naneos particle solutions GmbH
Gesellschaft mit beschränkter Haftung · Windisch
Handelsregister
- CH-ID
- CH40040349920
- Rechtsform
- Gesellschaft mit beschränkter Haftung
- Sitz
- Windisch
- Adresse
- Alte Spinnerei 9, 5210 Windisch, 5210 Windisch
- Kanton
- Aargau
- Kapital
- CHF 20'000
- Status
- Aktiv
- Eingetragen am
- 12.01.2012
- Statuten
- 21.12.2011
Zweck
Entwicklung von Software, Firmware, elektronischen und mechanischen Komponenten, insbesondere für den Bereich der Messung von Nanopartikeln; die Gesellschaft kann Zweigniederlassungen und Tochtergesellschaften errichten, sich an anderen Unternehmen beteiligen, Grundeigentum erwerben, belasten, veräussern und verwalten, Finanzierungen für eigene oder fremde Rechnung vornehmen sowie Garantien und Bürgschaften für Tochtergesellschaften und Dritte eingehen.
Offizieller Handelsregisterauszug · Eintrag auf Zefix
Quelle: Schweizer Handelsregister (Zefix, SHAB) und das kantonale Handelsregisteramt. · geprüft am 19.09.2026
Organe und Zeichnungsberechtigte
4
Fierz, Martin
Gesellschafter und Geschäftsführer · Einzelunterschrift · von Zürich, Küsnacht ZH
Meier, Dominik
Gesellschafter · Einzelunterschrift · von Waltenschwil, Aarau
Frühere Organe (2)
Meier, Dominik
Gesellschafter · ohne Zeichnungsberechtigung · von Waltenschwil, Aarau
SHAB-Meldungen
2 Meldungen
24.03.2026Änderung · Aargau
Mutation naneos particle solutions GmbH, Windisch
naneos particle solutions GmbH, in Windisch, CHE-184.409.447, Gesellschaft mit beschränkter Haftung (SHAB Nr. 106 vom 04.06.2021, Publ. 1005207323). Eingetragene Personen neu oder mutierend: Meier, Dominik, von Waltenschwil, in Aarau, Gesellschafter, mit Einzelunterschrift, mit einem Stammanteil von CHF 6'700.00 [bisher: Gesellschafter, ohne Zeichnungsberechtigung].
04.06.2021Änderung · Aargau
Mutation naneos particle solutions GmbH, Windisch
naneos particle solutions GmbH, in Windisch, CHE-184.409.447, Gesellschaft mit beschränkter Haftung (SHAB Nr. 11 vom 17.01.2012, S.0, Publ. 6507430). Domizil neu: Alte Spinnerei 9, 5210 Windisch.