KLA Corporation
Milpitas, California
Brevets
BILDMODELLIERUNGSUNTERSTÜTZTE KONTUREXTRAKTION
EP4426995
UNTERDRÜCKUNG VON LASERGLÜHMUSTERN
EP4337943
BANDBREITENEINSTELLUNG ZUR FERNSTEUERUNG EINES HERSTELLUNGSWERKZEUGS
EP4327541
DEFEKTERKENNUNG FÜR MEHRCHIPMASKEN
EP4327082
SYSTEM UND VERFAHREN ZUR MESSUNG EINES HALBLEITERPROFILS AUF BASIS EINES ABTASTBEDINGUNGSMODELLS
EP4327081
SYSTEME UND VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG MEHRERER ELEKTRONENSTRAHLEN
EP4327350
KALTFELDEMITTERELEKTRONENKANONE MIT SELBSTREINIGENDEM EXTRAKTOR MIT UMGEKEHRTEM ELEKTRONENSTRAHLSTROM
EP4324010
DETEKTIONSUNTERSTÜTZTE ZWEISTUFIGE PHASENABWICKLUNG AUF MUSTERSCHEIBENGEOMETRIEMESSUNG
EP4323719
SYSTEM UND VERFAHREN ZUR Z-PAT-FEHLERGEFÜHRTEN STATISTISCHEN AUSREISSERERKENNUNG VON HALBLEITERZUVERLÄSSIGKEITSFEHLERN
EP4323783
SYSTEM UND VERFAHREN ZUR INTERFEROMETRIE MIT LATERALEM SCHEREN IN EINEM INSPEKTIONSWERKZEUG
EP4285113
Autres marques (37)
DOPPELVAKUUMDICHTUNG
EP4281691
RÜCKBELEUCHTETER SENSOR MIT MITTELS PLASMAATOMSCHICHTABSCHEIDUNG ABGESCHIEDENER BORSCHICHT
EP4278384
VERFAHREN UND SYSTEME FÜR KOMPAKTE WEICHE RÖNTGENSTREUOMETRIE MIT KLEINER PUNKTGRÖSSE
EP4248194
SYSTEM UND VERFAHREN ZUR INSPEKTION UND MESSTECHNIK VON VIER SEITEN VON HALBLEITERBAUELEMENTEN
EP4211714
ERKENNUNG VON NICHTÜBERWACHTEN STRUKTURSYNONYMEN MITTELS BILD-HASHING
EP4200897
VERFAHREN UND SYSTEME ZUR BESTIMMUNG DER QUALITÄT VON HALBLEITERMESSUNGEN
EP4200598
KÜHLMITTELMIKROLECKSENSOR FÜR EIN VAKUUMSYSTEM
EP4182655
KANTENPROFILINSPEKTION FÜR DELAMINATIONSDEFEKTE
EP4285316
GRAUMODUS-ABTASTSTREUMESSUNGS-ÜBERLAGERUNGSMETROLOGIE
EP4154064
AUF TIEFENLERNEN BASIERENDE FEHLERERKENNUNG
EP4222695
INSPEKTION VON VERRAUSCHTEN GEMUSTERTEN MERKMALEN
EP4222483
KORRELATION VON BILDDESIGN ZU WAFER DURCH KOMBINATION VON INFORMATIONEN AUS MEHREREN SAMMELKANÄLEN
EP4150573
BILDGEBUNGSSYSTEM FÜR VERGRABENE METROLOGIEZIELE
EP4115142
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM DREHEN EINES OPTISCHEN OBJEKTIVS
EP4115229
WEICHE RÖNTGENOPTIK MIT VERBESSERTER FILTERUNG
EP4111472
BESTIMMUNG METROLOGIEARTIGER INFORMATIONEN FÜR EINE PROBE UNTER VERWENDUNG EINES PRÜFWERKZEUGS
EP4122007
VERBUNDWERKSTOFF-OVERLAY-METROLOGIEZIEL
EP4078159
PROBENPOSITIONIERUNGSSYSTEM UND -VERFAHREN
EP4200804
KOMBINIERTE BILDGEBUNG VON ÜBERTRAGENEM UND REFLEKTIERTEM LICHT INTERNER RISSE BEI HALBLEITERBAUELEMENTEN
EP3987567
STRONTIUMTETRABORAT ALS OPTISCHES BESCHICHTUNGSMATERIAL
EP3938766
BELEUCHTUNGSQUELLE MIT HOHER HELLIGKEIT FÜR OPTISCHE METROLOGIE
EP3938745
SYSTEME UND VERFAHREN ZUR HOCHAUFLÖSENDEN ÜBERPRÜFUNG ZUR HALBLEITERPRÜFUNG IN BACKEND- UND WAFEREBENENVERPACKUNG
EP4121747
MEHRSCHICHTIGES MOIRÉ-ZIEL
EP3948938
VERBESSERTE SELBSTMORIERTE GITTERKONSTRUKTION ZUR VERWENDUNG IN DER METROLOGIE
EP3938837
VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR STRAHLSTABILISIERUNG UND REFERENZKORREKTUR FÜR EUV-INSPEKTION
EP4090947
MULTI-ELEKTRONENSTRAHL-SYSTEM MIT MIKRO-STIGMATOR-ARRAY
EP4091187
BREITBANDIGE BELEUCHTUNGSABSTIMMUNG
EP4091016
SYSTEM UND VERFAHREN ZUR NEIGUNGSBERECHNUNG BASIEREND AUF ÜBERLAGERUNGSMESSTECHNIK
EP4049009
BREITBAND-LICHTINTERFEROMETRIE ZUR FOKALKARTENERZEUGUNG BEI DER FOTOMASKENKONTROLLE
EP4042144
SYSTEM UND VERFAHREN ZUR ANWENDUNG VON OBERSCHWINGUNGSDETEKTIVITÄT ALS QUALITÄTSINDIKATOR FÜR BILDBASIERTE ÜBERLAGERUNGSMESSUNGEN
EP4025867
VAKUUMAKTUATOREINKAPSELUNG FÜR MOLEKULARE KONTAMINANTEN- UND PARTIKELABSCHWÄCHUNG
EP3987359
SCATTEROMETRIEMODELLIERUNG IN GEGENWART UNERWÜNSCHTER BEUGUNGSORDNUNGEN
EP3891489
BILDRAUSCHVERRINGERUNG UNTER VERWENDUNG EINES GESTAPELTEN ENTRAUSCHENDEN AUTOCODIERERS
EP3891491
FELD-ZU-FELD-KORREKTUREN UNTER VERWENDUNG VON OVERLAY-ZIELEN
EP3899509
HINTERLEUCHTETER SENSOR UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SENSORS
EP3895215
AUF TIEFENLERNEN BASIERENDE ADAPTIVE REGIONEN VON INTERESSE FÜR KRITISCHE DIMENSIONSMESSUNGEN VON HALBLEITERSUBSTRATEN
EP3853885
HOCHAUFLÖSENDE FEHLERÜBERPRÜFUNGSBILDERZEUGUNG DURCH GENERATIVE KONTRADIKTORISCHE NETZWERKE
EP3853592
Titulaire de 47 brevets, 34 en vigueur.
Selon Swissreg, le registre de l’Institut Fédéral de la Propriété Intellectuelle : brevets suisses et brevets européens ayant effet en Suisse. Un brevet figure ici lorsque le nom de son titulaire est celui de cette entité.