Roth, Martin, Dr.
CH-1711 Giffers
Marcas, designs e patents
Negativ-Photoresist auf Basis von Polyphenolen und Epoxidverbindungen oder Vinylethern
Patent europeic · EP0255989 · Inventur
Copolymere aus N-Hydroxyphenylmaleinimid(derivaten) und Allylverbindungen
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