SOURCE A PLASMA DE RAYONS DIRIGES ET APPLICATION A LA MICROLITHOGRAPHIE

Europäisches Patent · EP1673785 · Gelöscht

Registereintrag

Publikationsnummer
EP1673785
Anmeldenummer
EP04817228
Art
Europäisches Patent mit Wirkung für die Schweiz und Liechtenstein
Status
Gelöscht
Patentschrift
Erteilt
Angemeldet
18.10.2004
Veröffentlicht
28.06.2006
Erteilt
16.05.2007
Gelöscht
31.10.2011
Grund
Jahresgebühr nicht bezahlt
IPC-Klassen
G21K 1/06 (2006.01)
H05G 2/00 (2006.01)
Priorität
FR 0312202 17.10.2003
PCT-Anmeldung
PCT/FR2004/002656 18.10.2004
PCT-Veröffentlichung
WO2005/038822 28.04.2005
Anmeldesprache
Französisch
Quelle
Swissreg

Verlauf

Was das Eidgenössische Institut für Geistiges Eigentum zu diesem Schutztitel veröffentlicht hat, das Neueste zuerst.

  1. 23.05.2012

    Gelöscht, Gebühr nicht bezahlt

    Veröffentlicht in Swissreg am 23.05.2012

  2. 31.03.2008

    Übertragen

    Inhaber/in
    EPPRA, 16, avenue du Québec,, Parc d'Affaires Silic de Villebon Courtaboeuf, 91140 Villebon sur Yvette, Frankreich → NANO-UV, 16, avenue deu Quebec, 91140 VILLEBON SUR YVETTE, Frankreich

    Veröffentlicht im +pat+ Nr. 6 des Jahres 2008

  3. 31.03.2008

    Vertretung eingetragen

    Vertreter/in
    Dr. Joachim Lauer, Patentanwalt, Stapferstrasse 5,, Postfach 2651, 8033 Zürich

    Veröffentlicht im +pat+ Nr. 6 des Jahres 2008

  4. 29.06.2007

    Vertretung eingetragen

    Vertreter/in
    MICHELI & CIE SA, 122, Rue de Genève, Case postale 61, 1226 Thônex

    Veröffentlicht im +pat+ Nr. 12 des Jahres 2007

  5. 15.06.2007

    Erteilt

    Veröffentlicht im +pat+ Nr. 11 des Jahres 2007

Beteiligte

Erfinderin/Erfinder

CHOI, Peter

F-91400 Orsay, FR

Das Register nennt jede Partei mit Namen und Adresse. Eine Inhaberin oder Vertretung wird mit einer Organisation verknüpft, wenn genau eine Rechtseinheit des Handelsregisters ihren Namen trägt; die Strasse einer nicht so erkannten Partei wird hier nicht gezeigt.