Divea SA

Aktiengesellschaft · Sion

Handelsregister

CH-ID
CH62630242189
Rechtsform
Aktiengesellschaft
Sitz
Sion
Adresse
c/o Fondation The Ark, Rue de l'Industrie 23, 1950 Sion, 1950 Sion
Kanton
Wallis
Kapital
CHF 100'000
Status
Aktiv
Eingetragen am
14.05.2024

Zweck

La société vise généralement à élargir l'arbre technologique de l'humanité en développant des produits à valeur ajoutée à la société basés sur des membranes en graphène ou autres. La société a en particulier pour but principal la recherche, le développement, la production et la commercialisation à grande échelle de nanopores dans une couche monatomique de graphène pour la réparation de gaz, en particulier pour capturer le CO2 des émissions industrielles Elle peut effectuer toutes opérations en rapport avec cette activité ainsi que toutes opérations de nature à favoriser le but et l'intérêt de la société. Elle peut créer des succursales en Suisse et à l'étranger, participer à d'autres entreprises en Suisse et à l'étranger, acquérir des entreprises visant des buts analogues, fusionner avec de telles entreprises et conclure tous contrats propres à développer ou à atteindre son but ou s'y rapportant directement ou indirectement. Elle pourra également accorder des prêts à ses actionnaires ou à des tiers, se porter caution ou garantir tout engagement pris par ses actionnaires ou des tiers.

Offizieller Handelsregisterauszug · Eintrag auf Zefix

Quelle: Schweizer Handelsregister (Zefix, SHAB) und das kantonale Handelsregisteramt. · geprüft am 23.09.2026

SHAB-Meldungen

2 Meldungen

  1. 24.02.2025Änderung · Wallis

    Mutation Divea SA, Sion

    Divea SA, à Sion, CHE-380.261.394, société anonyme (No. FOSC 92 du 14.05.2024, Publ. 1006031962). Inscription ou modification de personne(s): Martin, Yves-Loic, ressortissant français, à Kraainem (BE), administrateur, sans droit de signature.

  2. 14.05.2024Neueintragung · Wallis

    Nouvelles entrées Divea SA, Sion

    Divea SA, à Sion, CHE-380.261.394, c/o Fondation The Ark, Rue de l'Industrie 23, 1950 Sion, société anonyme (Nouvelle inscription). Date des statuts: 09.04.2024. But: La société vise généralement à élargir l'arbre technologique de l'humanité en développant des produits à valeur ajoutée à la société basés sur des membranes en graphène ou autres. La société a en particulier pour but principal la recherche, le développement, la production et la commercialisation à grande échelle de nanopores dans une couche monatomique de graphène pour la réparation de gaz, en particulier pour capturer le CO2 des émissions industrielles Elle peut effectuer toutes opérations en rapport avec cette activité ainsi que toutes opérations de nature à favoriser le but et l'intérêt de la société. Elle peut créer des succursales en Suisse et à l'étranger, participer à d'autres entreprises en Suisse et à l'étranger, acquérir des entreprises visant des buts analogues, fusionner avec de telles entreprises et conclure tous contrats propres à développer ou à atteindre son but ou s'y rapportant directement ou indirectement. Elle pourra également accorder des prêts à ses actionnaires ou à des tiers, se porter caution ou garantir tout engagement pris par ses actionnaires ou des tiers. Capital-actions: CHF 100'000.00. Capital-actions libéré: CHF 50'000.00. Actions: 10'000'000 actions nominatives de CHF 0.01 avec restriction de transmissibilité selon statuts. L'assemblée générale a introduit une clause statutaire relative à une augmentation du capital-actions au moyen d'un capital conditionnel, par décision du 09.04.2024; pour les détails, voir les statuts. Organe de publication: FOSC. Communication aux actionnaires: par lettre ou email. Personne(s) inscrite(s): Khalil, Karl, ressortissant libanais, à Sion, président du conseil d'administration, avec signature individuelle; Agrawal, Kumar Varoon, ressortissant indien, à Vevey, administrateur, avec signature collective à deux; Rezaei, Mojtaba, ressortissant iranien, à Aigle, administrateur, avec signature collective à deux. Selon déclaration du 09.04.2024, il est renoncé à un contrôle restreint.

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