungsausrüstung, nuklear ML 17g Energieerzeugungssysteme 8A002o Energiespeicher ML 19

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Stichwort Index

Energieübertragungssysteme 8A002o Energieversorgungsanlagen 8A002j Entlaubungsmittel ML 7 Entschlüsselung, digitale 5A002 Entwicklungssoftware, militärische ML 21a Entwicklungstechnologie, militärisch ML 7i, ML 22 Epitaktischer Wafer 6C002b Epitaxieausrüstung 3B001a Erbiumoxid 2A225a Erkennungs-Vorrichtungen ML 5b Erreger, human- und tierpathogene 1C351 Erreger, pflanzenpathogene 1C354 Erzeugnisse, unfertige ML 16 Ethylphosphonigsäuredichlorid 1C350 Ethylphosphonigsäuredifluorid 1C350 Ethylphosphonsäuredichlorid 1C350 Ethylphosphonsäurediethylester 1C350 Ethylphosphonsäuredimethylester 1C350 Excimer-Laser 6A005a Exerziermunition ML 3 Expansions-Kompressionsturbinen 1B232 Expansionsturbinen 1B232 DEF Expertensysteme, Technologie 2E003e Explosivstoffdetonatoren 3A229a Explosivstoffe ML 18, 1C239 Explosivstoffe, militärische ML 8, ML 18 Expressions-Vektoren ML 7h, DEF Extraktions-Kolonnen 1B233b Extraktoren 1B229 Fächer-Echolotsysteme 6A001a FADEC, fehlertolerante Software für 9D003b FADEC, Software für 9D003 FADEC, Technologie für 9E003a Fadenförmige Materialien, Ausrüstung 1B101c Fahrzeug-Radarsysteme 6A008 Fahrzeuge für militärische Zwecke ML 6 Fahrzeuge, amphibisch ML 6 Fahrzeuge, autonome ML 10d Fahrzeuge, bewaffnet ML 6 Fahrzeuge, gepanzert ML 6 Fahrzeuge, tiefwatfähig ML 6

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Stichwort Index

Faksimile-Geräte 5A002a Faktorisierung 5A002a1b Fallschirme ML 10h Fallschirmlasten, Lenksysteme für ML 10i Faltenbalgpumpen 2B350i Faltenbalgventile 2B350g Fanlaufschaufeln, Technologie für 9E003a Farbmitten-Laser 6A005c Faser- oder fadenförmige Materialien 1A002b, 1A202, 1B001a, Faser-Preforms 9A110 Faser-Prepregs 9A110 Faserförmige Materialien, Ausrüstung 1B101c Fasern, Herstellungsausrüstung 1B001 Faseroberflächenbehandlung 1B101d Federbalgventile 2A226 Fehlertoleranz 4A003a, DEF Fermentationssysteme 2B352b Fermenter 2B352b Fernlenk-Manipulatoren 2B225 Fernmessausrüstung für Flugkörper 5A101 Fernseheinrichtungen, Pay-TV 5A002 Fernsehgeräte, zivile 3A001c Fernsehkameraröhren ML 15 Fernsehkameras 8A002d Fernsehsysteme 8A002d Fernsteuerungsausrüstung für Flugkörper 5A101 Ferrocencarbonsäuren ML 8e Ferrocenderivate, polymere 1C111c Festkörper-Laser 6A005c Festkörperverbinden, Werkzeuge für 9B004 Feststofftreibmittel ML 8b Festtreibstoffanteil 9A007c Festwertspeicher 3A001a Feuerbomben ML 4a Feuerleit-Übungsgeräte ML 14 Feuerleiteinrichtungen ML 5 Feuerleitsysteme ML 12 FFT-Prozessoren (Fast Fourier Transform) 3A001a Filamente, supraleitende 1C005 Filmverarbeitungsausrüstung ML 15b Filter, Kreuzstrom- 2B352d

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Stichwort Index

Flammenwächter 6A002c Flechtmaschinen 1B001c Flotationsflüssigkeiten 1C006c Flug-Managementsystem, Technologie für 7E104 Flugbahnoptimierung, Technologie für 7E104 Fluginstrumentensysteme 7A103b Flugkontrollsysteme, Software für 7D003c Flugkörper, Herstellungsanlagen 9B116 Flugkörper, Herstellungsausrüstung 9B115 Flugkörper, Simulationssoftware für 9D103 Flugkörpertreibstoffe, Ausrüstung 1B115 Fluglagereferenzsysteme 7D002 Fluglageregelung, Ausrüstung zur 7A116b Flugmodelle, Technologie für 9E003b Flugregelsysteme, Software für 7D003d Flugsicherungszwecke, Software für 6D003d Flugsimulatoren ML 14 Flugsteuerungssysteme 7A116 Flugsteuerungssysteme, CAD-Software für 7D003e Flugsteuerungssysteme, Software für 7D003d Flugtriebwerke ML 18, 9A Flugwegoptimierung 7E004b, DEF Fluorchlorkohlenstoffe 1C006a Fluorelastomer-Verbindg., Technologie 1E002b Fluorelastomere 1A001c Fluorglas 6C004e Fluoridfaserverstärker (PDFFA) 5E001 Fluorierte flüssige Silikone 1C006b Fluorierte Phosphazen-Elastomere 1C009c Fluorierte Polyimide 1C009b Fluorierte Verbindungen 1C009 Fluorierte Verbindungen, Bauteile aus 1A001 Fluorphosphatglas 6C004e Fluorwasserstoff 1C350 Flüssigkeiten und Schmiermittel 1C006 Flüssigkeits-Laser 6A005d Flüssigkristall-Copolymere 1C008b

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Stichwort Index

Flüssigoxidatoren 1C111a Fly Cutting Maschinen 2B002b Formen für Luft- und Raumfahrt 1B003 Fotokathoden, multialkalische 6A002a Fotovoltaisch Generatoren 3A001e FPGA (field programmable gate array) 3A001a Francisella tularensis 1C351c Frequenz-Synthesizer 3A002b, DEF Frequenzselektion 3A001d Frequenzsprung (Radar) 6A008h, DEF DEF Frequenzsprungverfahren, Technologie für 5E001b Frequenzsynthese 3A002d DEF Frequenzumwandler 3A225 Führungsinformationssysteme ML 21b Führungsringe ML 3 Füllkörperaustauschkolonnen 1B233b Füllstoffe aus Phosphorbronze-Geflecht 1A226 Funkempfänger, digitale 5A001b4 Funkenerosionsmaschinen 2B001d Funkgeräte ML 11, 5A001b Funkgeräte, Sofware für 5D001d Funkpeilgeräte 7A007 Funksysteme, zellulare 5A002a Funktelefone, mobile 5A002 Funktionsarm 2B225 Gas-Laser 6A005a Gasentladungs-Laser 6A005a Gaskanäle 9B005b Gaslaser 6A005a Gasmasken 1A004 Gasturbinenantriebssysteme 9A003 Gasturbinenbürstendichtungen 9B003 Gasturbinenflugtriebwerke, Prüfsoftware 9D004b Gasturbinenleitschaufeln, Ausrüstung für 9B001 Gasturbinenschaufeln, Ausrüstung für 9B001 Gasturbinenschaufeln, Technologie für 9E003a Gasturbinenschaufeln, Werkzeuge für 9B001 Gasturbinentriebwerke 9B002 Gasturbinentriebwerke, Technologie für 9E003a Gasturbinentriebwerksteile, Technologie 9E003c Gasverflüssigungsanlagen, fahrbare ML 4b

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Stichwort Index

Gaswerfer ML 2b Gaszerstäubung 1C002b, DEF Gate-Arrays 3A001a Gefriertrocknungsanlagen 2B352e Gegenmassnahmen, Ausrüstung für ML 5, ML 5c, ML 11, Gegenstromextraktoren 1B229 Gehäuse-Isolationsmaterial 9A007e Gehäuseausgleichs-Technologie 9E003a Geheimer Parameter DEF Gelbfieber-Virus 1C351a Geldtransaktionen 5A002a Gelenkmanipulatoren 8A002i Generatoren 3A225 Generatoren, fotovoltaisch 3A001e Generatoren, militärische pyrotechnische ML 2b Genetisch modifizierte Mikroorganismen 1C353 Germanium 3C001b Gesamte digitale Übertragungsrate 5B001b, DEF Gesamtstrahlungsdosis 4A001a Gesamtstromdichte 3A001e, DEF Geschosse ML 3 Geschossmäntel ML 3 Geschütze ML 2a Geschütze, selbstfahrende ML 6 DEF Gespreiztes Spektrum (Radar) 6A008h, DEF Gespreiztes-Spektrum-Verfahren, Technologie für 5D001b Gewehre ML 1a, ML 18 Giessausrüstung, gerichtete Erstarrung 9B001a Giessausrüstung, monokristall. Erstarrung 9B001a Gleichstrom-Antriebsmotoren 8A002a Gleichstromversorgungsgeräte, Hochenergie 3A226 Gleichstromversorgungsgeräte, Hochspannungs- 3A227 Glockenböden 1B229 Glühentladungs-Massenspektrometer 3A233b Glycidylazidpolymer (GAP) und dessen Derivate ML 8e GPS = Global Positioning System 5A002, 7A005, 7A105, Grafik-Coprozessoren 4A003d Grafikbeschleuniger 4A003d Granaten ML 4a Graphitmaterialien für Flugkörper 1C107 Gravimeter, Software für 6D003c

