Olin Microelectronic Chemicals, Inc.
Norwalk, Connecticut 06856-4500
Patents
Fotolackzusammensetzungen
EP0718317
Durch Belichtung einer Säure erzeugende Zusammensetzung für strahlungsempfindliche Zusammensetzungen
EP0717319
Photoresistmaterial auf Basis von Polystyrolen
EP0568496
VOLLSTÄNDIG SUBSTITUIERTE NOVALAK-POLYMERE ENTHALTENDE STRAHLUNGSEMPFINDLICHE ZUSAMMENSETZUNGEN
EP0490966
Vollständig substituierte Novalak-Polymere enthaltende Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen
EP0701169
Possessur da 5 patents, 0 en vigur.
Da Swissreg, il register da l’Institut federal da la proprietad intellectuala: patents svizzers e patents europeics cun effect en Svizra. In patent figurescha qua, sch’il num da ses possessur è il num da questa unitad giuridica.