Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Beijing
Patente
HALBLEITERVERARBEITUNGSVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR ÜBERWACHUNG DES WAFERPOSITIONSSTATUS
EP4424887
HALBLEITERPROZESSVORRICHTUNG UND IMPEDANZANPASSUNGSVERFAHREN DAFÜR
EP4411784
SUSZEPTORVORSPANNUNGSEINSTELLUNGSVORRICHTUNG UND -VERFAHREN UND HALBLEITERPROZESSVORRICHTUNG
EP4379088
WAFERREINIGUNGSVORRICHTUNG UND WAFERTRANSFERVORRICHTUNG DAFÜR
EP4365934
HALBLEITERPROZESSVORRICHTUNG UND WAFER-ÜBERTRAGUNGSSYSTEM DAFÜR
EP4365933
GASEINLASSANORDNUNG EINER PROZESSKAMMER, GASEINLASSVORRICHTUNG UND HALBLEITERVERARBEITUNGSAUSRÜSTUNG
EP4283023
MAGNETRON-ZERSTÄUBUNGSVORRICHTUNG
EP4269649
HALBLEITERVERARBEITUNGSVORRICHTUNG, REAKTIONSKAMMER DAFÜR UND VERFAHREN ZUR FILMSCHICHTABSCHEIDUNG
EP4249633
SAMMELANORDNUNG UND HALBLEITERVORREINIGUNGSKAMMER
EP4216257
MANIPULATOR
EP4213192
Weitere Marken (11)
VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM STARTEN EINER PROZESSAUFGABE IN EINER HALBLEITERPROZESSVORRICHTUNG
EP4199039
HEIZVORRICHTUNG UND HALBLEITERVERARBEITUNGSVORRICHTUNG
EP4159890
GRAFIKFOLIE, HALBLEITERZWISCHENPRODUKT UND VERFAHREN ZUM ÄTZEN EINES LOCHS
EP4138125
EPITAXIEVORRICHTUNG UND GASEINLASSSTRUKTUR FÜR EPITAXIEVORRICHTUNG
EP4033011
HALBLEITER-PROZESSVORRICHTUNG
EP4253596
WAFERTRÄGERMECHANISMUS UND HALBLEITERVERARBEITUNGSVORRICHTUNG
EP4234757
REAKTIONSKAMMER
EP4116467
SPUTTERREAKTIONSKAMMER-VERARBEITUNGSKOMPONENTE UND SPUTTERREAKTIONSKAMMER
EP4108802
ELEKTROSTATISCHES FUTTER
EP3852135
STROMVERSORGUNGSMECHANISMUS, ROTIERENDE BASISVORRICHTUNG UND HALBLEITERVERARBEITUNGSVORRICHTUNG
EP3770947
SUBSTRATÄTZVERFAHREN
EP2924000
Inhaberin von 21 Patenten, 14 in Kraft.
Aus Swissreg, dem Register des Eidgenössischen Instituts für Geistiges Eigentum: Schweizer Patente und europäische Patente mit Wirkung in der Schweiz. Ein Patent steht hier, wenn der Name seiner Inhaberin der Name dieser Rechtseinheit ist.