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Stichwort Index

Grundmaterial, kristallines für Laser 6C005 Guanidinnitrat 1C011c Gussstücke ML 16 Haemorrhagisches Kongo-Krim-Fieber-Virus 1C351a Hafnium 1C231 Hafniumfluoridglas 6C004e Hafniumoxid 2A225a Halbleiter-Farbkameras 6A003b Halbleiter-Laser 6A005b Halbleiterbauelemente, Ausrüstung für 3B Halbleiterbauelemente, Herstellungsanlagen 3B001 Halbleiterbauelemente, Technologie für 3E002b Halbleitermikrowellenverstärker 3A001b Halbleiterwafer 2B226 Haltevorrichtungen 2B228a Handfeuerwaffen ML 1, ML 1e Hantaan-Virus 1C351a Haubitzen ML 2a Hauptbestandteil 4A003, DEF Hauptkampfstoffe ML 7 Hauptspeicher 4, 4A003a, DEF Hauptsteuerung 7E004a, DEF Hautkampfstoffe ML 7 HDDR, high density digital recording 3A002a Head-up-displays, Software für 7D003d Head-up-displays, Technologie für 7E004a Heiss-Isostatische Pressen 2B004 Heiss-Isostatische Pressen, Software für 2D001, 2D201 Heissisostatisches Verdichten, Technolog. 2E003b, DEF Heissschmelz-Verfahren 1B001e Helium 1C232 Helium-Kälteaggregate 1B231 Helme, militärische ML 13c Herstellung DEF Herstellungsanlagen 9B116, DEF Herstellungsanlagen für Antriebssysteme 9B116 Herstellungsanlagen, milit., Technologie ML 7, ML 18d, ML 22 Herstellungsausrüstung 9B115, DEF Herstellungsausrüstung für Antriebssysteme 9B115 Herstellungsausrüstung, Informationssich. 5B002 Herstellungsausrüstung, militärische ML 18a Herstellungseinrichtungen, chemische 2B350 Herstellungseinrichtungen, Telekomm. 5B001 Herstellungssoftware, militärische ML 21a Herstellungstechnologie, militärische ML 18, ML 22 Hetero-epitaxiale Werkstoffe 3C001 Heterodyne Techniken 5B001b²

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Stichwort Index

Hexabenzylhexaazaisowurtzitan (HBIW) ML 8e Hexanitrohexaazaisowurtzitan (CL-20 oder HNIW) ML 8a Hexanitrostilben (HNS) ML 8a Hexogen ML 8a Hitzeschilde für Flugkörper 9A116b Hochdruckbrennkammern 9A006e Hochdruckturbopumpen 9A006d Hochenergie-Gleichstromversorgungsgeräte 3A226 Hochfrequenzsender, militärische ML 19 Hochfrequenzsysteme, energiereiche ML 19c Hochgeschwindigkeits-Impulsgeneratoren 3A230 Hochgeschwindigkeitsbeschleunigungssysteme 2B232 Hochgeschwindigkeitskameras ML 15 Hochgeschwindigkeitskameras, mechanische 6A003a Hochgeschwindigkeitsplasmaspritzen 2E003f Hochleistungsdieselmotoren, Technologie 9E003e Hochseebergungssysteme 8A001e Hochspannungs-Gleichstromversorgungsger. 3A227 Hochstrom-Impulsgeneratoren 3A230 Hohlleiter 3A001b Homodyne Techniken 5B001b² Hubgebläse für Oberflächeneffektfahrzeuge 8A002l Hubschrauber, Technologie für 9E003d Hubschraubersteuerungen, Software für 7D003e Hubschraubersysteme, Technologie für 7E004c Hülsen für Treibladungen ML 3 Humanpathogene Erreger 1C351 Hybrid-Schaltungen 3A001a Hybridraketenantriebssysteme 9A009 Hydraulische Flüssigkeiten 1C006a Hydraulische Streckziehpressen, Technol. 2E003c Hydrazin ML 8a Hydrazinnitrat ML 8a Hydrazinperchlorat ML 8a Hydride 3C004 Hydroklaven, Technologie 1E103 Hydrophone 6A001a Hydrophoneinheit 6A001a Hydrostatisches Umformen, Technologie 2E003b Hydroxyl-terminiertes Polybutadien (HTPB) ML 8e,1C111b Hydroxylammoniumnitrat (HAN) ML 8a Hydroxylammoniumperchlorat (HAP) ML 8a Identifikationsnummer (PIN) 5A002a Identifizierungs-Vorrichtungen ML 5, ML 7f Identifizierungsgeräte ML 11 Immunotoxin 1C351, DEF Impulskompression 6A008k, DEF

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Stichwort Index

Induktionsöfen 2B226 Induktionsspulen 2B226 Induktionsspulen-Magnetometer 6A006b Inertgase 3C004 Informationskanal 5A001b Informationssicherheit, Technologie für 5E002 Informationssicherheitsfunktionen 5B002b Informationssoftware, militärische ML 21b Injektoren ML 2a Innenrundschleifmaschinen 2B001c Instrumenten-Landesysteme 5A001e Instrumentenflug-Übungsgeräte ML 14 Integrations-Software, Technologie 2E003e Integrationssoftware f. Navigationssyst. 7D102 Integrierte Hybrid-Schaltung 3A001a, DEF Integrierte Multichip-Schaltung 3A001a, DEF Integrierte optische Schaltung 3A001a, 3A001a, DEF Integrierte Schichtschaltung 3A001a, DEF Interaktive Graphiken, Technologie 2E003a Interferometerausrüstung 7A115 Interferometersysteme 2B006b Inverter 3A225 Ionen-Laser 6A005a Ionenplattieranlagen 2B005g Ionenstrahl-Ausweitungs-Ausrüstung ML 19 IR-Bildwandlerröhren ML 15 ISAR (Radar mit inverser künstlicher Apertur) 6A008d ISAR (Inverse-Synthetic-Aperture Radar) 6A008d ISDN, Technologie für 5E001b Isolierte lebende Kulturen 1C351, 1C352, 1C354 Isolierung 8A002o Isolierungssysteme für Festtreibstoffe 9A008a Isotopentrennung, elektromagnetische 1B226 Jagdwaffen ML 1 Josephson-Elemente 6A006h Junin-Virus 1C351a Justiereinrichtungen für Luftfahrtelekt. 7B001

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Stichwort Index

Kabel, schwimmfähige ML 4b Kabelplazierungsmaschinen 1B001b Kabelplazierungsmaschinen, Software für 1D001 Kadmiumtellurid 6C002b Kadmiumzinktellurid 6C002b Kalibriereinrichtungen für Luftfahrtelekt. 7B001 Kaliumamid-Katalysatoren 1B230 Kaliumcyanid 1C350 Kaliumfluorid 1C350 Kaliumhydrogendifluorid 1C350 Kaliumtitanarsenat 6C004b Kaltkathodenröhren 3A228a Kampfflugzeuge ML 10a Kampfhubschrauber ML 10a Kampfschiffe ML 9a Kanonen ML 2a Karabiner ML 1a, ML 18 Kardanische Aufhängung 6A004d Kartenbildradar-Sensorausrüstung ML 15e Katalysatoren zur Schwerwasserproduktion 1A225 Katalysatoren zur Tritiumrückgewinnung 1A225 Katalysatoren, platinierte 1A225 Kathoden 3A001b Kathodenheizelemente 3A001b Kathodenzerstäubung, Technologie 2E003f Kathodenzerstäubungsbeschichtung 2E003f Kathodenzerstäubungsbeschichtung, Ausrüst. 2B005e Kegelrollenlager 2A001 Kennungsladegeräte ML 11 Keramiken 2B001 Keramikfasern 1C010c Keramikmaterialien für Flugkörper 1C107 Keramikmaterialien, Technologie für 1E002c Keramische Nicht-Verbundwerkstoffe 1C007 Keramische Werkstoffe für Bugspitzen 1C107 Kfz-Elektronik 3A001a Kippflügel-Luftfahrzeuge, Technologie 9E003d Klimakammern 9B106a Kodierung, Einrichtungen mit 5A002

