2-D MATERIAL GATE-ALL-AROUND KOMPLEMENTÄRE FET INTEGRATION
Europäisches Patent · EP4559293 · In Kraft
Registereintrag
- Publikationsnummer
- EP4559293
- Anmeldenummer
- EP23735484
- Art
- Europäisches Patent mit Wirkung für die Schweiz und Liechtenstein
- Status
- In Kraft
- Patentschrift
- Erteilt
- Angemeldet
- 31.05.2023
- Veröffentlicht
- 28.05.2025
- Erteilt
- 16.07.2025
- Schutz endet spätestens
- 30.05.2043
- Nächste Jahresgebühr fällig
- 31.05.2026
- IPC-Klassen
- H10D 30/47 (2025.01)H10D 30/67 (2025.01)H10D 62/80 (2025.01)H10D 84/01 (2025.01)H10D 84/03 (2025.01)H10D 84/85 (2025.01)
- Priorität
- US 202217818933 10.08.2022
- PCT-Anmeldung
- PCT/US2023/024037 31.05.2023
- PCT-Veröffentlichung
- WO2024/035473 15.02.2024
- Anmeldesprache
- Englisch
- Quelle
- Swissreg
Verlauf
Was das Eidgenössische Institut für Geistiges Eigentum zu diesem Schutztitel veröffentlicht hat, das Neueste zuerst.
- 28.05.2026
Änderung
Veröffentlicht in Swissreg am 28.05.2026
- 16.07.2025
Erteilt
- Schriftstatus
- Unveröffentlichte Patentanmeldung → Erteiltes Patent
- Schutztitelstatus
- Initiiert → Aktiv
Veröffentlicht in Swissreg am 16.07.2025
Beteiligte
Erfinderin/Erfinder
LI, Xia
San Diego, California 92121-1714, US
YANG, Bin
San Diego, California 92121-1714, US
Das Register nennt jede Partei mit Namen und Adresse. Eine Inhaberin oder Vertretung wird mit einer Organisation verknüpft, wenn genau eine Rechtseinheit des Handelsregisters ihren Namen trägt; die Strasse einer nicht so erkannten Partei wird hier nicht gezeigt.