Meier, Kurt, Dr.
CH-4123 Allschwil
Marcas, designs e patents
Negativ-Photoresist auf Basis von Polyphenolen und Epoxidverbindungen oder Vinylethern
Patent europeic · EP0255989 · Inventur
Verfahren zur Herstellung von Metallocenkomplexen
Patent europeic · EP0207889 · Inventur
Härtbare Zusammensetzung und deren Verwendung
Patent europeic · EP0152377 · Inventur
Härtbare Zusammensetzung und deren Verwendung
Patent europeic · EP0126712 · Inventur
Verfahren zur Produktion von Wasserstoff mittels heterogener Photoredoxkatalyse und dabei einsetzbare neue Katalysatoren
Patent europeic · EP0100299 · Inventur
Härtbare, Metallocenkomplexe enthaltende Zusammensetzungen, daraus erhältliche aktivierte Vorstufen und deren Verwendung
Patent europeic · EP0094915 · Inventur
Photopolymerisation mittels organometallischer Salze
Patent europeic · EP0094914 · Inventur
Verfahren zum Abscheiden von Metallen auf Halbleiterpulvern
Patent europeic · EP0163876 · Inventur
Verfahren zum Abscheiden von Metallen auf Halbleiterpulvern
Patent europeic · EP0084517 · Inventur
Verfahren zur Produktion von Wasserstoff mittels heterogener Photoredoxkatalyse und dabei einsetzbare neue Katalysatoren
Patent europeic · EP0058136 · Inventur