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Stichwort Index

Kodierungstechniken 5A002a Kohlenmonoxyd 8A002j Kohlenstoff 1C006a Kohlenstoffaser-Preforms 1C010e, DEF Kohlenstoffmaterialien 1C010b Kohlenwasserstoff-Brennstoffe ML 8d Kohlenwasserstofföle, synthetische 1C006a Kolben, keramische, Technologie für 9E003e Kolbentriebwerke ML 10 Kollektoren 1B226 Kombinationsantriebe 9A011 Kombinierter Schwenkrundtisch 2B008c, DEF Kommunikations-Kabelsysteme 5A002a Kommunikationskanalsteuerungen DEF Kompensationssysteme 6A006 Kondensatoren für Chemieanlagen 2B350d Konvektionsströmungskonverter ML 18 Konverter 3A225 Konverter für die Ammoniak-Synthese 1B227 Koordinatenschleifmaschinen 2B001c Kopieren, einmaliges (one-time copying) 5A002a Körperpanzer, Technologie für 1E001 Kraftstoffeinspritzsysteme, Technologie 9E003e Kreisel für Flugkörper 7A102 Kreisel-Einlaufprüfstände 7B003c Kreisel-Motorprüfstände 7B003c Kreiselsensoren 7B001 Kreuzstromfilter 2B352d Kriegsschiffe ML 9 DEF Kryogene Behälter 9A006b Kryogene Systeme 9A006a Kryogene Wärmeleitrohre 9A006a Kryogenische Ausrüstung ML 20 Kryogenische Kühler 6A002d Kryogenkühler 9A006a Kryptoanalytische Funktionen 5A002a Kryptonionen-Laser 6A005a Kryptographische Funktionalität Anmerkung zu Kat. 5, Teil 2,

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Stichwort Index

Kryptotechnik, analoge 5A002a Kryptotechnik, digitale 5A002a Krytrons 3A228a Kugel- oder Rollenlager, andere 2A001 Kugellager 2A001b Kühler für Bildsysteme ML 15 Kühler, kryogenische 6A002d Kühlkörper für Wiedereintrittsfahrzeuge 9A116c Kundenspezifische integrierte Schaltungen 3A001a Kupfersalicylat, basisches ML 8e Kupplungsreagentien, metallorganische ML 8e Ladestreifen ML 1d Lafetten ML 6 Lager, geräuscharme ML 9g Lagersysteme für Wasserstoff 9A006c Lagersysteme 2A001 Lagersysteme, Software für 2D001 Lagertanks 2B350c Laminate, Software für 1D002 Landeanflugbremsschirme ML 10h Landebremsschirme ML 10h Landfahrzeuge für militärische Zwecke ML 6 Landgravimeter, Ausrüstung für 6B007 Laser, abstimmbare 6A005c Laser, chemische 6A005a Laser, gepulste 6A005 Laser, impulserregte 6A005 Laser, kontinuierlich angeregte 6A005c Laser, militärische ML 19 Laser, neodym-dotierte 6A005c Laser, nichtabstimmbare 6A005c Laser, nichtgütegeschaltete 6A005c Laser, Software für 6D001 Laser-Kommunikationstechniken, Technologie für 5E001b Laser-Systeme ML 19a Laser-Verdampfung, Technologie 2E003f Laserstrahlsysteme 3B002d Laserverstärker 6A205

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Stichwort Index

Lassa-Virus 1C351a Lastenfallschirme ML 10h Laufschaufelspitzen-Spaltregel., Technol. 9E003a Lebende Kulturen, isolierte 1C351, 1C352, 1C354 Legieren, mechanisches 1C002b Legierte Aluminid-Beschichtung, Technol. 2E003f Legierte Werkstoffe, Herstellung 1B002 Legierungen, amorphen 1C003c Legierungen, magnetostriktive 1C003b Legierungen, nanokristalline 1C003c Leichtspiegel, monolithische 6A004a Leistungsmanagement 7A006a, DEF Leistungsübertragungs-Wellensyteme 8A002o Leistungsübertragungssysteme 8A002o Leistungsverstärker 5A001b Leitungen, selbstdichtende ML 17e Leitweglenkung, dynamisch adaptive 5B001b, 5D001c3, 5E001b Lenkausrüstung ML 9e Lenkdaten, Technologie für Integration 7E104 Lenkflugkörper ML 10h Lenksysteme für Fallschirmlasten ML 10i Leuchtpatronen ML 4a Lewisite ML 7 Lichtbogenwindkanäle 9B005b Lichtradar 6A008j Lichtwellenleiter, Herstellungseinrichtungen für 5B001 Lichtwellenleiter, Technologie für 5E001b Lichtwellenleiter-Magnetometer 6A006c Lichtwellenleiterkabel 5A001c Lichtwellenleiterkabel für Unterwasserbetrieb 5A001c LIDAR 6A008j Linear-Leistungsverstärker 5A001b Linearität 2B006b, DEF Linearmesseinrichtungen 2B006b Lithium 1C233 Lithium-6 1C233 Lithium-Amalgampumpen 1B233b Lithiumamalgame 1B233b Lithiumisotopen-Trennung, Ausrüstung 1B233 Lithiumtantalat 6A002a Lithographieanlagen 3B001f Local Area Network 4, 4A003f, DEF Logic-Arrays 3A001a Logikrechner 4A003 Lokalisierungssysteme 6A001a Luftbetankung ML 10e Luftfahrtelektronik 7 Luftfahrtelektronik, Prüfeinrichtungen 7B

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Stichwort Index

Luftfahrtelektronik, Reparaturtechnologie 7E003 Luftfahrtelektronik, Software für 7D Luftfahrtelektronik, Technologie für 7E Luftfahrtelektronik, Testeinrichtungen 7B Luftfahrtelektronik, Überholungstechnologie 7E003 Luftfahrtelektronik, Wartungstechnologie 7E003 Luftfahrtelektroniksysteme, Software für 7D003c Luftfahrzeug-Ausrüstung ML 10 Luftfahrzeug-Treibstoffe ML 8, ML 8d DEF Luftfahrzeugpeilanlagen, Software für 7D003d Luftfahrzeugpeilanlagen, Technologie für 7E004a Luftfahrzeugzellen 1B101b Luftreferenzsysteme 6A108b Luftreifendecken, beschussfeste ML 6 Luftreinigungsanlagen ML 7 Luftspalt-Magnetometer, Technologie für 6E003c Luftwertesysteme 7E004a Luftwertesysteme, Software für 7D003d Lyphozytäre Choriomeningitis-Virus 1C351a Lyssa-Virus 1C352a Machupo-Virus 1C351a Magnaporthe grisea 1C354b Magnesiumoxid 2A225a Magnetband-Aufzeichnungsgeräte 3A002a Magnete 3A201b Magnetfeld-Kompensationssysteme 6A006g Magnetfeld-Kompensationssysteme, Software für 6D003b Magnetische Metalle 1C003 Magnetkupplungspumpen 2B350i Magnetlager 8A002o Magnetlagersysteme, aktive 2A001c Magnetometer, Software für 6D003b Magnetostriktive Legierungen 1C003b Mangan-Sensorelemente 6A226a Manövermunition ML 3 Marburg-Virus 1C351a Marine-Akustiksysteme 6A001a Marine-Spezialausrüstung ML 9 Maschinen mit Fliess- und Drückfunktion 2B109, 2B209 Maschinengewehre ML 1 Maschinenpistolen ML 1

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Stichwort Index

Maschinenwaffen ML 1, ML 18 Masken für integrierte Schaltungen 3B001g Maskenherstellungsanlagen 3B001f Matrix, organische 1A002a Matrizen für Luft- und Raumfahrt 1B003 Mechanisches Legieren 1C002b, DEF Medienzugriffseinheit 5A001b, DEF Meerestechnik 8 Meerestechnik, Software für 8D Meerestechnik, Technologie für 8E Mehrfachdatenstromverarbeitung 4D003a, DEF Mehrfachdatenstromverarbeitung, Technol. 4E001 Mehrfachdombrennkammern 9A003 Mehrfachdombrennkammern, Technologie für 9E003a Mehrfachsignale 5A001b Mehrfachzündersysteme 3A232 Mehrkammer-Leichtgaskanonen 2B232 Mehrschichten-Abscheidungen, Technologie 2E003f Mehrstufige Sicherheit 5A002a, DEF Mehrstufige Sicherheit, Ausrüstung für 5A002a Membranpumpen 2B350i Membranventile 2B350g Mess-/Datenaufzeichnungsmagnetbandgeräte 3A002a Messeinrichtungen, Informationssicherheit 5B002b Messgeräte für Oberflächenunebenheiten 2B006c Messgeräte, lineare 2B006b Messgeräte, militärische ML 11 Messgeräte, Optik 6B004 Messinstrumente mit Lasern 2B006b Messmagnetbandgeräte 3A002a Messmaschinen 2B006b Messsonden 2B228b Messsysteme, berührungslose 2B006b Messvorrichtungen, militärische ML 12b Messwertgeber 9B008 Metall, Partikel 1C011 Metallbearb. Fertigungsverfahren, Technol. 2E003b Metallbeschichtete Faser-Preforms 9A110 Metalldampf-Laser 6A005a

