Divea SA
Corporation · Sion
Commercial register
- CH-ID
- CH62630242189
- Legal form
- Corporation
- Registered seat
- Sion
- Address
- c/o Fondation The Ark, Rue de l'Industrie 23, 1950 Sion, 1950 Sion
- Canton
- Valais
- Capital
- CHF 100'000
- Status
- Active
- Entered on
- May 14, 2024
Purpose
La société vise généralement à élargir l'arbre technologique de l'humanité en développant des produits à valeur ajoutée à la société basés sur des membranes en graphène ou autres. La société a en particulier pour but principal la recherche, le développement, la production et la commercialisation à grande échelle de nanopores dans une couche monatomique de graphène pour la réparation de gaz, en particulier pour capturer le CO2 des émissions industrielles Elle peut effectuer toutes opérations en rapport avec cette activité ainsi que toutes opérations de nature à favoriser le but et l'intérêt de la société. Elle peut créer des succursales en Suisse et à l'étranger, participer à d'autres entreprises en Suisse et à l'étranger, acquérir des entreprises visant des buts analogues, fusionner avec de telles entreprises et conclure tous contrats propres à développer ou à atteindre son but ou s'y rapportant directement ou indirectement. Elle pourra également accorder des prêts à ses actionnaires ou à des tiers, se porter caution ou garantir tout engagement pris par ses actionnaires ou des tiers.
Official register excerpt · Entry on Zefix
Source: Swiss commercial register (Zefix, SHAB) and the cantonal registry office. · checked Sep 23, 2026
Gazette notices
2 notices
Feb 24, 2025Change · Valais
Mutation Divea SA, Sion
Divea SA, à Sion, CHE-380.261.394, société anonyme (No. FOSC 92 du 14.05.2024, Publ. 1006031962). Inscription ou modification de personne(s): Martin, Yves-Loic, ressortissant français, à Kraainem (BE), administrateur, sans droit de signature.
May 14, 2024New entry · Valais
Nouvelles entrées Divea SA, Sion
Divea SA, à Sion, CHE-380.261.394, c/o Fondation The Ark, Rue de l'Industrie 23, 1950 Sion, société anonyme (Nouvelle inscription). Date des statuts: 09.04.2024. But: La société vise généralement à élargir l'arbre technologique de l'humanité en développant des produits à valeur ajoutée à la société basés sur des membranes en graphène ou autres. La société a en particulier pour but principal la recherche, le développement, la production et la commercialisation à grande échelle de nanopores dans une couche monatomique de graphène pour la réparation de gaz, en particulier pour capturer le CO2 des émissions industrielles Elle peut effectuer toutes opérations en rapport avec cette activité ainsi que toutes opérations de nature à favoriser le but et l'intérêt de la société. Elle peut créer des succursales en Suisse et à l'étranger, participer à d'autres entreprises en Suisse et à l'étranger, acquérir des entreprises visant des buts analogues, fusionner avec de telles entreprises et conclure tous contrats propres à développer ou à atteindre son but ou s'y rapportant directement ou indirectement. Elle pourra également accorder des prêts à ses actionnaires ou à des tiers, se porter caution ou garantir tout engagement pris par ses actionnaires ou des tiers. Capital-actions: CHF 100'000.00. Capital-actions libéré: CHF 50'000.00. Actions: 10'000'000 actions nominatives de CHF 0.01 avec restriction de transmissibilité selon statuts. L'assemblée générale a introduit une clause statutaire relative à une augmentation du capital-actions au moyen d'un capital conditionnel, par décision du 09.04.2024; pour les détails, voir les statuts. Organe de publication: FOSC. Communication aux actionnaires: par lettre ou email. Personne(s) inscrite(s): Khalil, Karl, ressortissant libanais, à Sion, président du conseil d'administration, avec signature individuelle; Agrawal, Kumar Varoon, ressortissant indien, à Vevey, administrateur, avec signature collective à deux; Rezaei, Mojtaba, ressortissant iranien, à Aigle, administrateur, avec signature collective à deux. Selon déclaration du 09.04.2024, il est renoncé à un contrôle restreint.