KLA - Tencor Corporation

Milpitas, California

Marken

Inhaberin von 4 Marken, davon 1 in Kraft.

Aus Swissreg, dem Register des Eidgenössischen Instituts für Geistiges Eigentum. Das Register nennt Inhaber nur mit Name und Adresse; eine Marke steht hier, wenn der Name ihres Inhabers jener dieser Einheit ist.

Patente

Weitere Marken (40)
WAFER-DEFEKTINSPEKTIONS- UND PRÜFSYSTEME

EP3411694

hinterlegt am 30.01.2017
SYSTEM UND VERFAHREN FÜR HYPERSPEKTRALE BILDGEBUNGSMETROLOGIE

EP3411681

hinterlegt am 27.01.2017
HYBRIDE INSPEKTOREN

EP3397952

hinterlegt am 30.12.2016
AUTOMATISIERTE BILDBASIERTE PROZESSÜBERWACHUNG UND STEUERUNG

EP3289607

hinterlegt am 27.04.2016
UMDREHVORRICHTUNG, -SYSTEM UND -VERFAHREN ZUR VERARBEITUNG VON ARTIKELN

EP3250487

hinterlegt am 14.01.2016
VERFAHREN FÜR FEHLERERKENNUNG IN WERKSTÜCKEN

EP3164723

hinterlegt am 04.12.2015
GERÄT UND VERFAHREN ZUR DEFEKTERKENNUNG IN WERKSTÜCKEN

EP3926330

hinterlegt am 04.12.2015
VORRICHTUNG, VERFAHREN UND COMPUTERPROGRAMMPRODUKT ZUR INSPEKTION VON ZUMINDEST DER SEITENFLÄCHEN VON HALBLEITERBAUELEMENTEN

EP3281219

hinterlegt am 27.07.2015
AUTOMATISIERTE IN-LINE-INSPEKTION UND METROLOGIE MIT SHADOWGRAM-BILDERN

EP3111468

hinterlegt am 25.02.2015
MESSUNG MEHRERER STRUKTURIERUNGPARAMETER

EP3709341

hinterlegt am 23.12.2014
WASSERSTOFF-PASSIVIERUNG NICHTLINEARER OPTISCHER KRISTALLE

EP3957778

hinterlegt am 05.10.2012
METROLOGIE UND KONTROLLE VON ÜBERLAGERUNGS- UND RANDPLATZIERUNGSFEHLERN

EP3762780

Gelöscht
WILLKÜRLICHER WELLENFRONTKOMPENSATOR FÜR OPTISCHES BILDGEBUNGSSYSTEM MIT TIEFEM UV (DUV)

EP3762781

Gelöscht
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR ZWEIDIMENSIONALEN NANOINDENTATION

EP3724631

Gelöscht
RÖNTGENMETROLOGIESYSTEM MIT BREITBANDIGER LASERERZEUGTER PLASMABELEUCHTUNGSVORRICHTUNG

EP3738181

Gelöscht
VERFAHREN ZUM MESSEN VON POSITIONEN VON STRUKTUREN AUF EINEM SUBSTRAT

EP3721471

Gelöscht
SYSTEME UND VERFAHREN ZUR VORRICHTUNGSKORRELIERTEN ÜBERLAGERUNGSMETROLOGIE

EP3721294

Gelöscht
SCHÄTZUNG VON ASYMMETRISCHEN ABERRATIONEN

EP3853665

Gelöscht
VORRICHTUNG ZUR HANDHABUNG VON SUBSTRATEN FÜR EXTREM GEKRÜMMTE WAFER

EP3682468

Gelöscht
RUTHENIUM-EINGEKAPSELTER PHOTOKATHODEN-ELEKTRONENEMITTER

EP3695431

Gelöscht
INSPEKTIONSGEFÜHRTE AUSWAHL KRITISCHER STELLEN FÜR DIE MESSUNG KRITISCHER ABMESSUNGEN

EP3635774

Gelöscht
VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR POLARISIERTEN RETIKELINSPEKTION

EP3635375

Gelöscht
KLEINWINKELRÖNTGENSTREUUNGSMETROLOGIESYSTEM FÜR ÜBERTRAGUNG

EP3593124

Gelöscht
VERFAHREN UND SYSTEME ZUR MESSUNG VON DICKSCHICHTEN UND STRUKTUREN MIT HOHEM ASPEKTVERHÄLTNIS

EP3563408

Gelöscht
AKTIVIERUNG VON WAFERPARTIKELDEFEKTEN ZUR SPEKTROSKOPISCHEN ANALYSE VON ZUSAMMENSETZUNGEN

EP3549160

Gelöscht
ÜBERLAGERUNGSSTEUERUNG MIT VORHERSAGE VON OFFSET UNGLEICH NULL

EP3548971

Gelöscht
EXTRAKTORELEKTRODE FÜR ELEKTRONENQUELLE

EP3549151

Gelöscht
FEHLERKORREKTURMUSTER FÜR TRANSPARENTE FOLIE IN WAFERGEOMETRIESYSTEMEN

EP3549159

Gelöscht
RÖNTGEN-ZOOMLINSE FÜR KLEINWINKELIGE RÖNTGENSCATTEROMETRIE

EP3548878

Gelöscht
ERZEUGUNG EINES METROLOGIEREZEPTS UNTER VERWENDUNG VORHERGESAGTER METROLOGIEBILDER

EP3549158

Gelöscht
GEBONDETE WAFERMETROLOGIE

EP3507826

Gelöscht
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM EINSPANNEN GEKRÜMMTER WAFER

EP3507827

Gelöscht
VERFAHREN ZU ERKENNUNG VON UNSCHÄRFE

EP3516683

Gelöscht
VERBESSERTES VERFAHREN ZUR COMPUTERMODELLIERUNG UND SIMULATION VON NEGATIVTONENTWICKELBAREN PHOTORESISTS

EP3465349

Gelöscht
RETIKEL OPTIMIERUNGSALGORITHMEN UND OPTIMALES ZIELDESIGN

EP3639166

Gelöscht
SYSTEME UND VERFAHREN MIT EINEM NEURONALEN NETZWERK UND EINEM PHYSISCHEN FORWARD-MODELL FÜR HALBLEITERANWENDUNGEN

EP3465552

Gelöscht
ERZEUGUNG SIMULIERTER BILDER AUS EINGEGEBENEN BILDERN FÜR HALBLEITERANWENDUNGEN

EP3465174

Gelöscht
SYSTEM ZUR HEMMUNG DER VUV-STRAHLUNGSEMISSION EINER LASERGESTÜTZTEN PLASMAQUELLE

EP3466220

Gelöscht
PERMANENTMAGNETTEILCHENSTRAHLVORRICHTUNG UND VERFAHREN MIT EINEM NICHTMAGNETMETALLTEIL ZUR ABSTIMMBARKEIT

EP3443822

Gelöscht
CCD-SENSOR MIT ZWEI PARALLELEN SÄULEN UND PRÜFSYSTEME MIT EINEM SENSOR

EP3440832

Gelöscht

Inhaberin von 194 Patenten, 21 in Kraft.

Aus Swissreg, dem Register des Eidgenössischen Instituts für Geistiges Eigentum: Schweizer Patente und europäische Patente mit Wirkung in der Schweiz. Ein Patent steht hier, wenn der Name seiner Inhaberin der Name dieser Rechtseinheit ist.