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Stichwort Index

Metalle, magnetische 1C003 Metalllegierungen, Herstellungsausrüstung 1B002 Metalllegierungen, Technologie 1E001 Metalllegierungspulver, Herstellung 1B002 Metallgiessöfen 2B227 Metallische Brennstoffe ML 8 Metallorganische Kupplungsreagentien ML 8e Metallorganische Verbindungen 3C003a Methylbenzilat 1C350 Methylphosphonigsäurediethylester 1C350 Methylphosphonigsäuredifluorid 1C350 Methylphosphonsäuredichlorid 1C350 Methylphosphonsäuredimethylester 1C350 Methylphosphorsäuredifluorid 1C350 Micricyclus ulei 1C354b Microcystin 1C351d Mikrocontroller 3A001a Mikrofluorierungs-Ionenquelle 3A233f Mikrokanalanoden 6A002a Mikrokanalplatten ML 15 Mikroorganismen, genetisch modifiziert 1C353 Mikroprogramm DEF Mikroprozessor 3A001a, DEF Mikroprozessor-Karten mit Kryptotechnik 5A002 Mikroprozessor-Karten, personenbezogene 5A002a Mikrowellen-Landesysteme 5A001d Mikrowellenbauteile 3A001b Mikrowellenmessempfänger 3A002f Mikrowellenschaltungen 3A001b Mikrowellenschaltungen, Prüfgeräte für 3B002c Mikrowellentransistoren 3A001b Mikrowellenverstärker 3A001b Militärische Brennstoffe ML 8 Militärische Explosivstoffe ML 8, ML 8b, ML 18, DEF Militärische Sprengstoffe ML 8, ML 8b, ML 18 Millimeterwellenbauteile 3A001b Minelets ML 3 Minenlegen, Ausrüstung zum ML 6 Mischer zur Frequenzbereichserweiterung 3A001b Mit den Isotopen 235 oder 233 anger. Uran DEF Miteinander verbundene Radarsensoren 6A008l, DEF Mobile Funktelefone 5A002a

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Stichwort Index

Mobilfunkeinrichtungen mit Kryptobetrieb 5A002 Mobilfunkeinrichtungen, Software für 5D001c Mobilfunksysteme, Technologie für 5E001b Modellierungssoftware, militärische ML 21b Molekularstrahl-Epitaxie 3B001a Molekularstrahl-Epitaxie, Ausrüstung für 3B001a Molekularstrahl-Massenspektrometer 3A233e Molybdänlegierungen 1C010c DEF Monoklonale Antikörper DEF Monolithisch integrierte Schaltung 3A001a, 3A001b, DEF Monolithische Leichtspiegel 6A004a Monomere, energetisch wirksame ML 8e Monomethylhydrazin ML 8a Monospektrale Bildsensoren 6A002b Mörser ML 2a Motorenabgas 8A002j Motorgehäuse aus Verbundwerkstoff 9A008b Multichip-Schaltungen 3A001a Multifilament-Doppelleiter 1C005a Multilayer-Masken 3B001h Multilayer-Technologie 3E001 Multiplex, Wellenlängen- 5E001c Multispektrale Bildsensoren 6A002b, DEF Mündungsfeuerdämpfer ML 1d Munition ML 3 Munitionstransporter ML 6 Mycoplasma mycoides 1C352b N-Butylferrocen ML 8e N-Ethyl-bis(2-chlorethyl)-amin ML 7 N-Methyl-bis(2-chlorethyl)-amin ML 7 Nabenbaugruppen 8A002o Nachweisausrüstung 1A004 Nahfokusbildverstärkerröhren 6A203b Nanokristalline Legierungen 1C003c Naphthalin 1C008b Natriumcyanid 1C350 Natriumfluorid 1C350 Natriumhydrogendifluorid 1C350 Natriumsulfid 1C350 Navigation 7 Navigation, Prüfeinrichtungen für 7B Navigation, Software für 7D Navigation, Technologie für 7E Navigation, Testeinrichtungen für 7B

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Stichwort Index

Navigations-Übungsgeräte ML 14 Navigationssysteme, Integrationssoftware 7D102 Nebelbüchsen ML 4a Nebelgranaten ML 4a Nebelwerfer ML 2b Neptunium-237 1C012b Nervenkampfstoffe ML 7 Network-Schnittstellen 4A003f Netzsteuerung, Technologie für 5E001b Netzübergang 5A001b, DEF Netzwerkanalysatoren 3A002e Netzwerke, neuronale 3A001a DEF Neuronale Netze, integrierte Schaltungen für 3A001a Neuronale Rechner 4A004b, DEF Neutronengeneratorröhren 3A231 Neutronengeneratorsysteme 3A231 Newcastle-Virus 1C352a Nicht-Verbundwerkstoffe, keramische 1C007 Nichtfluorierte Polymere 1C008 Nichtfluorierte polymere Substanzen 1A003 Nickel 2B230 Nickel-Aluminide 1C002a Nickelmetall 1C240 Nickelpulver 1C240 NiCrAlY-Schichten, Technologie 2E003f Niederdruckplasmaspritzen, Technologie 2E003f Nitratomethylmethyloxethan ML 8e Nitridhaltige Niob-Titan-Wolfram-Legierungen 2A225a Nitrieranlagen ML 18 Nitroguanidin ML 8a Notfallschirme ML 10h Nukleare Antriebsausrüstung ML 17g Nukleare Energieerzeugungsausrüstung ML 17g Nukleare Wärmequellen 1C012 Nullpunkt (Beschleunigungsmesser) 7A001a, DEF Numerische Steuerungen für Werkzeugmasch. 2B001, 2B201 Numerische Steuerungen, Software für 2D001, 2D002 o-Alkyl(≤ C10 einschliesslich Cycloalkyl)-alkyl-(Me, Et, ML 7 n-Pr oder i-Pr)-phosphonofluoride o-Alkyl(≤ C10 einschliesslich Cycloalkyl)-N,N-dialkyl-(Me, ML 7 Et, n-Pr oder i-Pr)-phosphoramido-cyanide o-Alkyl(H oder ≤ C10 einschliesslich Cycloalkyl)-S-2- ML 7 dialkyl (Me, Et, n-Pr oder i-Pr)-phosphonothiolate

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Stichwort Index

o-Alkyl(H oder ≤ C10 einschliesslich Cycloalkyl)-O-2- ML 7b dialkyl (Me, Et, n-Pr oder i-Pr)aminoethylalkyl-(Me, Et, n-Pr oder i-Pr)phosphonite o-Chlorbenzylidenmalonsäuredinitril ML 7c o-Ethyl-N,N-dimethylphosphoramidocyanid ML 7 o-Ethyl-S-2-diisopropylaminoethyl-methyl- ML 7 phosphonothiolat o-Isopropylmethyl-phosphonochlorid ML 7b o-Isopropylmethylphosphonofluorid ML 7 o-Pinakolylmethyl-phosphonochlorid ML 7b o-Pinakolylmethylphosphonofluorid ML 7 Objektcode 9D004d, DEF Objekterfassungssysteme 6A001a Öfen zur chemischen Beschichtung (CVD) 2B104 Oktogen ML 8a On-line-Überwachungssysteme 9B002 On-line-Überwachungssysteme, Windkanäle 9B005 Optik 6A004 Optik, Materialien 6C004 Optik, Messgeräte 6B004 Optiken, anpassungsfähige ML 19 Optische Ausrüstung 6A005f Optische Beschichtung, Technologie für 6E003a Optische Fasern 5A001c¹ Optische Fasern für Sensorzwecke 6A002d3 Optische Rechner 4A004c, DEF Optische Sensor-Arrays für Flugsteuerungszwecke 7E004a, DEF Optische Sensoren, Werkstoffe 6C002 Optische Spiegel 6A004a Optische Systeme, Bauelemente 6A004c Optische Techniken 5B001b DEF Optische Vermittlung, Software für 5D001d Organisch-anorganische Verbindungen 3C003 Ortungs-Vorrichtungen ML 5b Out-of-Pack-Verfahren, Technologie 2E003f Oxidationsmittel ML 18 Oxidationsmittel, flüssige ML 8d Oxidatoren 9A106d Oxidformteile 1C230b Pack-Beschichten, Technologie 2E003f Panzer ML 6 Panzerabwehrwaffen ML 2a

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Stichwort Index

Panzeranzüge ML 13d Panzerplatten ML 13a Panzerung ML 13 Panzerwesten ML 13d Para-Gleiter ML 10h Parallelprozessoren 3A001a Passwörter 5A002a Patronen ML 3 Patronengurtglieder ML 3 PDFFA 5E001c² PECVD, Ausrüstung für 3B001d Peilanlagen, Software für 7D003d Peilanlagen, Technologie für 7E004a Pentaboran ML 8a Perchlorate, mit Metallpulver gemischt ML 8a Perfluorelastomer-Verbindg., Technologie 1E002b Permanentmagneten 8A002o Personenbezogene Mikroprozessor-Karten 5A002a, DEF Personenschutzausrüstung ML 13 Pflanzenpathogene Erreger, Bakterien oder Pilze 1C354 Phasenkonjugatoren ML 19 Phenylen 1C008b Phenylether 1C006b Phosgen ML 7 Phosphatglas 6C004e Phosphazen-Elastomere, fluorierte 1C009c Phosphorbronze-Geflecht, Füllstoffe aus 1A226 Phosphorhydride 3C004 Phosphoroxidchlorid 1C350 Phosphorpentachlorid 1C350 Phosphorpentasulfid 1C350 Phosphortrichlorid 1C350 Phosphorverbindungen, organische 3C003b Fotoelektronenvervielfacherröhren 6A202 Photoresists 3C002 Physikalische Beschichtung 2B005c Physikalische Beschichtung, (TE-PVD) 2E003f Picrylaminodinitropyridin (PYX) ML 8a Pilze, pflanzenpathogene Erreger 1C354b PIN, Identifikationsnummer 5A002a Pinakolon 1C350 Pinakolylalkohol 1C350 Pistolen ML 1, ML 18 Plasma-Massenspektrometer 3A233a Plasmaantrieb ML 12 Plasmalichtbogenkanäle 9B005b Plasmaspritzen, Herstellungsausrüstung 2B005d Plasmaspritzen, Technologie 2E003f Plastifiziermittel, energetisch wirksame ML 8e

