Olin Microelectronic Chemicals, Inc.
Norwalk, Connecticut 06856-4500
Patente
Fotolackzusammensetzungen
EP0718317
Durch Belichtung einer Säure erzeugende Zusammensetzung für strahlungsempfindliche Zusammensetzungen
EP0717319
Photoresistmaterial auf Basis von Polystyrolen
EP0568496
VOLLSTÄNDIG SUBSTITUIERTE NOVALAK-POLYMERE ENTHALTENDE STRAHLUNGSEMPFINDLICHE ZUSAMMENSETZUNGEN
EP0490966
Vollständig substituierte Novalak-Polymere enthaltende Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen
EP0701169
Inhaberin von 5 Patenten, 0 in Kraft.
Aus Swissreg, dem Register des Eidgenössischen Instituts für Geistiges Eigentum: Schweizer Patente und europäische Patente mit Wirkung in der Schweiz. Ein Patent steht hier, wenn der Name seiner Inhaberin der Name dieser Rechtseinheit ist.