OCG Microelectronic Materials, Inc.
West Paterson, NJ
Designs
Possessur d’ina registraziun da design, 0 en vigur.
Da Swissreg, il register da l’Institut federal da la proprietad intellectuala. In design figurescha qua, sch’il num da ses possessur è il num da questa unitad giuridica.
Patents
Verfahren zur Herstellung von teilgeschützten Phenolharzen
EP0718315
Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen durch i-Linien-Bestrahlung
EP0624826
Positiv-Photoresist mit verbesserten Prozesseigenschaften
EP0601974
Hochauflösender I-Linien Photoresist mit höherer Empfindlichkeit
EP0571330
Phenylessigsäureester und ihre Anwendungen
EP0564405
Säurelabile Lösungsinhibitoren und darauf basierende positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Zusammensetzung
EP0475903
DERIVES OLIGOMERES TRINUCLEAIRES SELECTIONNES DE NOVOLAQUE COMME COMPOSES PHOTOACTIFS AINSI QUE LEUR EMPLOI DANS DES MELANGES SENSIBLES AU RAYONNEMENT
EP0451170
Lichtempfindliche 1,2-naphthochinondiazid-4-sulfonsäuremonoester und lichtempfindliche Zusammensetzungen damit
EP0297825
Verfahren zur Herstellung von Filmen und Reliefabbildungen aus Polyimiden
EP0181837
Conteneur pour produits chimiques
EP0126473
Possessur da 10 patents, 0 en vigur.
Da Swissreg, il register da l’Institut federal da la proprietad intellectuala: patents svizzers e patents europeics cun effect en Svizra. In patent figurescha qua, sch’il num da ses possessur è il num da questa unitad giuridica.