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Stichwort Index

Platinierte Katalysatoren 1A225 Plutonium 1C012a Plutonium-238 1C012a Poly-2,2,3,3,4,4-Hexafluoropentan-1,5-diol-formal ML 8e Poly-2,4,4,5,5,6,6-heptafluoro-2-trifluoromethyl-3- ML 8e oxaheptan-1,7-diol-formal Poly-(3-nitratomethyl-3-methyloxethan) ML 8e Polyamin, cyanethyliertes ML 8e Polyamin-Addukte, cyanethylierte ML 8e Polyamidfasern, Technologie für 1E002d Polyamidimide 1C008a Polyanilin 1C001c Polybenzothiazolen, Technologie 1E002a Polybenzoxazolen, Technologie 1E002a Polybiphenylenethersulfon 1C008f Polybromtrifluorethylen 1C006c Polybutadien, hydroxylterminiertes (HTPB) ML 8e Polybutadien-Akrylsäure 1C111b Polycarbosilazane 1C007e Polychlortrifluorethylen 1C006c Polycyanodifluoraminoethylenoxid (PCDE) ML 8e Polydiorganosilane 1C007e Polyepichlorhydrin, niedermolekulares ML 8e Polyepichlorhydrindiol ML 8e Polyetheretherketon 1C008c Polyetherketon 1C008c Polyetherketone, aromatische 1C008c Polyetherketonetherketonketon 1C008c Polyetherketonketon 1C008c Polyethylen 1C010a Polyfunktionelle Aziridinamide ML 8e Polyglycidylnitrat ML 8e Polyimide 1C008a Polyimide, fluorierte 1C009b Polyketone, aromatische 1C008d Polyklonale Antikörper DEF Polymere Substanzen, nichtfluorierte 1A003 Polymere Werkstoffe 1C001c Polymere, energetisch wirksame ML 8e Polymere, nichtfluorierte 1C008 Polymere, piezoelektrische 1A001b Poly(Nitratomethyloxiran) ML 8e Polynitrocubane mit mehr als vier Nitrogruppen ML 8a Polynitroorthocarbonate ML 8e Polyphenylenvinylen 1C001c Polypyrrol 1C001c Polysilazane 1C007e Polysulfide, aromatische 1C008e Polythienylenvinylen 1C001c Polythiophen 1C001c

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Stichwort Index

Polyvinylidenfluorid 6A002a Positions-Rückmeldeeinheiten, lineare 2B008a Positionsbestimmung, Software zur 6D103 Positiv-Fotoresists 3C002a Post-Swirl-Technik Systeme 8A002o Praseodym-dotierter Fluoridfaserverstärker (PDFFA) 5E001c Präzisionsanflug-Radarsysteme 6A008f Präzisionsbahnverfolgungssysteme 6A108b Präzisionsmesssonden 2B228b Pre-Swirl-Technik Systeme 8A002o Primärzellen 3A001e Profilmesser 7B002b Projektionsteleskope 6A005f Propeller 8A002o Propeller, Software für die Geräuschminderung bei 8D002 Propeller, Technologie für die Geräuschminderung bei 8E002a Propellerblätter, Technologie für 9E003b Propellersysteme 8A002o Propfanblätter, Technologie für 9E003b Propylenimid ML 8e Prozess-Reaktionszeit 4D003d, DEF Prozesssteuerungen zur Pyrolyse 2B104 Prozesssteuerungen zur Verdichtung 2B104 Prüfausrüstung, Informationssicherheit 5B002 Prüfeinrichtungen f. Luftfahrtelektronik 7B Prüfeinrichtungen für Navigation 7B Prüfgeräte für Halbleiterbauelemente 3B002 Prüfgeräte für integrierte Schaltungen 3B002b Prüfgeräte für Telekomm.-Einrichtungen 5B001 Prüfkammern, Aerosol- 2B352g Prüfstände für Kreiselabstimmung 7B003a Prüfstände für Raketen und -motore 9B117 Prüfzentrifugen ML 18 Pseudomonas mallei 1C351c Pseudomonas pseudomallei 1C351c Psychokampfstoffe ML 7 Puccinia graminis 1C354b Puccinia striiformis 1C354b DEF Pulsostrahltriebwerke 9A111 Pulsostrahltriebwerke, Bestandteile für 9A111 Pulverisierung 1C002b, DEF Pump-Laserquellen 6A005 Pumpen für Chemieanlagen 2B350i Pumpen für Flüssigtreibstoff 9A106d

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Stichwort Index

Pumpen mit Mehrfachdichtung 2B350i Pumpen, Amalgam- 1B233b Pumpen, Faltbalg 2B350i Pumpen, Hochdruckturbo- 9A006d Pumpen, Lithium-Amalgam 1B233b Pumpen, Magnetkupplungs- 2B350i Pumpen, Membran 2B350i Pumpen, Quecksilber-Amalgam 1B233b Pumpen, Spaltrohrmotor 2B350i Pumpenbestandteile 9A006d PVD-Beschichten, Technologie 2E003f Pyrolyseausrüstung 2B104 Pyrolyseausrüstung, Software für 2D101 Pyrolysierte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Werkstoffe 1A102 Pyrolytisch erzeugte Materialien,Technol. 1E104 QAM-Techniken, Entwicklungstechnologie 5E001b Quadratur-Amplituden-Modulation (QAM), Software für 5D001d Quarz-Messwertaufnehmer 6A226b Quecksilber-Amalgampumpen 1B233b Radar mit inverser künstlicher Apertur (ISAR) 6A008d Radar mit künstlicher Apertur (SAR) 6A008d Radar, -geräte, -systeme ML 5, ML 11, 6A008, 6A108, Radar-Zielgeneratoren ML 14 Radar-Zielübungsgeräte ML 14 Radarreflexion 1C101 Radartrainer ML 14 Radionuklide 1C236 Radium-226 1C237 Radome, Software für 6D003d

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Stichwort Index

Raketenmotorgehäuse 9A108a Raketenstartausrüstung 9A115a Raketensysteme, Werkstoffe 1A102 Raman-Laser 6A005 Rasterelektronenmikroskope 3B002d Rauchbüchsen ML 4a Raumfahrzeuge, Software für 9D Raumfahrzeuge, Technologie für 9E Read-only media 5A002a Reaktionsbehälter 2B350a Reaktoren für Chemieanlagen 2B350a Rechenelement 4, 4A003c, DEF Rechner, neuronale 4A004b Rechner, optische 4A004c Rechner, Software 4D Rechner, systolische Array 4A004a Rechner, Technologie 4E Reflektometer für Ringlaserkreisel 7B102 Reflektoren (Optische Spiegel) 6A004a Regelkreise 2B006b Regelungssysteme für Flüssigtreibstoffe 9A106d Regelungssysteme, Suspensionstreibstoffe 9A106d Reifendruck-Regelvorrichtungen ML 6 Reinigungssysteme, Wasserstoffisotopen 1B231b Reizstoffe ML 7, ML 7c, DEF Reparaturwerkstätten, mobile ML 17j Resaturierte, pyrolysierte Werkstoffe 1A102 Resonatoren 3A001b Restlichtfernsehkameraröhren ML 15 Reticles 3B001g Rettungskapseln ML 10h Revolver ML 1, ML 18 Richtfunkausrüstung 5A001b Ricin 1C351d Rickettsia prowasecki 1C351b Rickettsia quintana 1C351b Rickettsia rickettsii 1C351b Rickettsiae 1C351b Rinderpest-Virus 1C352a

