TECHMATE
Marque suisse · 435235 · Marque verbale · En vigueur
Inscription au registre
- Numéro d’enregistrement
- 435235
- Numéro de demande
- 02777/1996
- Statut
- En vigueur
- Type
- Marque verbale
- Déposée
- 17 avr. 1996
- Enregistrée
- 20 janv. 1997
- Publiée
- 17 févr. 1997
- Protégée jusqu’au
- 17 avr. 2036
- Langue de la procédure
- français
Produits et services
Caoutchouc, plastiques et isolants
Matériaux d'étanchéité, de garniture et d'isolation
Texte déposé
Dichtungs-, Packungs- und Isoliermaterial.
Matériaux de construction non métalliques
Matériaux de construction non métalliques
Texte déposé
Baumaterialien (nicht aus Metall).
Traduction automatique. Seul le texte déposé fait foi.
Historique
Ce que l’Institut Fédéral de la Propriété Intellectuelle a publié sur ce titre, du plus récent au plus ancien.
- 3 févr. 2026
Prolongé
- Echéance de la protection
- 17.04.2026 → 17.04.2036
Publié dans Swissreg le 03.02.2026
- 19 sept. 2024
Mandataire radié
- Mandataire
- A.W. Metz & Co. AG, Kreuzbühlstrasse 8, 8008 Zürich (supprimé)
Publié dans Swissreg le 19.09.2024
- 19 sept. 2024
Transféré
- Titulaire
- The Dow Chemical Company, A Delaware Corporation, Midland (MI), Etats-Unis d'Amérique → DDP Specialty Electronic Materials US, LLC., 974 Centre Rd, Wilmington, DE 19805, Etats-Unis d'Amérique
- Mandataire
- Bovard AG, Optingenstrasse 16, 3013 Bern
Publié dans Swissreg le 19.09.2024
- 24 févr. 2016
Prolongé
Publié dans Swissreg le 24.02.2016
- 16 avr. 2014
Adresse du mandataire modifiée
- Mandataire
- A.W. Metz & Co. AG, Hottingerstrasse 14, 8024 Zürich → A.W. Metz & Co. AG, Kreuzbühlstrasse 8, 8008 Zürich
Publié dans Swissreg le 16.04.2014
- 3 avr. 2006
Prolongé
Publié dans la FOSC No 65 du 03.04.2006
- 17 févr. 1997
Enregistré
Publié dans la FOSC No 31 du 17.02.1997
Parties
Mandataire
Le registre désigne chaque partie par son nom et son adresse. Une partie est liée à une entité lorsqu’exactement une entité du registre du commerce porte son nom ; la rue d’une partie qui n’est pas ainsi reconnue n’est pas affichée ici.