KLA - Tencor Corporation

Milpitas, California

Marcas

Possessura da 4 marcas, da quellas 1 en vigur.

Da Swissreg, il register da l’Institut federal da la proprietad intellectuala. Il register numna il possessur mo cun num ed adressa; ina marca è enumerada qua, sch’il num da ses possessur è quel da questa unitad.

Patents

Ulteriuras marcas (40)
WAFER-DEFEKTINSPEKTIONS- UND PRÜFSYSTEME

EP3411694

deponida ils 30-01-2017
SYSTEM UND VERFAHREN FÜR HYPERSPEKTRALE BILDGEBUNGSMETROLOGIE

EP3411681

deponida ils 27-01-2017
HYBRIDE INSPEKTOREN

EP3397952

deponida ils 30-12-2016
AUTOMATISIERTE BILDBASIERTE PROZESSÜBERWACHUNG UND STEUERUNG

EP3289607

deponida ils 27-04-2016
UMDREHVORRICHTUNG, -SYSTEM UND -VERFAHREN ZUR VERARBEITUNG VON ARTIKELN

EP3250487

deponida ils 14-01-2016
VERFAHREN FÜR FEHLERERKENNUNG IN WERKSTÜCKEN

EP3164723

deponida ils 04-12-2015
GERÄT UND VERFAHREN ZUR DEFEKTERKENNUNG IN WERKSTÜCKEN

EP3926330

deponida ils 04-12-2015
VORRICHTUNG, VERFAHREN UND COMPUTERPROGRAMMPRODUKT ZUR INSPEKTION VON ZUMINDEST DER SEITENFLÄCHEN VON HALBLEITERBAUELEMENTEN

EP3281219

deponida ils 27-07-2015
AUTOMATISIERTE IN-LINE-INSPEKTION UND METROLOGIE MIT SHADOWGRAM-BILDERN

EP3111468

deponida ils 25-02-2015
MESSUNG MEHRERER STRUKTURIERUNGPARAMETER

EP3709341

deponida ils 23-12-2014
WASSERSTOFF-PASSIVIERUNG NICHTLINEARER OPTISCHER KRISTALLE

EP3957778

deponida ils 05-10-2012
METROLOGIE UND KONTROLLE VON ÜBERLAGERUNGS- UND RANDPLATZIERUNGSFEHLERN

EP3762780

Stritgà
WILLKÜRLICHER WELLENFRONTKOMPENSATOR FÜR OPTISCHES BILDGEBUNGSSYSTEM MIT TIEFEM UV (DUV)

EP3762781

Stritgà
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR ZWEIDIMENSIONALEN NANOINDENTATION

EP3724631

Stritgà
RÖNTGENMETROLOGIESYSTEM MIT BREITBANDIGER LASERERZEUGTER PLASMABELEUCHTUNGSVORRICHTUNG

EP3738181

Stritgà
VERFAHREN ZUM MESSEN VON POSITIONEN VON STRUKTUREN AUF EINEM SUBSTRAT

EP3721471

Stritgà
SYSTEME UND VERFAHREN ZUR VORRICHTUNGSKORRELIERTEN ÜBERLAGERUNGSMETROLOGIE

EP3721294

Stritgà
SCHÄTZUNG VON ASYMMETRISCHEN ABERRATIONEN

EP3853665

Stritgà
VORRICHTUNG ZUR HANDHABUNG VON SUBSTRATEN FÜR EXTREM GEKRÜMMTE WAFER

EP3682468

Stritgà
RUTHENIUM-EINGEKAPSELTER PHOTOKATHODEN-ELEKTRONENEMITTER

EP3695431

Stritgà
INSPEKTIONSGEFÜHRTE AUSWAHL KRITISCHER STELLEN FÜR DIE MESSUNG KRITISCHER ABMESSUNGEN

EP3635774

Stritgà
VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR POLARISIERTEN RETIKELINSPEKTION

EP3635375

Stritgà
KLEINWINKELRÖNTGENSTREUUNGSMETROLOGIESYSTEM FÜR ÜBERTRAGUNG

EP3593124

Stritgà
VERFAHREN UND SYSTEME ZUR MESSUNG VON DICKSCHICHTEN UND STRUKTUREN MIT HOHEM ASPEKTVERHÄLTNIS

EP3563408

Stritgà
AKTIVIERUNG VON WAFERPARTIKELDEFEKTEN ZUR SPEKTROSKOPISCHEN ANALYSE VON ZUSAMMENSETZUNGEN

EP3549160

Stritgà
ÜBERLAGERUNGSSTEUERUNG MIT VORHERSAGE VON OFFSET UNGLEICH NULL

EP3548971

Stritgà
EXTRAKTORELEKTRODE FÜR ELEKTRONENQUELLE

EP3549151

Stritgà
FEHLERKORREKTURMUSTER FÜR TRANSPARENTE FOLIE IN WAFERGEOMETRIESYSTEMEN

EP3549159

Stritgà
RÖNTGEN-ZOOMLINSE FÜR KLEINWINKELIGE RÖNTGENSCATTEROMETRIE

EP3548878

Stritgà
ERZEUGUNG EINES METROLOGIEREZEPTS UNTER VERWENDUNG VORHERGESAGTER METROLOGIEBILDER

EP3549158

Stritgà
GEBONDETE WAFERMETROLOGIE

EP3507826

Stritgà
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM EINSPANNEN GEKRÜMMTER WAFER

EP3507827

Stritgà
VERFAHREN ZU ERKENNUNG VON UNSCHÄRFE

EP3516683

Stritgà
VERBESSERTES VERFAHREN ZUR COMPUTERMODELLIERUNG UND SIMULATION VON NEGATIVTONENTWICKELBAREN PHOTORESISTS

EP3465349

Stritgà
RETIKEL OPTIMIERUNGSALGORITHMEN UND OPTIMALES ZIELDESIGN

EP3639166

Stritgà
SYSTEME UND VERFAHREN MIT EINEM NEURONALEN NETZWERK UND EINEM PHYSISCHEN FORWARD-MODELL FÜR HALBLEITERANWENDUNGEN

EP3465552

Stritgà
ERZEUGUNG SIMULIERTER BILDER AUS EINGEGEBENEN BILDERN FÜR HALBLEITERANWENDUNGEN

EP3465174

Stritgà
SYSTEM ZUR HEMMUNG DER VUV-STRAHLUNGSEMISSION EINER LASERGESTÜTZTEN PLASMAQUELLE

EP3466220

Stritgà
PERMANENTMAGNETTEILCHENSTRAHLVORRICHTUNG UND VERFAHREN MIT EINEM NICHTMAGNETMETALLTEIL ZUR ABSTIMMBARKEIT

EP3443822

Stritgà
CCD-SENSOR MIT ZWEI PARALLELEN SÄULEN UND PRÜFSYSTEME MIT EINEM SENSOR

EP3440832

Stritgà

Possessur da 194 patents, 21 en vigur.

Da Swissreg, il register da l’Institut federal da la proprietad intellectuala: patents svizzers e patents europeics cun effect en Svizra. In patent figurescha qua, sch’il num da ses possessur è il num da questa unitad giuridica.