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Stichwort Index

Roboter für Unterwassereinsatz 8A002h Roboter, strahlungsgehärtet 2B007c Rohkristalle, birnenförmige 6C004b Rohre, mehrwandige, für Chemieanlagen 2B350h Röhren, schnell abstimmbare ML 11 Rohrwaffen-Lafetten ML 1d Rohrwaffenrichtgeräte ML 5a Rollenlager 2A001 Röntgenblitzgeneratoren 3A201c Röntgentomographie 1B001f Rotationszerstäubung 1C002b, DEF Rotorbauteile 2B229b Rotorfertigungsausrüstung 2B228 Rotormontageausrüstung 2B228a Rotorrichtausrüstung 2B228b Rotorteile 2B228b RPVs (remotely piloted air vehicles) ML 10d Rückkopplungs-Servosteuerung 8A002b Rückkopplungs-Testausrüstung 2B116a Rückschlagventile 2B350g Rundfunkempfänger 5A002a Salmonella typhi 1C351c Saphire, titandotierte 6C005a SAR (Radar mit künstlicher Apertur 6A008d SAR, Synthetic-Aperture Radar 6A008d Sarin ML 7 Satellitenfunk 5A001b Satellitenkommunikation, Technologie 5E001b Sauerstoffgeräte ML 10i Saxitoxin 1C351d Schafpocken-Virus 1C352a Schalldämpfer ML 1d Schalltote Räume 9B106b Schaltelemente 3A228 Schaltfunkenstrecken 3A228 Schaltungen 3A001b Schaltungselement DEF Schaufelkanal 9E003a Schaum, syntaktischer 8C001 Schiesspulver ML 8b Schiffsgasturbinen 9A002 Schiffskörper ML 9a

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Stichwort Index

Schiffstechnik 8 Schiffstechnik, Software für 8D Schiffstechnik, Technologie für 8E Schleifmittel 1C007b Schlepp-Hydrophonanordnungen 6A001a Schleudersitze ML 10h Schleudersitzsysteme ML 10h Schlickerbeschichten, Technologie für 2E003f Schlüssellänge Anmerkung zu Kat. 5, Teil 2 Schmiedestücke ML 16 Schmiermittel 1C006b Schneckenstrangpressen ML 18 Schneideinrichtungen 1B101d Schneidmaschinen ML 18 Schnurlose Telefone 5A002a Schubdüsen 9A008c Schubdüsen, Technologie für 9E003a Schubvektorsteuersysteme 9A008d Schürzen, flexible 8A002k Schürzenfinger 8A002k Schutzanzüge 1A004b Schutzanzüge, fremdbelüftete 2B352f Schutzausrüstung ML 13, 1A004 Schutzausrüstung, Technologie für 1E001 Schutzgas-Induktionsöfen 2B226 Schutzgaszerstäubung 1C002b Schutzkleidung ML 7e Schutzmasken ML 10g, Schwarzpulver ML 8 Schwefeldichlorid 1C350 Schwefelloste ML 7 Schwefelmonochlorid 1C350 Schweinepest-Virus 1C352a Schwenk-Rundtische 2B008c Schwenkdüsen 9A008d Schwenkrotor-Luftfahrzeuge, Technologie 9E003d Schweres Wasser, Trennanlagen 1A226 Schwerkraftgradientenmesser, Software für 6D003c Schwerkraftmesser 6A007 Schwerkraftmesser, Bestandteile für 6A107 Schwerkraftmesser, Herstellungsausrüstung für 6B007 Schwerkraftmesser, Software für 6D003c Schwermetallfluoride 6C004e Schwerwasserproduktion, Katalysatoren 1A225 Schwingerreger für Vibrationsprüfung 2B116c

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Stichwort Index

Schwingungsprüfausrüstung, akustische 9B006 Sekundär-Überwachungsradarsysteme 6A008 Sende-/Empfangs-Systeme, Akustik 6A001a Senkerodiermaschinen 2B001d Sensor-Elemente, Akustik 6A001a Sensorausrüstung, passive 7A115 Sensoren, optische, Teile für 6A002d Sensoren, supraleitende elektromagn. 6A006h Separatoren 1B226 Separatoren zur Isotopentrennung 1B226 Servoventile 9A106d Shiga-Toxin 1C351d Shigella dysenteriae 1C351c SHPL, Super-High Power Laser 6A005f, 6E003b, DEF Sicherheit, mehrstufige 5A002a Sicherheitsbereiche 2B352a Sicherheitswerkbänke 2B352f Sicherungseinrichtungen ML 3 Siebböden 1B229 Signal-Digitalisierer 3A002a Signal-Prozessoren 3A001a Signalanalysatoren 3A002c, DEF Signaldatenverarbeitung, Akustik 6A001a Signaldatenverarbeitung, digitale 5A001b Signaldatenverarbeitung, Radar 6A008k Signaldatenverarbeitungs-Vorrichtungen 3A001c Signaldatenverarbeitungsrechner 4A003 Signalgeneratoren 3A002d Signalisierung über zentralen Zeichengabekanal 5B001b, 5E001c, DEF Signalisierungssysteme 5A001c Signallaufzeit des Grundgatters 3A001a, DEF Signalmunition ML 3 Signalübertragungseinrichtungen 8A002d Signaturen, digitale 5A002a Sila-Kohlenwasserstofföle 1C006a Silbergalliumselenid 6C004b Silicium 3C001a Siliciumcarbid 6C004d Siliciumcarbidfasern 1B001d Silikone 1C006b Silizium 3C001a Siliziumkarbid 6C004d Siliziumkarbidfasern 1B001d Silylierte Photoresists 3C002d Simulationssoftware 5D002c Simulationssoftware für Steuerungssysteme 7D103 Simulationssoftware, militärische ML 21b

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Stichwort Index

Simulatoren für militärische Kernreaktoren ML 17i Skalierungsfaktor 7A001b, DEF Slapperzünder 3A232a SLAR, Side Looking Airborne Radar 6A008d Smart cards 5A002 Software siehe Abschnitt D in jeder Kategorie, DEF Software für Akustik 6D003a Software für allgemeine Elektronik 3D Software für Antriebe 9D Software für die Geräuschminderung von Propellern 8D002 Software für die Werkstoffbearbeitung 2D Software für dynamische adaptive Leitweglenkung 5D001c Software für Hochleistungswerkstoffe 1D Software für Laser 6D001 Software für Luftfahrtelektronik 7D Software für Meerestechnik 8D Software für militärische Waffensysteme ML 21b Software für militärische Zwecke ML 21 Software für Mobilfunkeinrichtungen 5D001c Software für Rechner 4D Software für Schiffstechnik 8D Software für Telekommunikationssysteme 5D Software für Transportausrüstung 9D Software zur Positionsbestimmung 6D103 Software zur Verringerung des Navigationsfehlers 7D003a Software-Entwicklungswerkzeuge 4D003a Solargeneratoren 3A001e Solarzellen, weltraumgeeignet 3A001e Solenoid-Elektromagnete, supraleitende 3A201b Soman ML 7 Sonar-Korrelationsausrüstung 6A001b Sonarausrüstung 6A001 Spaltrohrmotorpumpen 2B350i Spannvorrichtungen 1B003 Speicher, (SRAM) 3A001a DEF Speicherprogrammierbare Vermittlungseinrichtungen 5B001b Speicherschaltungen 3A001a Speichersysteme für Wasserstoffisotopen 1B231b Speichertanks für flüssige Treibladungen ML 2a Spektralanalyse 3A001c Spektrometer zur Halbleiterprüfung 3B002d Spezial-Tankfahrzeuge ML 6 Spezialpanzerausrüstung ML 13

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Stichwort Index

Spiegel mit kardanischer Aufhängung 6A004d Spiegel, gekühlte, Bauteile für 6A005e Spiegel, optische (Reflektoren) 6A004a Spiegel, optische, Bauteile für 6A005e Spiegel, Steuereinrichtungen für 6A004d Spiegel, strahllenkende 6A004a Spiegel, verformbare 6A004a Spiegel, weltraumgeeignet 6A004c Spitzenleistung 6A005, DEF Sportwaffen ML 1 Sprach-Codierung 5A001b Sprengkörper ML 4a Sprengkörper-Ladungen ML 4a Sprengstoffe ML 18, 1C239 Sprengstoffe, militärische ML 8, ML 8, ML 8b, ML 18 Sprytrons, Vakuum 3A228a Sputterbeschichtung, Ausrüstung 2B005e SSR (Sekundär-Überwachungsradarsysteme) 6A008 SSR, Secondary Surveillance Radar 6A008 Stabilisierungskreisel 7A103b Stahlhelme ML 13, ML 18 Stanzformen 1B101d Staphylococcus-aureus-Toxine 1C351d Startantriebssysteme ML 12 Startausrüstung für Flugkörper 9A115 Starteinrichtungen ML 6 Startgeräte ML 10d Staustrahltriebwerke 9A011 Steckverbinder für Schiffe ML 9f Stehbildkameras 8A002e Stellmotorentechnologie für Flugsteuerungen 7E004a Step-and-repeat-Belichtungsanlagen 3B001f Stetigmischer ML 18 Steuerbefehlsgeneratoren, Technologie 2E003d Steuereinrichtung für optische Elemente 6A004d Steuereinrichtungen ML 9c Steuerkursreferenzsysteme 7D002 Steuerkurssensoren 6A001a Steuerschirme ML 10h Steuerungen, digit., f.Vibrationsprüfung 2B116b Steuerungsausrüstung ML 10d

