KLA - Tencor Corporation

Milpitas, California

Trademarks

Holder of 4 trademarks, 1 in force.

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Patents

More trademarks (40)
WAFER-DEFEKTINSPEKTIONS- UND PRÜFSYSTEME

EP3411694

filed Jan 30, 2017
SYSTEM UND VERFAHREN FÜR HYPERSPEKTRALE BILDGEBUNGSMETROLOGIE

EP3411681

filed Jan 27, 2017
HYBRIDE INSPEKTOREN

EP3397952

filed Dec 30, 2016
AUTOMATISIERTE BILDBASIERTE PROZESSÜBERWACHUNG UND STEUERUNG

EP3289607

filed Apr 27, 2016
UMDREHVORRICHTUNG, -SYSTEM UND -VERFAHREN ZUR VERARBEITUNG VON ARTIKELN

EP3250487

filed Jan 14, 2016
VERFAHREN FÜR FEHLERERKENNUNG IN WERKSTÜCKEN

EP3164723

filed Dec 4, 2015
GERÄT UND VERFAHREN ZUR DEFEKTERKENNUNG IN WERKSTÜCKEN

EP3926330

filed Dec 4, 2015
VORRICHTUNG, VERFAHREN UND COMPUTERPROGRAMMPRODUKT ZUR INSPEKTION VON ZUMINDEST DER SEITENFLÄCHEN VON HALBLEITERBAUELEMENTEN

EP3281219

filed Jul 27, 2015
AUTOMATISIERTE IN-LINE-INSPEKTION UND METROLOGIE MIT SHADOWGRAM-BILDERN

EP3111468

filed Feb 25, 2015
MESSUNG MEHRERER STRUKTURIERUNGPARAMETER

EP3709341

filed Dec 23, 2014
WASSERSTOFF-PASSIVIERUNG NICHTLINEARER OPTISCHER KRISTALLE

EP3957778

filed Oct 5, 2012
METROLOGIE UND KONTROLLE VON ÜBERLAGERUNGS- UND RANDPLATZIERUNGSFEHLERN

EP3762780

Deleted
WILLKÜRLICHER WELLENFRONTKOMPENSATOR FÜR OPTISCHES BILDGEBUNGSSYSTEM MIT TIEFEM UV (DUV)

EP3762781

Deleted
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR ZWEIDIMENSIONALEN NANOINDENTATION

EP3724631

Deleted
RÖNTGENMETROLOGIESYSTEM MIT BREITBANDIGER LASERERZEUGTER PLASMABELEUCHTUNGSVORRICHTUNG

EP3738181

Deleted
VERFAHREN ZUM MESSEN VON POSITIONEN VON STRUKTUREN AUF EINEM SUBSTRAT

EP3721471

Deleted
SYSTEME UND VERFAHREN ZUR VORRICHTUNGSKORRELIERTEN ÜBERLAGERUNGSMETROLOGIE

EP3721294

Deleted
SCHÄTZUNG VON ASYMMETRISCHEN ABERRATIONEN

EP3853665

Deleted
VORRICHTUNG ZUR HANDHABUNG VON SUBSTRATEN FÜR EXTREM GEKRÜMMTE WAFER

EP3682468

Deleted
RUTHENIUM-EINGEKAPSELTER PHOTOKATHODEN-ELEKTRONENEMITTER

EP3695431

Deleted
INSPEKTIONSGEFÜHRTE AUSWAHL KRITISCHER STELLEN FÜR DIE MESSUNG KRITISCHER ABMESSUNGEN

EP3635774

Deleted
VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR POLARISIERTEN RETIKELINSPEKTION

EP3635375

Deleted
KLEINWINKELRÖNTGENSTREUUNGSMETROLOGIESYSTEM FÜR ÜBERTRAGUNG

EP3593124

Deleted
VERFAHREN UND SYSTEME ZUR MESSUNG VON DICKSCHICHTEN UND STRUKTUREN MIT HOHEM ASPEKTVERHÄLTNIS

EP3563408

Deleted
AKTIVIERUNG VON WAFERPARTIKELDEFEKTEN ZUR SPEKTROSKOPISCHEN ANALYSE VON ZUSAMMENSETZUNGEN

EP3549160

Deleted
ÜBERLAGERUNGSSTEUERUNG MIT VORHERSAGE VON OFFSET UNGLEICH NULL

EP3548971

Deleted
EXTRAKTORELEKTRODE FÜR ELEKTRONENQUELLE

EP3549151

Deleted
FEHLERKORREKTURMUSTER FÜR TRANSPARENTE FOLIE IN WAFERGEOMETRIESYSTEMEN

EP3549159

Deleted
RÖNTGEN-ZOOMLINSE FÜR KLEINWINKELIGE RÖNTGENSCATTEROMETRIE

EP3548878

Deleted
ERZEUGUNG EINES METROLOGIEREZEPTS UNTER VERWENDUNG VORHERGESAGTER METROLOGIEBILDER

EP3549158

Deleted
GEBONDETE WAFERMETROLOGIE

EP3507826

Deleted
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM EINSPANNEN GEKRÜMMTER WAFER

EP3507827

Deleted
VERFAHREN ZU ERKENNUNG VON UNSCHÄRFE

EP3516683

Deleted
VERBESSERTES VERFAHREN ZUR COMPUTERMODELLIERUNG UND SIMULATION VON NEGATIVTONENTWICKELBAREN PHOTORESISTS

EP3465349

Deleted
RETIKEL OPTIMIERUNGSALGORITHMEN UND OPTIMALES ZIELDESIGN

EP3639166

Deleted
SYSTEME UND VERFAHREN MIT EINEM NEURONALEN NETZWERK UND EINEM PHYSISCHEN FORWARD-MODELL FÜR HALBLEITERANWENDUNGEN

EP3465552

Deleted
ERZEUGUNG SIMULIERTER BILDER AUS EINGEGEBENEN BILDERN FÜR HALBLEITERANWENDUNGEN

EP3465174

Deleted
SYSTEM ZUR HEMMUNG DER VUV-STRAHLUNGSEMISSION EINER LASERGESTÜTZTEN PLASMAQUELLE

EP3466220

Deleted
PERMANENTMAGNETTEILCHENSTRAHLVORRICHTUNG UND VERFAHREN MIT EINEM NICHTMAGNETMETALLTEIL ZUR ABSTIMMBARKEIT

EP3443822

Deleted
CCD-SENSOR MIT ZWEI PARALLELEN SÄULEN UND PRÜFSYSTEME MIT EINEM SENSOR

EP3440832

Deleted

Holder of 194 patents, 21 in force.

From Swissreg, the register of the Federal Institute of Intellectual Property: Swiss patents and European patents with effect in Switzerland. A patent is listed here when its holder’s name is this entity’s.