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Stichwort Index

Steuerungssysteme, Herstellungsanlagen 7B103 Steuerungssysteme, Software für 7D103 Stickstofflaser 6A005a Stickstoffloste ML 7 Störstrahlung 5A001a Stosswellenkanäle 9B005b Stosswellenrohre 9B005b Strahlausbreitung ML 19 Strahlausrichtung ML 19 Strahlendosimeter ML 7f, ML 18 Strahlenschutzfenster 1A227 Strahlenwaffen ML 19 Strahlenwaffen-Systeme ML 19, ML 19 Strahlführungselemente, optische 3A001a Strahllenkende Spiegel 6A004a Strahllenkung ML 19 Strahlmühlen ML 18 Strahlruder 8A002a Strahlsteuerungstechniken 5A001b Strahlungsbelastung 4A001a Strahlungsdosisleistung, kritische 4A001a Strahlungsfeste integrierte Schaltungen 3A001a Strahlungsfeste Sensoren 6A002 Strahlungsfeste TV-Kameras 6A203c Strahlungsfestigkeit 3A001a Strahlungsgehärtete Roboter 2B007c Strangpressen 1C Streak-Elektronenröhren 6A203b Streckeinrichtungen 1B101d Streckziehpressen, Technologie 2E003c Streustrahlungsmesser 7B002a Stroboskopleuchten 8A002g Stromerzeugungsaggregate, mobile ML 17k Strominjektoren ML 19 Stromquellen für hohe Leistungen ML 3, ML 4b Stromschalter 3A001d Strömungskanäle, Technologie für 9E003a Strontiumbariumniobat 6A002a Stufenverbindungen für Flugkörper 9A117 Stufungsmechanismen für Flugkörper 9A117 Sturzhelme ML 10g Submunition ML 3 Substrate mit Photoresists 3C002 Superkavitierende Propeller 8A002o Superkavitierende Tragflügel 8A002m Superplastisches Umformen, Ausrüstung 1B003, 2E003b Superplastisches Verformen, Technologie 2E003b

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Stichwort Index

Supraleitend ML 18, ML 20, 1C005, Supraleitende Ausrüstung ML 20 Supraleitende Bauelemente 3A001d Supraleitende Bauelemente, Technologie 3E001, 3E002c Supraleitende Doppelleiter 1C005 Supraleitende Filamente 1C005b Supraleitende Schaltungen 3A001d Supraleitende Solenoid-Elektromagnete 3A201b Supraleitende Werkstoffe ML 18, 3A001d Supraleitende Zylinderspulen 3A001e Symmetrische Algorithmen Anmerkung zu Kat. 5, Teil 2, Syntaktischer Schaum 8C001 Synthetische Diamanten 6C004f Systeme, automatische Bewegungssteuerung 8A002b Systemzieldaten 6D003d, DEF Systolischer Array-Rechner 4A004a, DEF Tabun ML 7 Tankwagen ML 10f Tauchfahrzeuge, bemannte, gefesselte 8A001a Tauchfahrzeuge, bemannte, ungefesselte 8A001b Tauchfahrzeuge, unbemannte, gefesselte 8A001c Tauchfahrzeuge, unbemannte, ungefesselte 8A001d Taumelmischer ML 18 TCSEC-Kriterien (Trusted Computer System Evaluation 5A002a Criteria) TE-PVD-Beschichten, Technologie 2E003f Technologie siehe Abschnitt E in jeder Kategorie, DEF Technologie für allgemeine Elektronik 3E Technologie für Antriebe 9E Technologie für die Geräuschminderung von Propellern 8E002a Technologie für die Werkstoffbearbeitung 2E Technologie für Hochleistungswerkstoffe 1E Technologie für Informationssicherheit 5E002 Technologie für Luftfahrtelektronik 7E Technologie für Meerestechnik 8E Technologie für militärische Zwecke ML 7, ML 18, ML 22 Technologie für Navigation 7E Technologie für Rechner 4E Technologie für Schiffstechnik 8E Technologie für Telekommunikationssyteme 5E001 Technologie für toxische Wirkstoffe ML 7i Technologie für Transportausrüstung 9E Teilchenbeschleuniger ML 19

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Stichwort Index

Teilchenstrahl-Systeme ML 19b Teilmantelgeschoss ML 3 Teiloktavenfilter 3A002c Telefone, schnurlose 5A002a Telefonverkauf Anmerkung zu Kat. 5, Teil 2 Telekommunikation 5 Telekommunikationseinrichtungen zur Verwendung 5E001b in Satelliten, Technologie für Telekommunikations, Entwicklungseinrichtungen 5B001 Telekommunikations, Herstellungseinrichtungen 5B001 Telekommunikations, Verwendungseinrichtungen 5B001 Telekommunikationsgeräte 5A001a Telekommunikationssoftware 5D001 Telekommunikationssyteme, Technologie 5E001 Telekommunikationsübertragungseinrichtungen 5A001b Telekommunikationsübertragungssysteme 5A001b Tellur 6C002a Terephthalsäure 1C008b Teschen-Virus 1C352a Test-Magnetbänder 3A002a Testanlagen für Raketen 9B117 Testanlagen für Raketenmotoren 9B117 Testeinrichtungen für Luftfahrtelektron. 7B Testeinrichtungen für Navigation 7B Tetraacetyldibenzylhexaazaisowurtzitan (TAIW) ML 8e Tetraethylenpentaaminacrylnitril (TEPAN) ML 8e Tetraethylenpentaaminacrylnitrilglycidol (TEPANOL) ML 8e Tetranitrobenzotriazolobenzotriazol (TACOT) ML 8a Tetranitroglycoluril (TNGU, SORGUYL) ML 8a Tetrodotoxin 1C351d Textilmaschinen 1B001c Thalliumarsenselenid 6C004b Thermoionisations-Massenspektrometer 3A233c Thermolumineszens-Dosimeter 1C233 Thermoplastische Flüssigkristall-Copolymere 1C008b Thiodiglykol 1C350 Thioether 1C006b Thionylchlorid 1C350 Tiefenmesser, akustische 6A001a Tiefkühlsysteme 9A006b Tieflochbohrmaschinen 2B001f Tieflochdrehmaschinen 2B001f Tieftemperatur-Ausrüstung ML 20 Tieftemperaturdestillationskolonnen 1B228 Tiegel 2A225 Titan-Aluminide 1C002a Titanbasislegierungen 1C002a Titansubhydrid ML 8a

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Stichwort Index

Torpedonetze ML 9d Torpedos ML 4, ML 4a Toxische Gase 2B351 Toxische Gase, Ausrüstung für 2B351 Toxische Wirkstoffe ML 7, 1C350 Toxische Wirkstoffe, Technologie für ML 7i Trägerfrequenz 5A001b Trägerraketen 9A004 Trägerraketen, Strukturen 9A010 Trägerraketen, Systeme 9A010 Tragflügel 8A002m Tränengase ML 7, ML 7c, DEF Transcoder 5A001b Transfer-Laser 6A005a, DEF Transientenrekorder 3A002a Transportausrüstung 9 Transportausrüstung, Software für 9D Transportausrüstung, Technologie für 9E Treibladungen, flüssige ML 2a Treibmittel, zweibasige ML 8b Treibstoffe, militärische ML 8, ML 8b, ML 18 Treibstofflagersysteme 9A006f Treibstoffregelungssysteme 9A106d Treibstoffzusätze, Herstellungsausr. 1B115 Trennmechanismen für Flugkörper 9A117 Triaminoguanidinnitrat (TAGN) ML 8a Triaminotrinitrobenzol (TATB) ML 8a Triethanolamin 1C350 Triethanolamin-Hydrochlorid 1C350 Triethylenglykoldinitrat 1C111c Triethylphosphit 1C350 Triglycinsulfat 6A002a Trimethylphosphit 1C350 Trinitrophenylmethylnitramin (Tetryl) ML 8a Triphenylen 1C008e Triphenylwismut (TPB) ML 8e Tris-1-(2-methyl)aziridinylphosphinoxid (MAPO) ML 8e Tris-(2-chlorethyl)-amin ML 7 Tris(2-chlorvinyl)-arsin ML 7

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Stichwort Index

Tritium 1C235 Tritium, Herstellungsausrüstung 1B231a Tritium, Rückgewinnungsausrüstung 1B231a Tritium-Anlagen 1B231 Tritiumerzeugnisse 1C235 Tritiumrückgewinnung, Katalysatoren für 1A225 Tritiumverbindungen 1C235 Trockenätzen im Plasma 3B001c Trockenpressen ML 18 Turbinenrotorkomponenten, Werkzeuge für 9B009 Turbinenschaufeln, Technologie für 9E003a Turbogridböden 1B229 Turboladersysteme, Technologie für 9E003e TV-Kameras, strahlungsfeste 6A203c U-Bootnetze ML 9d Überdruckanzüge ML 10g Übertragungsrate, digitale 5B001b, DEF Übertragungsrate, gesamte, digitale 5A001b², 5B001b, DEF Überwachungssysteme für toxische Gase 2B351 Überwasserfahrzeuge 8A001 Übungsgeräte für die U-Boot-Bekämpfung ML 14 Übungsgeräte für Flugkörperstarts ML 14 Ultraschalltomographie 1B001f Umfüllsysteme für Wasserstoff 9A006c Umsetzer zur Frequenzbereichserweiterung 3A001b Umwälzpumpen für Kaliumamid-Katalysator 1B230 Umweltprüfeinrichtungen, für militärische Waren ML 18b Umweltprüfkammern 9B106 Unterkavitierende Tragflügel 8A002m Unterstände, militärische ML 13b Unterstützungssoftware für Technologie 5D002b Unterwasser-Beobachtungssysteme 8A002d Unterwasser-Fernsehkameras 8A002d Unterwasser-Geräuschminderung, Geräte zur 8A002j Unterwasserausrüstung 8A001 Unterwassergegenmassnahmen, Ausrüstung ML 11 Uran-Titanlegierungen 1C004 Urheberrechte 5A002a Vakuum-Destillationskolonnen 1A226 Vakuum-Induktionsöfen 2B226 Vakuum-Sprytrons 3A228a Vakuum-Zerstäubung 1C002b, DEF Vakuumbauelemente, Technologie für 3E002a

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Stichwort Index

Vakuumzerstäubung 1C002b, DEF Variola-Virus 1C351a Vektorprozessoren 3A001a Vektorrate 4A003d, DEF Vektorrechner 4A003 Venezuelan Equine Enzephalitis-Virus 1C351a Ventilböden 1B229 Ventile mit Federbalgabdichtung 2A226 Ventile mit Mehrfachdichtung 2B350g Ventile, Faltenbalg 2B350g Ventile, Membran 2B350g Ventile, Servo-, für Treibstoff 9A106d Verbindungen, fluorierte 1C009 Verbindungen, fluorierte, Bauteile 1A001 Verbindungen, metallorganische 3C003a Verbindungen, organisch-anorganische 3C003 Verbindungshalbleiter 3A001a Verbindungshalbleiter-Fotokathoden ML 15, 6A002a Verbrennungseinrichtungen für chem. Kampfstoffe 2B350j Verbrennungsregelung für Triebwerke 9A118 Verbundwerkstoff-Strukturen für Raumfahrzeuge 9A110 Verbundwerkstoffe für Flugkörperradome 1C107b Verbundwerkstoffe in Rohrform 1A202 Verbundwerkstoffe, Software 1D002 Verbundwerkstoffe, Technologie für 1E001 Verdampfer für Lithiumhydroxidlösung 1B233 Verdichtungsausrüstung 2B104 Verdicker ML 8d Verformbare Spiegel 6A004a, DEF Vermittlungseinrichtungen, speicherprogrammierbare 5B001b Vernetzung von Rechnern 4A003g Verotoxin 1C351d Versandverkauf Anmerkung zu Kat. 5, Teil 2 Verkauf über elektronische Medien Anmerkung zu Kat. 5, Teil 2 Verschlüsselungsverfahren ML 11, 5A002 Versorgungskabel für Tauchfahrzeuge 8A002a Verstärker 3A001b Verstärker, regenerative 5A001b Verstärkungsfasern, Herstellungsausrüst. 1B001d

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Stichwort Index

Verstellbare Blattprofilgeometrie 7E004c, DEF Verstellpropeller 8A002o Versuchsmodelle, physische ML 19e Verteilungs-Schlüsselgeräte ML 11 Verwendungssoftware, militärische ML 21a Verwendungstechnologie, militärische ML 7i, ML 22 Vesikuläre Stomatitis-Virus 1C352a Vibrationsprüfausrüstung 2B116 Vibrationsprüfsysteme 2B116 Vibrationsprüfsysteme, Software für 2D101 Vibrio cholerae 1C351c Videobandgeräte 3A002a Videokameras 6A003b Videokameras mit Halbleitersensoren 6A003b Videomagnetbandgeräte 3A002a Vidicon-Röhren 6A203b Virus der Pest der kleinen Wiederkäuer 1C352a Virus der russischen Frühjahr-/Sommerenzephalitis 1C351a Viskose Strömung, Software für 9D004a Vollautomatische Regelung eines Fluges 7D003d, 7E004b, DEF Volldigitale Triebwerksregelung (FADEC) 7E004b, 9D003, DEF Volldigitale Triebwerksregelung, Software für 9D003 Volumenwellenvorrichtungen, akustische 3A001c Vormaterialien 1C007e Vormaterialien, keramische 1C007 Vorprodukte ML 8e, DEF Vorwahl, automatische 5A001b w-Chloracetophenon ML 7c Wafer 3A001a Wafer, epitaktische 6C002b Wafer, Mehrprozessverarbeitung 3B001e Waferfertigung 3B001f Waferhandlingsysteme 3B001e Waffen für Exerziermunition ML 1d Waffen für hülsenlose Munition ML 1c Waffen für Randfeuer-Hülsenpatronen ML 1c Waffen grösseren Kalibers ML 2 Waffen mit glattem Lauf ML 1b Waffen, rückstossfreie ML 2a Waffen-Übungsgeräte ML 14 Waffensteuersysteme ML 5a Waffensysteme, hohe kinetische Energie ML 12, ML 12a Waffensysteme, Software für ML 21b Waffenzielgeräte ML 5a Wälzlager 2A001 Wälzlager-Systeme 2A001 Wanderfeldröhren 3A001b Wandler 6A001a Wandlerschaltungen 3A001a Wandlungselemente 6A001a Wärmebild-Ausrüstung ML 15d Wärmeleitrohre 9A006a Wärmequellen, nukleare 1C012 Wärmetauscher 2B350d

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Stichwort Index

Wasserbomben ML 4a Wasserschraubenpropeller 8A002o Wasserstoff-Kälteaggregate 1B231b Wasserstoffionenstrahlen ML 19 Wasserstoffisotopen-Reinigungssysteme 1B231b Wasserstoffisotopen-Speichersysteme 1B231b Wasserstoffisotopenstrahlen ML 19 Wasserstrahlantriebssysteme 8A002p Wasserumlauftanks, Prüfeinrichtungen für 8B001 Webmaschinen 1B001c Weltraumgeeignete Detektoren 6A002a Wendelröhren 3A001b Werfer ML 2 Werfer, pyrotechnische ML 2b Werkstoffbearbeitung 2 Werkstoffbearbeitung, Software 2D Werkstoffbearbeitung, Technologie 2E Werkstoffe 1 Werkstoffe, Software für 1D Werkstoffe, Technologie für 1E Werkzeugmaschinen, Baueinheiten für 2B008 Werkzeugmaschinen, Baugruppen für 2B008 Werkzeugmaschinen, Einsätze für 2B008 Werkzeugmaschinen, Zahnradbearbeitung 2B003 Werkzeugschärfmaschinen 2B001c Werkzeugschleifmaschinen 2B001c Western Equine Enzephalitis-Virus 1C351a Wetterradarsysteme 6A008 Whitepox-Virus 1C351a Wiedereintrittsfahrzeuge für Flugkörper 9A116 Wiedereintrittsfahrzeuge, elektronische Ausrüstung für 9A116d Wiedereintrittsfahrzeuge, Herstellungsausrüstung 9B115 Wirkstoffe, toxische ML 7 Wismut 1C229 Wolframcarbid 1C226 Xanthomonas albilineans 1C354a Xanthomonas campestries 1C354a Xanthomonas citri 1C354a Xenon-Blitzlampentreiber 3A229b

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Stichwort Index

Yersinia pestis 1C351c Yttriumoxid 2A225a Zeckenenzephalitis-Virus 1C351a Zeitkonstante 6A002a, DEF Zellkulturen, Technologie für ML 7i Zellulare Funksysteme 5A002a Zentraleinheiten 4, 4A003a Zentrifugalseparatoren 2B352c Zentrifugalvorrichtung für Kreisellager 7B003e Zertifizierungssoftware 5D002c Ziegenpockenvirus 1C352a Zielansteuerungssysteme ML 12 Zieldarstellungsgeräte ML 14 Zielentfernungsmesssysteme ML 5b Zielerfassungssysteme ML 5b, ML 19, ML 12 Zielsuchsysteme ML 12 Zielüberwachungssysteme ML 5b Zielverfolgungssysteme ML 5b, ML 12, ML 19, Zielzuordnungssysteme ML 5b Zinkselenid 6C004a Zinksulfid 6C004a Zirkondioxid 2A225a Zirkoniumfluoridglas 6C004e Zirkoniumverbindungen 1C234 Zugangskontrolle 5A002a Zugmaschinen ML 6 Zündhammer 3A232 Zündhütchen ML 3 Zündvorrichtungen 3A229 Zusammenges. theor. Verarbeitungsrate 3A001a, 4, 4A003b, 4A003c, DEF Zusatzausrüstung für Luftfahrzeuge ML 10 Zylinderköpfe, keramische, Technologie 9E003e Zylinderlaufbuchsen, keramische, Technologie 9E003e Zylinderspulen, supraleitende 3A001e

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